JP5303649B2 - 半導体用スラリー供給装置及びスラリー供給方法 - Google Patents
半導体用スラリー供給装置及びスラリー供給方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5303649B2 JP5303649B2 JP2011528925A JP2011528925A JP5303649B2 JP 5303649 B2 JP5303649 B2 JP 5303649B2 JP 2011528925 A JP2011528925 A JP 2011528925A JP 2011528925 A JP2011528925 A JP 2011528925A JP 5303649 B2 JP5303649 B2 JP 5303649B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slurry
- filter
- line
- semiconductor
- supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000002002 slurry Substances 0.000 title claims description 125
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 30
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 26
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 19
- 238000011001 backwashing Methods 0.000 claims description 14
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 11
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 2
- GDFCWFBWQUEQIJ-UHFFFAOYSA-N [B].[P] Chemical compound [B].[P] GDFCWFBWQUEQIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B57/00—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
- B24B57/02—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
また、スラリー回収タンク20に収容されたスラリーは配管ライン(供給ラインL 1 、分岐した配管ラインL 2 ,L 2 )を通じて、連結されたポンプ50(又は、他の加圧手段)によって濾過機60,65に供給される。
ここで、スラリーはスラリー供給タンク10からポンプ50を介して直接濾過機60,65に供給されることもできる。
これにより、濾過機60,65の濾過効率を回復させる。以下、このような作用を「逆洗滌」という。
一方、逆洗滌時に注入される空気は浄化された圧縮空気であって、清浄空気(例えば、窒素)を使用することによって、スラリーが物性変化を起こすことを防止することが好ましい。
このとき、前記供給ラインL 1 には供給を遮断するための弁(図面番号なし)がそれぞれ設けられることができる。
これにより、スラリーの濾過工程時に、作動中の濾過機60,65のうち、何れか一つ(例えば、第2濾過機60)にスラリーが詰まって濾過効率が低下されると、圧縮された清浄空気を注入して濾過機(例えば、第2濾過機60)を疎通させて、排出されたスラリー粒子は破砕機40に供給される。
また、このとき、もう一つの濾過機(例えば、第1濾過機65)は正常的に作動させることによって、スラリー濾過工程は中断されることなく持続的に実施されることができる。
すなわち、粒子が所定の基準値より小さなスラリー(活用に適したスラリー)はスラリー貯蔵タンク30に排出され、粒子が基準値より大きなスラリー(活用に適していないスラリー)は分岐回収ラインL 4 ,L 4 を通じてスラリー回収タンク20に回収される。スラリー回収タンク20に回収される際に破砕機40の超音波によって活用可能な小さな粒子に破砕する工程がなされる。
このとき、上記した破砕段階は一般的に1Mhz〜3Mhzの帯域を有する高周波の超音波が適用されることが好ましい。
前記破砕機40を通じて小さな粒子に破砕されたスラリーは供給ラインL 1 と、分岐された配管ラインL 2 ,L 2 を通じて濾過機65,60に再供給され、濾過工程を繰り返して実施する。
このとき、活用可能なスラリー粒子はスラリー貯蔵タンク30に貯蔵される。
すなわち、破砕されたスラリー粒子が活用可能な所定値以下になるまで濾過工程は繰り返されることが好ましい。
Claims (3)
- 半導体素子の製造時に研磨工程でスラリーを供給するための半導体用スラリー供給装置であって、
ポンプの供給ラインから分岐した配管ラインを通じてそれぞれ供給される前記スラリーのうち、所定値以上の粒子を除去するための複数の濾過機と、
空気注入ラインを介して前記濾過機に連結され、注入される圧縮空気によって前記濾過機の逆洗滌を実施する空気注入機と、
分岐回収ラインを通じて前記濾過機に連結され、該分岐回収ラインを通じて濾過されなかったスラリーを貯蔵するスラリー回収タンクと、
前記複数の濾過機とスラリー回収タンクとを結ぶ前記分岐回収ラインに設けられ、濾過されなかったスラリーを活用可能に破砕するための破砕機とを含み、
前記破砕機は破砕したスラリーをスラリー回収タンクに貯蔵し、
スラリー回収タンク内のスラリーは供給ラインおよび分岐した配管ラインを通じて濾過機に再供給し、
前記空気注入機から前記濾過機へ圧縮空気を供給して行う濾過機の逆洗滌と、前記供給ラインおよび分岐した配管ラインを通じて濾過機へスラリーを供給して行うスラリー選別とを交互に行うことを特徴とする半導体用スラリー供給装置。 - 前記破砕機は、高周波帯域の超音波によってスラリーを粉砕することを特徴とする請求項1に記載の半導体用スラリー供給装置。
- 請求項1または2に記載した半導体用スラリー供給装置のスラリー供給方法であって、
空気注入機から濾過機へ圧縮空気を供給して前記濾過機のフィルター部材に付着したスラリーを逆洗滌方式で分離し、
分離した所定値以上の粒子を有するスラリーを破砕機で活用可能に破砕し、
