JP5420015B2 - 硫化物蛍光体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(1)青色を発光する発光素子と、発光素子の青色の発光を受けて緑色光を発光する蛍光体、及び赤色光を発光する蛍光体を用いた白色発光素子(例えば、特許文献1参照。)、
(2)紫外線を発光する発光素子と、この発光素子の紫外線の発光を受けて青色光を発光する蛍光体、緑色光を発光する蛍光体、及び赤色光を発光する蛍光体を用いた白色発光素子、の開発が進められている。
1.硫化物蛍光体
1−1.硫化物蛍光体の組成及び効果
1−2.硫化物蛍光体の構造解析
2.硫化物蛍光体の製造方法
2−1.製造方法の概要
2−2.液相法による酸化物前駆体を経由した硫化物蛍光体の製造方法
3.実施例
3−1.蛍光体の作製
3−2.蛍光体の性能評価
3−3.蛍光体のX線回折測定
<1−1.硫化物蛍光体の組成及び効果>
本実施の形態に係る硫化物蛍光体は、一般式(1):Sr(Ga1−xEux)yS1.5y+1で表され、式中のx、yが、0.008<x<0.025、11.5<y<12.5を満たすものである。
図1に、後述する実施例において作製した蛍光体についてのX線回折パターンと、ICSD(無機結晶構造データベース)を用いてシュミレーションしたSrGa2S4、EuGa2S4、及びGa2S3についてのX線回折パターンを示す。図1において、実施例2にて作製したSrGa12S19:Eu2%で示される蛍光体が、上記一般式(1)で表される蛍光体の一例である。
次に、上述した硫化物蛍光体の製造方法について説明する。
一般に、ガリウムのようなイオン半径の小さな原子位置を、ユーロピウムのようなイオン半径の大きな元素で置換することは難しい。また、Ga2O3ではGaサイトを置換したEuとGa空孔とが複合欠陥を構成すると言われている。
本実施の形態に係る硫化物蛍光体の製造方法は、一般式:Sr(Ga1−xEux)yS1.5y+1で表され、式中xが0.008<x<0.025であり、yが11.5<y<12.5である硫化物蛍光体の製造方法である。
ゲル体作製工程では、上記一般式に示される所定の組成となるように、原料の硝酸ガリウム(Ga)とユーロピウム(Eu)化合物とを混合して得られた混合液に、炭酸ストロンチウムを秤量して混合する。そして、その混合液にオキシカルボン酸及びアルコールを添加して、所定の温度で加熱してゲル化させることによってゲル体を作製する。
中間体作製工程では、ゲル体作製工程で得られたゲル体に対して熱処理を施してゲル体を熱分解するとともに、続いて大気雰囲気中で所定の温度条件で酸化焼成処理することによって酸化物前駆体の中間体を作製する。
仮焼成工程では、中間体作製工程で得られた酸化物前駆体の中間体を大気雰囲気中で仮焼成することによって、完全に酸化物とし、アルカリ土類金属であるSrの酸化物とEuを含んだ酸化ガリウム(Ga2O3)との複合酸化物(SrGayO1.5y−1)からなる酸化物前駆体を作製する。
還元焼成工程では、仮焼成工程で得られた酸化物前駆体を、所定の温度条件のもとに還元硫化処理して焼成する。この還元硫化処理により、酸化物前駆体が還元硫化されて母体結晶が形成されるとともに、その母体結晶のSrサイトにEuがドープされ、Euが均一に分散した硫化物蛍光体を得ることができる。
以下に、本発明について実施例を用いてより詳しく説明する。なお、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
(ゲル体作製工程)
金属ガリウム(Ga)をGaのモル数の7倍の硝酸溶液に入れ、硝酸が揮発しないよう容器には蓋をして80℃のホットプレート上で1日攪拌して溶解させた。反応ではNOxが発生するので蓋には開口部を設けた。金属ガリウムを溶解させた後、130℃のホットプレート上で余分な硝酸を蒸発除去し、水を加えて1M/Lに定溶した。
次に、得られたゲル体を180℃に設定したマントルヒーターで1時間加熱し、450℃に設定温度を上げて2時間熱処理を施してゲル体中の有機物を分解させた。さらに、熱処理後の熱処理物をボックス炉に投入し、大気雰囲気中、550℃の温度条件で2時間の酸化焼成処理を行って、酸化物前駆体の中間体を作製した。
引き続いて、ボックス炉内に得られた酸化物前駆体の中間体に対して、大気雰囲気中、750℃の温度条件で2時間焼成して酸化物前駆体を作製した。
次に、得られた酸化物前駆体をグラファイト製の容器に入れて管状炉内に設置し、二硫化炭素35体積%にアルゴン(Ar)ガス65体積%を混合させた混合ガス雰囲気中で、900℃の温度条件で1時間に亘って還元硫化処理することによって、組成式がSr(Ga0.99Eu0.01)12S19である硫化物蛍光体(チオガレート蛍光体)を作製した。
ゲル体作製工程において、原料の硝酸ガリウムと硝酸ユーロピウムの混合液を作製する際のGa:Euの比率を金属モル比で98:2にしたこと以外は、実施例1と同様の方法で、組成式がSr(Ga0.98Eu0.02)12S19である硫化物蛍光体を作製した。
還元焼成工程の還元硫化処理における温度条件を915℃にしたこと以外は、実施例2と同様の方法で、硫化物蛍光体を作製した。
還元焼成工程の還元硫化処理における温度条件を880℃にしたこと以外は、実施例2と同様の方法で、硫化物蛍光体を作製した。
