JP5403853B2 - 高透過率合成シリカガラスおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
(i) 高純度シリカスート粒子を提供し、
(ii) スート粒子から、0.2から1.6g/cm3の嵩密度を有する多孔質プリフォームを形成し、
(iii) 多孔質プリフォームを必要に応じて浄化し、
(iv) H2OおよびO2に対して不活性である固結雰囲気に曝露される内面を持つ炉内で、H2Oおよび/またはO2の存在下でプリフォームを緻密なシリカに固結させる、
各工程を有してなる方法が提供される。
(A) 回転支持体上にスート粒子を軸方向に堆積させて、スート粒子から形成されたクラッド層を有するシリンダを形成し、
(B) シリンダから支持体を除去して、プリフォームを形成するクラッド層を残す、
各工程を有してなることが好ましい。
(v) 必要に応じて、切断、ロール加工および/または垂下によって、固結ガラスを平面形態にする追加の工程があってもよい。
Tref=4000cm-1などの非吸収波長である参照位置での試料の透過率、
TOH=OH吸収ピーク(シリカについて、約3676cm-1)での試料の透過率、および
t=試料の厚さ(mm)
である。
103 試料
300 実験装置
301 カメラ
303 炉のマッフル
307 スートプリフォーム
Claims (14)
- 0.1から100質量ppmのOH濃度を有し、その軸の少なくとも1つに対して垂直な方向のOH濃度のばらつきが20質量ppm未満である合成ガラス材料を製造する方法であって、
(i) 高純度シリカスート粒子を提供し、
(ii) 前記スート粒子から、0.2から1.6g/cm3の嵩密度を持つ多孔質プリフォームを形成し、
(iii) 必要に応じて、前記多孔質プリフォームを浄化し、
(iv) 前記多孔質プリフォームを、少なくとも1時間に亘り、1150℃と1300℃の間の温度に保持し、さらに
(v) H2OおよびO2に対して不活性な固結雰囲気に露出される内面を有する炉内において、H2Oおよび/またはO2の存在下で、前記プリフォームに、1150〜1450℃で0.4℃/分未満の温度上昇速度を施すことにより、前記プリフォームを緻密なシリカに固結して、該プリフォームから塩素を除去する、
各工程を有してなる方法。 - 工程(ii)において、前記多孔質プリフォームが、0.2mmより長い距離に亘り、いずれか大きい方の、該多孔質プリフォームの全体の嵩密度の10%未満、または0.1g/cm3未満の、固結されるべきガラスの意図する光軸に対して垂直な面で測定された局部スート密度のばらつきを有することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 工程(v)において、前記プリフォームに、1150〜1450℃で、0.2℃/分未満の温度上昇速度を施すことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 工程(v)において、前記プリフォームを、ヘリウムおよび/またはHe/H2Oおよび/またはHe/H2O/O2を有してなる雰囲気中で固結することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 工程(v)において、前記プリフォームを、H2Oを有してなる雰囲気中で固結することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 工程(i)において、前記スートを、塩素を含まないケイ素前駆体材料を用いて提供することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 工程(iii)において、前記スートプリフォームを、塩素を実質的に含まない雰囲気の存在下で浄化することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 請求項1記載の方法により製造された合成シリカガラス材料であって、0.1から100質量ppmのOH濃度を有し、少なくとも1つの軸に対して垂直な方向におけるOH濃度のばらつきが20質量ppm未満であり、193nmでの内部透過率が少なくとも99.65%/cmである合成シリカガラス材料。
- 1×1015から5×1018分子/cm3のH2をさらに含むことを特徴とする請求項8記載の合成シリカガラス材料。
- 50質量ppm未満のClをさらに含むことを特徴とする請求項8記載の合成シリカガラス材料。
- 10ppb未満のアルカリ、アルカリ土類、または遷移金属元素を含むことを特徴とする請求項8記載の合成シリカガラス材料。
- 800〜1200℃の仮想温度を有し、仮想温度のばらつきが50℃未満であることを特徴とする請求項8記載の合成シリカガラス材料。
- 屈折率のばらつきが5ppm未満であることを特徴とする請求項8記載の合成シリカガラス材料。
- 7.5×1016分子/cm3未満の量でO2を含むことを特徴とする請求項8記載の合成シリカガラス材料。
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