破砕したスラリーをスラリー回収タンクに貯蔵し、
スラリー回収タンク内の活用可能なスラリーは供給ラインおよび分岐した配管ラインを通じて前記濾過機に再供給し、
前記空気注入機から前記濾過機へ圧縮空気を供給して行う濾過機の逆洗滌と、前記供給ラインおよび分岐した配管ラインを通じて濾過機へスラリーを供給して行うスラリー選別とを交互に行うことを特徴とする半導体用スラリー供給方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080093708A KR100985861B1 (ko) | 2008-09-24 | 2008-09-24 | 반도체용 슬러리 공급장치 및 슬러리 공급방법 |
KR10-2008-0093708 | 2008-09-24 | ||
PCT/KR2009/005373 WO2010035998A2 (ko) | 2008-09-24 | 2009-09-22 | 반도체용 슬러리 공급장치 및 슬러리 공급방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012503557A JP2012503557A (ja) | 2012-02-09 |
JP5303649B2 true JP5303649B2 (ja) | 2013-10-02 |
Family
ID=42060252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011528925A Expired - Fee Related JP5303649B2 (ja) | 2008-09-24 | 2009-09-22 | 半導体用スラリー供給装置及びスラリー供給方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110174745A1 (ja) |
JP (1) | JP5303649B2 (ja) |
KR (1) | KR100985861B1 (ja) |
WO (1) | WO2010035998A2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5038378B2 (ja) * | 2009-11-11 | 2012-10-03 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置および薬液供給方法 |
KR101138403B1 (ko) * | 2010-09-02 | 2012-04-26 | 씨앤지하이테크 주식회사 | 배관 막힘 방지 수단이 마련된 반도체용 슬러리 공급장치 |
JP6140051B2 (ja) * | 2013-10-23 | 2017-05-31 | 株式会社荏原製作所 | 研磨方法および研磨装置 |
KR101907830B1 (ko) | 2018-05-15 | 2018-12-07 | 한동권 | 평면형 tv 프레임 측 헤어라인 가공을 위한 헤어라인 형성방법 |
DE102020131637A1 (de) * | 2020-05-22 | 2021-11-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Filtervorrichtung für prozess zur herstellung von halbleitervorrichtungen |
KR102351236B1 (ko) * | 2021-01-28 | 2022-01-14 | 플러스이엔지 주식회사 | 직병렬 모드 변경 가능한 필터 시스템 및 이를 구비한 슬러리 공급 장치 |
Family Cites Families (67)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3865629A (en) * | 1972-11-07 | 1975-02-11 | Joseph Daniel Dankoff | Reclamation of components from grinding swarf |
US4911761A (en) * | 1984-05-21 | 1990-03-27 | Cfm Technologies Research Associates | Process and apparatus for drying surfaces |
US4952317A (en) * | 1989-03-10 | 1990-08-28 | Bradley Culkin | Device and method for filtering a colloidal suspension |
JP3654665B2 (ja) * | 1993-08-16 | 2005-06-02 | 株式会社荏原製作所 | ポリッシング装置における排気及び排液処理装置 |
US5520288A (en) * | 1994-03-21 | 1996-05-28 | Pct, Inc. | Abrasive grit material recovery system |
WO1995035261A1 (fr) * | 1994-06-22 | 1995-12-28 | Noritake Co., Limited | Procede de regeneration des fluides d'usinage et appareil associe |
JP2606156B2 (ja) * | 1994-10-14 | 1997-04-30 | 栗田工業株式会社 | 研磨剤粒子の回収方法 |
US5799643A (en) * | 1995-10-04 | 1998-09-01 | Nippei Toyama Corp | Slurry managing system and slurry managing method for wire saws |
US5578222A (en) * | 1995-12-20 | 1996-11-26 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. | Reclamation of abrasive grain |
JP3199159B2 (ja) * | 1996-01-26 | 2001-08-13 | 信越半導体株式会社 | 油性スラリー廃液の再利用システム |
