JP5328134B2 - 蒸着装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 - Google Patents
蒸着装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 Download PDFInfo
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 49
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 66
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 29
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 27
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 10
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 8
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 103
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 17
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 17
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000009500 colour coating Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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Description
このように、バルブから放出口までのコンダクタンスを等しくすることで、膜厚分布を均一にすることが可能になる。また、分岐する前の流路にバルブを設けることで、蒸着レートの制御が容易となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造における生産性を向上できる。
このように、バルブから放出口までのコンダクタンスを等しくすることで、膜厚分布を均一にすることが可能になる。また、分岐する前の流路にバルブを設けることで、蒸着レートの制御が容易となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造における生産性を向上できる。
このように、バルブから放出口までのコンダクタンスを等しくすることで、膜厚分布を均一にすることが可能になる。また、分岐する前の流路にバルブを設けることで、蒸着レートの制御が容易となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造における生産性を向上できる。
このように、バルブから放出口までのコンダクタンスを等しくすることで、膜厚分布を均一にすることが可能になる。また、分岐する前の流路にバルブを設けることで、蒸着レートの制御が容易となり、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造における生産性を向上できる。
12、22、32、42 バルブ
13 ヒーター
14、24、34、44 坩堝
14a、24a、34a、44a 供給流路
14b、24b、34b、44b 分岐流路
Claims (3)
- 一方向に配列され、成膜材料の蒸気流を噴出するための複数の放出口と、
成膜材料を収容し、加熱して蒸発させる材料収容部と、
前記材料収容部の開口に接続され、前記材料収容部から供給される成膜材料の蒸気流の流量を調整するための流量調整手段を備えた供給流路と、
前記供給流路から前記複数の放出口にそれぞれ分岐し、かつ互いに離間された複数の分岐流路と、
を備える蒸着源と、
前記複数の放出口が配列された前記一方向と交差する方向に、前記成膜材料が成膜される基板を搬送する搬送ローラーと、
前記放出口の近傍に設けられた膜厚モニターと、
を真空チャンバー内に有し、
前記流量調整手段から各放出口までのコンダクタンスが互いに等しくなるように、前記流量調整手段から前記分岐流路を経て前記複数の放出口に至るまでの配管の長さと配管径は設定されており、前記膜厚モニターにて蒸着レートをモニターしながら成膜を行うことを特徴とする蒸着装置。 - 一方向に配列され、成膜材料の蒸気流を噴出するための複数の放出口と、
成膜材料を収容し、加熱して蒸発させる材料収容部と、
前記材料収容部の開口に接続され、前記材料収容部から供給される成膜材料の蒸気流の流量を調整するための流量調整手段を備えた供給流路と、
前記供給流路から複数の放出口にそれぞれ分岐し、互いに長さの異なる複数の分岐流路と、
を備える蒸着源と、
前記複数の放出口が配列された前記一方向と交差する方向に、前記成膜材料が成膜される基板を搬送する搬送ローラーと、
前記放出口の近傍に設けられた膜厚モニターと、
を真空チャンバー内に有し、
前記流量調整手段から各放出口までのコンダクタンスが互いに等しくなるように、前記流量調整手段から前記分岐流路を経て前記複数の放出口に至るまでの配管径は前記分岐流路が長いほど大きく設定されており、前記膜厚モニターにて蒸着レートをモニターしながら成膜を行うことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1または2に記載の蒸着装置を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
真空雰囲気にて基板を前記真空チャンバーへ搬送する工程と、
前記真空チャンバー内で前記基板を搬送しながら有機材料層を成膜する工程と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007282594A JP5328134B2 (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | 蒸着装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007282594A JP5328134B2 (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | 蒸着装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009108375A JP2009108375A (ja) | 2009-05-21 |
JP2009108375A5 JP2009108375A5 (ja) | 2010-12-16 |
JP5328134B2 true JP5328134B2 (ja) | 2013-10-30 |
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ID=40777180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007282594A Expired - Fee Related JP5328134B2 (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | 蒸着装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5328134B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101156441B1 (ko) * | 2010-03-11 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
JP2014005478A (ja) * | 2010-10-08 | 2014-01-16 | Kaneka Corp | 蒸着装置 |
JP5661416B2 (ja) * | 2010-10-15 | 2015-01-28 | キヤノン株式会社 | 蒸着装置 |
JP2012156073A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Konica Minolta Holdings Inc | 真空蒸着装置、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP6106433B2 (ja) * | 2012-12-28 | 2017-03-29 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源装置 |
KR102030683B1 (ko) * | 2017-01-31 | 2019-10-10 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 재료 증착 어레인지먼트, 진공 증착 시스템 및 이를 위한 방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3181501B2 (ja) * | 1995-10-31 | 2001-07-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置および処理方法 |
JP3501930B2 (ja) * | 1997-12-01 | 2004-03-02 | 株式会社ルネサステクノロジ | プラズマ処理方法 |
JP2004214120A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Sony Corp | 有機電界発光素子の製造装置及び製造方法 |
JP2006111926A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
JP4767000B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2011-09-07 | 日立造船株式会社 | 真空蒸着装置 |
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2007
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JP2009108375A (ja) | 2009-05-21 |
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