ゲル体作製工程において、原料の硝酸ガリウムと硝酸ユーロピウムの混合液を作製する際のGa:Euの比率を金属モル比で99.5:0.5にしたこと以外は、実施例1と同様の方法で、組成式がSr(Ga0.995Eu0.005)12S19である硫化物蛍光体を作製した。
ゲル体作製工程において、原料の硝酸ガリウムと硝酸ユーロピウムの混合液を作製する際のGa:Euの比率を金属モル比で97:3にしたこと以外は、実施例1と同様の方法で、組成式がSr(Ga0.97Eu0.03)12S19である硫化物蛍光体を作製した。
ゲル体作製工程において、原料の硝酸ガリウムと硝酸ユーロピウムの混合液を作製する際のGa:Euの比率を金属モル比で90:10にしたこと以外は、実施例1と同様の方法で、組成式がSr(Ga0.90Eu0.10)12S19である硫化物蛍光体を作製した。
ゲル体作製工程において、原料の硝酸ガリウムと硝酸ユーロピウムの混合液に炭酸ストロンチウムを加える際のSr:Gaの比率を金属モル比で1:10(比較例4)、1:11(比較例5)、1:13(比較例6)にしたこと以外は、実施例1と同様の方法で、それぞれの組成式が、Sr(Ga0.99Eu0.01)10S19(比較例4)、Sr(Ga0.99Eu0.01)11S19(比較例5)、Sr(Ga0.99Eu0.01)13S19(比較例6)である硫化物蛍光体を作製した。
ゲル体作製工程において、原料の硝酸ガリウムと硝酸ユーロピウムの混合液に、炭酸ストロンチウムを加えずに作製したこと以外は、実施例1と同様の方法で、組成式がGa2S3:Euである硫化物蛍光体を作製した。
ゲル体作製工程において、原料の硝酸ガリウムと硝酸ユーロピウムの混合液を作製する際のGa:Euの比率を金属モル比で90:10にしたこと以外は、比較例7と同様の方法で、組成式がGa2S3:Euである硫化物蛍光体を作製した。
還元焼成工程の還元硫化処理の温度条件を800℃にしたこと以外は、実施例2と同様の方法で、硫化物蛍光体を作製した。
還元焼成工程の還元硫化処理の温度条件を950℃にしたこと以外は、実施例2と同様の方法で、硫化物蛍光体を作製した。
市販されている緑色硫化物蛍光体として、Phosphor technology社製のSrGa2S4:Euを従来例として、下記の蛍光特性を測定した。
(蛍光特性の測定及び測定結果)
上述した各実施例及び比較例にて作製した蛍光体について、蛍光分光光度計(FP−6500、日本分光株式会社製)を用いて励起、発光スペクトルの測定を行い、蛍光特性を測定した。蛍光測定にて得られたスペクトルは、市販のY3Al5O12:Ce3+(YAG:Ce,化成オプトニクス株式会社製P46)のピーク強度を1として規格化することによって比較した。
表1〜表3、図2、図3に示す結果から分かるように、実施例1及び実施例2の蛍光体では、そのピーク波長が530nm〜550nmの緑色発光波長領域に入っており緑色の発光を示すことが分かる。また、その発光スペクトルの半値幅も46nmであり、従来例の緑色硫化物蛍光体(市販品)の半値幅53nmと比較して非常に狭くシャープな発光スペクトルであることが分かる。
次に、実施例2、比較例3,7,8のそれぞれにおいて作製した蛍光体について、X線回折測定を行ってX線回折パターンを得た。また、ICSD(無機結晶構造データベース)を用いて、SrGa2S4、EuGa2S4、及びGa2S3についてのX線回折パターンをシュミレーションした。図1に、それぞれのX線化回折パターンを示す。
Claims (5)
- 一般式:Sr(Ga1−xEux)yS1.5y+1で表され、式中のx、yは、0.008<x<0.025、11.5<y<12.5を満たすことを特徴とする硫化物蛍光体。
- 複数の結晶相から形成されてなることを特徴とする請求項1に記載の硫化物蛍光体。
- 一般式:Sr(Ga1−xEux)yS1.5y+1で表され、式中xが0.008<x<0.025であり、yが11.5<y<12.5である硫化物蛍光体の製造方法であって、
所定の組成となるように硝酸ガリウムとユーロピウム化合物とを混合して得られた混合液に、炭酸ストロンチウムを秤量して混合し、オキシカルボン酸及びアルコールを添加してゲル化させゲル体を得るゲル体作製工程と、
上記ゲル体を400℃〜500℃の温度条件で熱処理し、その後大気雰囲気で550℃〜600℃の温度条件で酸化焼成処理して酸化物前駆体の中間体を得る中間体作製工程と、
上記中間体を大気雰囲気で700℃〜1300℃の温度条件で仮焼成して酸化物前駆体を得る仮焼成工程と、
上記仮焼成工程で得られた酸化物前駆体を、850℃〜930℃の温度条件で還元硫化処理して焼成する還元焼成工程と
を有することを特徴とする硫化物蛍光体の製造方法。 - 上記焼成工程では、二硫化炭素を含んだ不活性ガス雰囲気下で還元硫化処理することを特徴とする請求項3記載の硫化物蛍光体の製造方法。
- 上記仮焼成工程は、
上記中間体を、大気雰囲気で700℃〜800℃の温度条件で焼成する第1の仮焼成工程と、
上記第1の仮焼成工程を経て得られた酸化物を、大気雰囲気で1000℃〜1300℃の温度条件で焼成する第2の仮焼成工程と
を有することを特徴とする請求項3又は4に記載の硫化物蛍光体の製造方法。
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