JP3249373B2 (ja) * | 1996-02-21 | 2002-01-21 | 信越半導体株式会社 | 水溶性スラリー廃液の再利用システム |
US5664990A (en) * | 1996-07-29 | 1997-09-09 | Integrated Process Equipment Corp. | Slurry recycling in CMP apparatus |
JP3341601B2 (ja) * | 1996-10-18 | 2002-11-05 | 日本電気株式会社 | 研磨剤の回収再利用方法および装置 |
US5791970A (en) * | 1997-04-07 | 1998-08-11 | Yueh; William | Slurry recycling system for chemical-mechanical polishing apparatus |
US6113473A (en) * | 1997-04-25 | 2000-09-05 | G.T. Equipment Technologies Inc. | Method and apparatus for improved wire saw slurry |
DE59807250D1 (de) * | 1997-04-28 | 2003-03-27 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur behandlung von abwasser aus einem chemisch-mechanischen polierprozess in der chipfertigung |
US5878918A (en) * | 1997-05-02 | 1999-03-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photoresist supplying system for used in a semiconductor fabrication |
US6379538B1 (en) * | 1997-06-05 | 2002-04-30 | Lucid Treatment Systems, Inc. | Apparatus for separation and recovery of liquid and slurry abrasives used for polishing |
US5928492A (en) * | 1997-06-05 | 1999-07-27 | Lucid Treatment Systems, Inc. | Method and apparatus for recovery of water and slurry abrasives used for chemical and mechanical planarization |
JPH1110540A (ja) * | 1997-06-23 | 1999-01-19 | Speedfam Co Ltd | Cmp装置のスラリリサイクルシステム及びその方法 |
JP3816200B2 (ja) * | 1997-07-18 | 2006-08-30 | 東芝セラミックス株式会社 | 微細粒子を含む液体の処理方法および処理装置 |
US5895315A (en) * | 1997-08-07 | 1999-04-20 | Pinder, Jr.; Harvey Wayne | Recovery device for polishing agent and deionizing water for a polishing machine |
US6241587B1 (en) * | 1998-02-13 | 2001-06-05 | Vlsi Technology, Inc. | System for dislodging by-product agglomerations from a polishing pad of a chemical mechanical polishing machine |
JPH11277434A (ja) * | 1998-03-30 | 1999-10-12 | Speedfam Co Ltd | Cmp装置のスラリリサイクルシステム及びその方法 |
TW369947U (en) * | 1998-04-24 | 1999-09-11 | United Microelectronics Corp | A filter set |
KR100548750B1 (ko) * | 1998-04-30 | 2006-02-06 | 더 비오씨 그룹, 인크. | 슬러리 혼합용 전도율 귀환 제어 시스템 |
US6024829A (en) * | 1998-05-21 | 2000-02-15 | Lucent Technologies Inc. | Method of reducing agglomerate particles in a polishing slurry |
JP2000071172A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-07 | Nec Corp | 化学機械研磨用スラリーの再生装置及び再生方法 |
KR100447987B1 (ko) * | 1998-10-27 | 2004-11-09 | 주식회사 하이닉스반도체 | 화학기계적연마공정용슬러리공급장치 |
US6165048A (en) * | 1998-11-10 | 2000-12-26 | Vlsi Technology, Inc. | Chemical-mechanical-polishing system with continuous filtration |
JP3538042B2 (ja) * | 1998-11-24 | 2004-06-14 | 松下電器産業株式会社 | スラリー供給装置及びスラリー供給方法 |
JP3432161B2 (ja) * | 1998-12-24 | 2003-08-04 | シャープ株式会社 | 研磨液供給装置 |
JP3426149B2 (ja) * | 1998-12-25 | 2003-07-14 | 富士通株式会社 | 半導体製造における研磨廃液再利用方法及び再利用装置 |
JP3708748B2 (ja) * | 1999-04-23 | 2005-10-19 | 松下電器産業株式会社 | 研磨剤の再生装置および研磨剤の再生方法 |
