JP4326489B2 - 排水処理装置および排水処理方法 - Google Patents
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Description
本実施の形態では、フッ素分を含む被処理水(排水)の処理を行う排水処理装置10の構成と、それを用いた排水の処理方法を説明する。図1は排水処理装置10の構成を示す図であり、図2は排水の処理方法を示すフローチャートであり、図3は実験結果を示すグラフである。
式A HF → H++F−
式B Ca2++2F−→CaF2
本実施の形態では、上記した排水処理装置10から得られた処理水から窒素分等を除去する方法を説明する。図4は、窒素分を除去する第4の処理槽11Dの構成を示す図である。
式C NO3 −+H2O+2e−→NO2 −+2OH−
式D NO2 −+5H2O+6e−→NH3(aq)+7OH−
式E NH3(aq)+3(O)→N2↑+3H2O
式F NaCl→Na++Cl−
2Cl−→Cl2+2e−
式G Cl2+H2O→HClO+HCl
式H 2NH4+4HClO→N2↑+4HCl+4H2O
本形態では、第1の実施の形態に於いて、被処理水12に浸漬される濾過膜13として適用可能な濾過機構の詳細を説明する。下記の形態では、自己形成膜を用いた濾過機構を説明するが、本発明には他の形態の濾過装置を適用することも可能である。
11A 第1の処理槽
11B 第2の処理槽
11C 第3の処理槽
11D 第4の処理槽
12 被処理水
13 濾過膜
15A 第1の薬品層
15B 第2の薬品層
15C 貯留槽
16 濾過水
17 フィルタープレス
18 散気装置
19 受入層
20A 電源
20B カソード
20C アノード
Claims (8)
- フッ素分を含む被除去物が混入された被処理水を中和処理する中和手段と、
前記被処理水にカルシウム分を添加してフッ化カルシウムを生成する生成手段と、
前記フッ化カルシウムを含む前記被除去物を前記被処理水から分離する分離手段と、
水が注入されることにより前記フッ化カルシウムを含む前記被除去物に含まれる中和塩である塩化ナトリウムが除去されると共に、前記被除去物を脱水する脱水手段と、
前記脱水手段から発生した前記被処理水を貯留させる受入槽と、を具備し、
前記受入槽に貯留された前記被処理水は、前記分離手段が収納される槽に返送されることを特徴とする排水処理装置。 - フッ素分を含む被除去物が混入された被処理水が収納される第1の槽と、
前記第1の槽に対してアルカリ源を添加して、前記被処理水を中和処理する中和手段と、
中和処理された前記被処理水が収納される第2の槽と、
前記第2の槽に対してカルシウム分を添加して、フッ化カルシウムを生成する生成手段と、
前記フッ化カルシウムを含む前記被処理水が収納される第3の槽と、
前記第3の槽に収納された前記フッ化カルシウムを含む前記被除去物を前記被処理水から分離する分離手段と、
水が注入されることにより前記被除去物に含まれる中和塩である塩化ナトリウムが除去されると共に、前記被除去物を脱水する脱水手段と、
を具備することを特徴とする排水処理装置。 - 前記脱水手段から発生した前記被処理水を貯留させる受入槽を更に具備し、
前記受入槽に貯留された前記被処理水は、前記第3の槽に返送されることを特徴とする請求項2記載の排水処理装置。 - 前記脱水手段はフィルタプレスであり、
前記被除去物が収納された前記フィルタプレスに水を注入して、前記被除去物に含まれる前記中和塩を前記水と一緒に前記フィルタプレスの外部に放出させた後に、前記被除去物が脱水されることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の排水処理装置。 - 前記分離手段は、前記被処理水に浸漬された濾過装置であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の排水処理装置。
- 前記濾過装置の表面に形成された自己形成膜により、前記被処理水を濾過することを特徴とする請求項5記載の排水処理装置。
- 前記自己形成膜は、フッ化カルシウムを含む膜であることを特徴とする請求項6記載の排水処理装置。
- フッ素分を含む被除去物が混入された被処理水を中和処理し、
前記被処理水にカルシウム分を添加してフッ化カルシウムを生成し、
前記フッ化カルシウムを含む前記被除去物を前記被処理水から分離し、
水を前記フッ化カルシウムを含む前記被除去物に注入することにより前記被除去物に含まれる中和塩である塩化ナトリウムを除去すると共に、前記被除去物を脱水し、
前記脱水により発生した処理水を、前記分離を行う槽に返送することを特徴とする排水処理方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3634792B2 (ja) * | 2001-10-31 | 2005-03-30 | 三洋電機株式会社 | 被除去物の除去方法 |
TWI309579B (en) * | 2003-11-06 | 2009-05-11 | Sanyo Electric Co | Method for preparing coagulant, and method for coagulation treatment of fluid |
JP4368249B2 (ja) * | 2004-06-01 | 2009-11-18 | 三洋電機株式会社 | 処理装置およびそれを用いた被処理水の処理方法 |
JP2007095847A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Sanyo Electric Co Ltd | デバイス製造方法およびデバイス製造装置 |
US20090274596A1 (en) * | 2006-02-24 | 2009-11-05 | Ihi Compressor And Machinery Co., Ltd. | Method and apparatus for processing silicon particles |
JP2009072714A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Sanyo Electric Co Ltd | フッ化水素酸処理装置 |
DE102008033529A1 (de) * | 2008-07-17 | 2010-01-21 | Erwin Sander Elektroapparatebau Gmbh | Verfahren zum Klären von in einem Schaumsammelraum eines Abschäumers gesammeltem Schaum sowie eine Vorrichtung dazu |
KR100985861B1 (ko) * | 2008-09-24 | 2010-10-08 | 씨앤지하이테크 주식회사 | 반도체용 슬러리 공급장치 및 슬러리 공급방법 |
JP2010234205A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 廃フッ酸の処理方法 |
JP5896118B2 (ja) * | 2011-12-09 | 2016-03-30 | 株式会社興徳クリーナー | フッ素を含有する排水からフッ化カルシウムの製造方法 |
KR101340161B1 (ko) * | 2011-12-15 | 2013-12-10 | 노바테크 (주) | 고농도 불산 폐수 처리 방법 |
CN103459030B (zh) * | 2012-01-26 | 2017-08-25 | 松下知识产权经营株式会社 | 将水溶液中所含的有机化合物分解的方法 |