US6746309B2 (en) * | 1999-05-27 | 2004-06-08 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of fabricating a semiconductor device |
JP3316484B2 (ja) * | 1999-05-27 | 2002-08-19 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP3291487B2 (ja) * | 1999-05-27 | 2002-06-10 | 三洋電機株式会社 | 流体の被除去物除去方法 |
US6306008B1 (en) * | 1999-08-31 | 2001-10-23 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for conditioning and monitoring media used for chemical-mechanical planarization |
EP1218082B1 (en) * | 1999-09-17 | 2003-06-04 | Mykrolis Corporation | Process and filter for filtering a slurry |
JP3778747B2 (ja) * | 1999-11-29 | 2006-05-24 | 株式会社荏原製作所 | 砥液供給装置 |
US7247245B1 (en) * | 1999-12-02 | 2007-07-24 | Entegris, Inc. | Filtration cartridge and process for filtering a slurry |
JP4657412B2 (ja) * | 1999-12-10 | 2011-03-23 | エルエスアイ コーポレーション | 半導体ウェハを研磨する装置及び方法 |
US6372111B1 (en) * | 2000-01-18 | 2002-04-16 | David K. Watts | Method and apparatus for reclaiming a metal from a CMP process for use in an electroplating process |
US6362103B1 (en) * | 2000-01-18 | 2002-03-26 | David K. Watts | Method and apparatus for rejuvenating a CMP chemical solution |
US6306020B1 (en) * | 2000-03-10 | 2001-10-23 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Multi-stage slurry system used for grinding and polishing materials |
JP2001287163A (ja) * | 2000-04-06 | 2001-10-16 | Nec Corp | 研磨用スラリー再生装置 |
JP2001300844A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-10-30 | Nec Corp | スラリー供給装置及びその供給方法 |
KR100393204B1 (ko) * | 2000-05-16 | 2003-07-31 | 삼성전자주식회사 | 씨엠피용 슬러리의 공급 방법 및 장치 |
WO2002001618A1 (en) * | 2000-06-27 | 2002-01-03 | Nymtech Co., Ltd. | Slurry recycling system and method for cmp apparatus |
US6558238B1 (en) * | 2000-09-19 | 2003-05-06 | Agere Systems Inc. | Apparatus and method for reclamation of used polishing slurry |
JP4353665B2 (ja) * | 2001-10-31 | 2009-10-28 | 三洋アクアテクノ株式会社 | 濾過装置 |
JP3634792B2 (ja) * | 2001-10-31 | 2005-03-30 | 三洋電機株式会社 | 被除去物の除去方法 |
JP3634791B2 (ja) * | 2001-10-31 | 2005-03-30 | 三洋電機株式会社 | 被除去物の除去方法 |
JP3947398B2 (ja) * | 2001-12-28 | 2007-07-18 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置および薬液供給方法 |
US6732017B2 (en) * | 2002-02-15 | 2004-05-04 | Lam Research Corp. | System and method for point of use delivery, control and mixing chemical and slurry for CMP/cleaning system |
JP3557197B2 (ja) * | 2002-05-17 | 2004-08-25 | 三洋電機株式会社 | コロイド溶液の濾過方法 |
JP3735648B2 (ja) * | 2003-03-14 | 2006-01-18 | 富士通株式会社 | 半導体製造における研磨廃液再利用方法 |
TWI232127B (en) * | 2003-03-26 | 2005-05-11 | Sanyo Electric Co | Water treating apparatus and water treating method using such apparatus |
US20040262209A1 (en) * | 2003-04-25 | 2004-12-30 | Hiroyuki Umezawa | Filtration apparatus |
TWI309579B (en) * | 2003-11-06 | 2009-05-11 | Sanyo Electric Co | Method for preparing coagulant, and method for coagulation treatment of fluid |