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JP5612146B2 (ja) * | 2013-03-08 | 2014-10-22 | 株式会社東芝 | 水処理装置及び水処理方法 |
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Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4414185A (en) * | 1982-08-09 | 1983-11-08 | Chevron Research Company | Process for calcium fluoride production from industrial waste waters |
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JP3157347B2 (ja) | 1993-04-28 | 2001-04-16 | オルガノ株式会社 | フッ素化合物含有排水の処理方法 |
JP4380825B2 (ja) * | 1998-04-27 | 2009-12-09 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | フッ素含有水の処理方法 |
JP3169899B2 (ja) * | 1998-07-15 | 2001-05-28 | 日本電気環境エンジニアリング株式会社 | フッ素含有排水の処理方法とその装置 |
DE60035919T2 (de) | 1999-05-27 | 2008-05-08 | Sanyo Electric Co., Ltd., Moriguchi | Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit Betriebsflüssigkeitsaufbereitung |
JP3316484B2 (ja) | 1999-05-27 | 2002-08-19 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP3769148B2 (ja) * | 1999-07-05 | 2006-04-19 | シャープ株式会社 | 排水処理装置 |
JP3653422B2 (ja) | 1999-08-20 | 2005-05-25 | シャープ株式会社 | 排水処理方法および排水処理装置 |
JP3788145B2 (ja) | 1999-12-01 | 2006-06-21 | 栗田工業株式会社 | 水処理方法及び水処理装置 |
JP2001219177A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-14 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素含有水の処理方法及び処理装置 |
JP4350262B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2009-10-21 | 三井金属鉱業株式会社 | 残渣の処理方法 |
JP2001334265A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-04 | Kubota Corp | フッ素含有排水の処理方法および装置 |
KR100356618B1 (ko) * | 2000-06-02 | 2002-10-19 | 소재춘 | 불소 이온 제거제 및 이를 이용한 불소 함유 폐수의처리방법 |
US6613230B2 (en) * | 2000-07-07 | 2003-09-02 | Ionics, Incorporated | Method for simultaneous removal of arsenic and fluoride from aqueous solutions |
US6454949B1 (en) * | 2000-09-19 | 2002-09-24 | Baffin, Inc. | Highly accelerated process for removing contaminants from liquids |
US6645385B2 (en) * | 2000-09-26 | 2003-11-11 | Ionics, Incorporated | System and method for removal of fluoride from wastewater using single fluoride sensing electrode |
US6652758B2 (en) * | 2000-09-26 | 2003-11-25 | Ionics, Incorporated | Simultaneous ammonia and fluoride treatment for wastewater |
JP5082178B2 (ja) * | 2001-09-06 | 2012-11-28 | 栗田工業株式会社 | フッ素含有水の処理方法 |
JP2003334566A (ja) * | 2002-05-20 | 2003-11-25 | Japan Organo Co Ltd | フッ素含有排水の処理方法およびフッ素含有排水処理装置 |
JP4525014B2 (ja) * | 2002-07-08 | 2010-08-18 | 旭硝子株式会社 | 副生塩の精製方法、副生塩及び融雪剤 |
JP2004249251A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | フッ素含有水の処理方法 |
TWI232127B (en) * | 2003-03-26 | 2005-05-11 | Sanyo Electric Co | Water treating apparatus and water treating method using such apparatus |
US20040262209A1 (en) | 2003-04-25 | 2004-12-30 | Hiroyuki Umezawa | Filtration apparatus |
JP2005132652A (ja) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Morita Kagaku Kogyo Kk | 回収フッ化カルシウムを用いたフッ化水素の製造方法 |
JP2005305273A (ja) | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Kurita Water Ind Ltd | フッ素含有排水の処理方法及び装置 |
JP4546764B2 (ja) * | 2004-05-21 | 2010-09-15 | パナソニック株式会社 | フッ化カルシウムの製造方法および製造装置 |
US7182873B2 (en) * | 2004-07-08 | 2007-02-27 | Powerchip Semiconductor Corp. | Method of fluoride-containing wastewater treatment |
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
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