JP4368249B2 (ja) * | 2004-06-01 | 2009-11-18 | 三洋電機株式会社 | 処理装置およびそれを用いた被処理水の処理方法 |
KR100636021B1 (ko) * | 2005-02-04 | 2006-10-18 | 삼성전자주식회사 | 사이클론, 이를 갖는 슬러리 분류 장치, 이 장치를 이용한슬러리 공급 시스템 및 방법 |
JP4326489B2 (ja) * | 2005-03-22 | 2009-09-09 | 三洋電機株式会社 | 排水処理装置および排水処理方法 |
JPWO2007097046A1 (ja) * | 2006-02-24 | 2009-07-09 | 株式会社Ihi回転機械 | シリコン粒子の処理方法及び装置 |
JP4709095B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2011-06-22 | 水道機工株式会社 | スラリー固液分離膜ろ過装置の運転方法およびスラリー固液分離膜ろ過装置 |
CN101573298B (zh) * | 2006-12-25 | 2012-11-14 | 日本碍子株式会社 | 废水处理***和废水处理方法 |
US7651384B2 (en) * | 2007-01-09 | 2010-01-26 | Applied Materials, Inc. | Method and system for point of use recycling of ECMP fluids |
-
2008
- 2008-09-24 KR KR1020080093708A patent/KR100985861B1/ko active IP Right Grant
-
2009
- 2009-09-22 JP JP2011528925A patent/JP5303649B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-09-22 WO PCT/KR2009/005373 patent/WO2010035998A2/ko active Application Filing
- 2009-09-22 US US13/120,149 patent/US20110174745A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100985861B1 (ko) | 2010-10-08 |
WO2010035998A2 (ko) | 2010-04-01 |
US20110174745A1 (en) | 2011-07-21 |
KR20100034521A (ko) | 2010-04-01 |
JP2012503557A (ja) | 2012-02-09 |
WO2010035998A3 (ko) | 2010-07-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5303649B2 (ja) | 半導体用スラリー供給装置及びスラリー供給方法 | |
KR100639618B1 (ko) | 반도체 제조에서의 연마 폐수 재이용 방법, 재이용 장치, 및 파쇄 장치 | |
JP5047503B2 (ja) | スラリー分離装置、及びその装置を利用したスラリー供給システム | |
TW544336B (en) | Preparation of high performance silica slurry using a centrifuge | |
JPWO2008020507A1 (ja) | 研磨剤スラリー廃液からの研磨剤回収方法及び装置 | |
KR100859045B1 (ko) | 연마재의 회수장치 | |
JP2001287163A (ja) | 研磨用スラリー再生装置 | |
CN104507639A (zh) | 研磨材料再生方法 | |
CN104552008B (zh) | 研磨方法及研磨装置 | |
JP2008034827A (ja) | 化学的機械研磨材のリサイクル方法及びその装置 | |
JP3735648B2 (ja) | 半導体製造における研磨廃液再利用方法 | |
JP2007073687A (ja) | 半導体ウェハの研磨方法 | |
KR20150030710A (ko) | 연마재 재생 방법 | |
US20030003851A1 (en) | Method and apparatus for recycling slurry | |
KR20070108685A (ko) | 슬러리 재생 장치, 슬러리 분리 장치 및 슬러리 재생 방법 | |
JP5891800B2 (ja) | ガラスの研磨方法 | |
CN109427573B (zh) | 晶片的研磨方法 | |
JP2002137164A (ja) | 加工屑の回収方法 | |
CN209424185U (zh) | 兆声波清洗器 | |
US20080190867A1 (en) | System and method for treating wastewater | |
CN218146119U (zh) | 一种研磨抛光废液过滤设备 | |
KR20060028450A (ko) | 정수장 여과지 여층의 재생방법 | |
JP2001198826A (ja) | 研磨材の回収装置 | |
KR20140064264A (ko) | 폐오일 여과 시스템 클리닝 방법 | |
KR20100040056A (ko) | 웨이퍼의 연마장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130129 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130425 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130507 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130508 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130528 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130624 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |