JP3249373B2 - 水溶性スラリー廃液の再利用システム - Google Patents

水溶性スラリー廃液の再利用システム

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JP3249373B2 JP03356796A JP3356796A JP3249373B2 JP 3249373 B2 JP3249373 B2 JP 3249373B2 JP 03356796 A JP03356796 A JP 03356796A JP 3356796 A JP3356796 A JP 3356796A JP 3249373 B2 JP3249373 B2 JP 3249373B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、脆性材料、例え
ば、半導体インゴット、即ち化合物半導体結晶やシリコ
ン半導体結晶等をワイヤーソー装置を用いて切断する際
に用いられた水溶性スラリー廃液の再利用を可能とした
システムに関する。
【0002】
【関連技術】脆性材料、例えば、化合物半導体結晶やシ
リコン半導体結晶等を切断する手段としてワイヤーソー
装置が知られている。このワイヤーソー装置において
は、図3に示すごとく、互いに同一構成のメインローラ
と呼ばれる3本(又は4本)の樹脂ローラ10A,10
B,10Cがそれらの軸を互いに平行して配置され、該
ローラ10A〜10C表面に一定ピッチで形成されたリ
ング状溝14a,14b,14cにワイヤー12が巻回
されている。駆動モータ16に接続された駆動ローラ1
0Cからの回転をワイヤー12を介して、従動ローラ1
0A,10Bに伝える構造となっている。
【0003】ワイヤー12の始端側は、張力調節機構2
0を介してワイヤー巻取りドラム22に巻回されてい
る。同様に、ワイヤー12の終端側は、張力調節機構3
0を介してワイヤー巻取りドラム32に巻回されてい
る。24及び34はトルクモータである。
【0004】ワーク40は、例えば半導体インゴットで
あり、そのオリエンテーションフラット面が昇降可能な
ワークホルダー42に接着されている。
【0005】このような構成により、駆動ローラ10C
を回転させると、ワイヤー12がその線方向に走行し、
これとともに砥粒を含む加工液がワイヤー12に流し当
てられる。この状態でワーク40を下降させ、ワイヤー
12に接触させると、ラッピング作用によりワーク40
が切断され、多数枚のウェーハが同時に切断形成され
る。
【0006】上記加工液としては、鉱油をベースとした
オイル(油性クーラント)とSiC等の砥粒を混合した
油性スラリーが用いられている。しかし、この種の油性
スラリーを用いると、被切断物の洗浄や油性スラリー廃
液の処理等に不都合があった。
【0007】つまり、油性スラリーを用いて切断された
被切断物を洗浄するために、有機溶剤を使用するのが効
率的であるにも拘わらず、環境問題の観点から有機溶剤
が使用出来ず、さらには、油性スラリー廃液の処理に
は、燃焼と言う形態が取られ、これもCO2 (二酸化炭
素)の発生により地球温暖化等の環境問題の一因に挙げ
られている。
【0008】そこで、こうした環境問題への対応から、
油性クーラントに代替しうるものとして水溶性クーラン
トが開発され、それと砥粒との混合物である水溶性スラ
リーが上記したワイヤーソー装置による半導体インゴッ
ト等の切断に用いられる様になった。
【0009】この新たに開発された水溶性クーラントは
次の理由によりそのコストが高いことが問題であった。
水溶性スラリー中に含有される砥粒の中で実際に切断に
寄与する砥粒の割合はわずかであるから、切断作業終了
後の水溶性スラリー廃液中の砥粒の多くは使用出来る状
態にある。ところが、この水溶性スラリー廃液は、使用
可能な砥粒を含有したまま廃棄されてしまうため、切断
コスト全般のコストへの跳ね返りが大きかった。
【0010】さらに、水溶性スラリー廃液は、活性汚泥
法による排水処理施設において通常処理されるが、当該
処理施設への負荷が大きい。そのため、水溶性スラリー
廃液の全てを当該排水処理施設へ送ることが出来ないと
いう問題もあった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した従
来技術の問題点を解決するためになされたもので、水溶
性スラリー廃液を有効に再利用することにより、排水処
理施設への負荷軽減によるコストの低減、さらには砥粒
及び水溶性クーラントの再利用により切断コスト全般の
低減に寄与できるようにした水溶性スラリー廃液の再利
用システムを提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の水溶性スラリー廃液の再利用システムは、
(a)水を希釈液として、水溶性スラリー廃液に添加す
ることにより、水溶性スラリー廃液の粘度を低下させる
工程と、(b)上記低粘度化した、水溶性スラリー廃液
を有効砥粒と浮遊固体分及び液体分からなる廃液とに分
級する工程と、(c)上記浮遊固体分および液体分から
なる廃液から水溶性クーラント成分を抽出し、該浮遊固
体分を不要スラッジとして廃棄する工程とからなり、分
級した有効砥粒と抽出した水溶性クーラント成分を再利
用することを特徴とする。
【0013】上記分級した有効砥粒と抽出した水溶性ク
ーラント成分を混合して再利用する際に、不足分を新品
砥粒及び新品水溶性クーラントにより補給するのが好適
である。
【0014】上記抽出した水溶性クーラント成分に分散
剤、好ましくは無機分散剤、を添加し粘度調整を行なう
ことによって、再生水溶性クーラントとするのが好まし
い。
【0015】上記(a)工程において、上記水溶性スラ
リー廃液の粘度を30mPa ・s 以下、好ましくは20〜
30mPa ・s 以下に低下させることにより、液体サイク
ロン等による質量差式分級が可能となる。
【0016】該水溶性スラリー廃液の粘度を低下させる
手段としては、希釈液を添加することに加えて、水溶性
スラリー廃液又は希釈水溶性スラリー廃液を40℃以上
に加温することによって行うことができる。この加温の
上限は沸騰温度を越えない範囲とする。
【0017】上記(b)工程を液体サイクロンによって
行うことによって、分級された砥粒には再利用可能な有
効砥粒径を有する有効砥粒のみが含まれる。すなわち、
新品砥粒の粒度分布に再生することができる。再利用可
能な有効砥粒径は使用砥粒番手により異なるが、GC#
600(カーボランダムの600番手)を使用した場合
は、有効砥粒径は8μm以上であり、前述の液体サイク
ロンの分級条件により任意に有効砥粒径を決定すること
ができる。
【0018】上記(c)工程における廃液から液体分の
みを抽出する操作を凝集分離操作によって行うことが好
適である。この凝集分離操作は、(c1)上記浮遊固体
分および液体分からなる廃液に凝集剤を添加する工程
と、(c2)上記凝集剤を添加した廃液から液体分を濃
縮するとともに、凝集フロックを生成させる工程と、
(c3)上記凝集フロックに吸着した浮遊固体分及び濃
縮された液体分からなる廃液を固液分離処理することに
よって、水溶性クーラント成分を抽出し、該浮遊固体分
を不要スラッジとして廃棄する工程から構成するのが好
ましい。
【0019】上記(c2)工程における液体分の凝縮は
蒸留等によって行われる。濃縮過程で液体分の水分率が
低下すると、該凝集剤は凝集フロックを生成し、廃液中
の浮遊固体分を吸着し凝集フロックを成長させる。つい
で該廃液を遠心分離することによって、固体分離を容易
に行うことができる。
【0020】この凝集剤としては有機系凝集剤或いは無
機系凝集剤があるが、有機系に於いては、カチオン系の
ものより、アニオン系のものが効果的で、ポリアミド系
アニオン系有機凝集剤が適正である。
【0021】しかし、本発明が適用される水溶性スラリ
ー廃液に対しては、水溶性クーラントの構成成分である
ベントナイトを用い、好適に凝集効果をつくり出すこと
ができる。ベントナイトは一般的に、砥粒の分散剤とし
て用いられることが知られている。本発明が適用される
水溶性スラリー廃液については液温を60℃以上、水分
率を60%以下とすると、ベントナイトは凝集剤として
作用することが確認されている。また、その添加量は、
ベンナイトの10ppm水溶液の場合に、水溶性スラリ
ー廃液に対して10wt%程度が適当である。更に水分
率を30〜50%としたペースト状のベントナイトを添
加する方法も有り、これは蒸留操作等で液体分の濃縮を
行う際に水分蒸発量を低減させ、電力エネルギー消費の
削減につながる効果がある。
【0022】有機系凝集剤は、無機系凝集剤であるベン
トナイトと同様の凝集効果を発揮することは確認した
が、有機系凝集剤は本発明システムによって抽出される
水溶性クーラント成分の液特性(pH,COD,BOD
等)を変える可能性が有る。そのため、水溶性クーラン
トの構成成分であるベントナイト等の無機系凝集剤を使
用する方が有機系凝集剤に比べて問題がないという有利
さがある。
【0023】
【発明の実施の形態】以下に本発明の一つの実施の形態
を添付図面にもとづいて説明する。図1は本発明の水溶
性スラリー廃液の再利用システムの構成の1例を示す概
略説明図、図2は本発明システムの工程順の1例を示す
フローチャート及び図3は本発明システムの工程順の他
の例を示すフローチャートである。
【0024】図1において、2は水溶性スラリー廃液
で、使用砥粒は、例えば、GC#600が用いられる。
該水溶性スラリー廃液2は、例えば、廃スラリータンク
に貯蔵されている。水溶性クーラントをベースとした水
溶性スラリーは、前述したようなワイヤーソー装置によ
る切断作業時に被加工物を安定に切断するため、砥粒を
分散させ、その要求品質上、その粘度は50〜200mPa・s
とされ、一般に用いられる切削用クーラントの粘度と比
較しても、高い値となるように調整されている。
【0025】この水溶性スラリーをワイヤーソー装置に
よる切断加工に適用すると、被切断物の切り粉がさらに
混入するため、水溶性スラリー廃液の状態では、さらに
高い粘度となっている。そのために、一般に用いられる
液体サイクロンや遠心分離機やフィルターシステム等に
よって、水溶性スラリー廃液をそのまま固液に分離する
ことは不可能である。
【0026】そこで本発明では、水溶性スラリー廃液2
の容量の1/2〜1倍程度の容量の水又は極性溶媒(メ
チルアルコール等)等の希釈液Wを加えて希釈すること
により、水溶性スラリー廃液の粘度を30mPa ・s 以下、
好ましくは20〜30mPa ・s に落とすことにした。即ち、
水溶性スラリー廃液の粘度を低下させる工程(a)(図
1及び図2)がまず実施される。なお、水溶性スラリー
廃液2を低粘度化する手段としては、上記した希釈手段
の他に水溶性スラリー廃液2又は希釈された水溶性スラ
リー廃液を、例えば、40℃以上に加温することによっ
て行なうことができる。
【0027】この低粘度化された水溶性スラリー廃液2
に対しては、液体サイクロンや遠心分離機等による質量
差式の固液分離が可能となる。上述したごとく、低粘度
化を図る為の希釈液には、水又は極性溶媒(メチルアル
コール等)等を用いるが、再度蒸留操作等により濃縮す
る必要がある為、可燃性の問題を考慮し、有機溶剤の使
用を避け、水による希釈とするのが好ましい。
【0028】粘度30mPa ・s 以下と低粘度化された水溶
性スラリー廃液2は、次に有効砥粒PとSS分(SUSPEND
ED SOLID、浮遊固体分) 及び液体分(水溶性クーラント
成分+水)からなる廃液N1とに分級される。即ち、有
効砥粒Pと浮遊固体分及び液体分からなる廃液N1とに
分級する工程(b)(図1及び図2)が次に実施され
る。
【0029】この分級処理においては、サイクロン方式
の分級機4、例えば、液体サイクロンが好適に用いられ
る。液体サイクロンは、上部排出口から所定粒径より小
さい砥粒、例えば、8μm未満の砥粒を懸濁状態で含ん
だ砥粒液が排出され、下部排出口からは所定粒径より大
きい粒子、例えば8μm以上の砥粒を懸濁状態で含んだ
砥粒液が排出される(例えば、特公平7−41535号
公報)。
【0030】この液体サイクロン方式分級機としては、
SRSシステム〔日立造船メタルワークス(株)製〕が
好適である。一般に用いられている遠心分離機による分
離(分級)であると、有効砥粒径未満の微細砥粒等が含
まれて分離(分級)されるので分級された回収砥粒が再
利用に適さない。
【0031】しかし、上記液体サイクロンを用いる分級
操作によれば、分級された回収砥粒には、再利用可能な
有効砥粒径を有する有効砥粒Pのみが含まれ、再利用で
きない有効砥粒径未満の微細砥粒は含まれないという利
点がある。なお、有効砥粒Pは、本発明が適用される水
溶性スラリー廃液の場合、粒径が8μm以上の再利用可
能な砥粒をいう。粒径が8μmに満たない微細砥粒は再
利用に適さないものである。
【0032】上記分級機4により分級されたSS分(浮
遊固体分)及び液体分からなる廃液N1に対して、次に
凝集分離操作及び濃縮操作、遠心分離機による固液分離
操作が行なわれ、水溶性クーラント成分Qが抽出され
る。SS(浮遊固体分)分は廃棄物(不要スラッジ)L
として処理される。即ち、水溶性クーラント成分Q及び
浮遊固体分及び液体分からなる廃液N1から、水溶性ク
ーラント成分Qを抽出し、浮遊固体分を不要スラッジL
として廃棄する工程(c)(図2)がさらに実施され
る。図2に示した工程例においては、次いで、工程
(d)において、回収した有効砥粒Pと抽出したクーラ
ント成分Qの再利用が行われる。
【0033】ところで、上記水溶性クーラント成分Qと
SS分と液体分からなる排液N1は、凝集剤を添加しな
い場合には、一般に用いられている遠心分離機を用い、
例えば、14,000G の高速回転を与えても、完全に分離出
来ない。
【0034】そこで、上記工程(c)としては、図3に
示したように工程(c1)〜(c3)からなるように構
成するのが好ましい。先ず工程(c1)において、この
SS分と液体分で構成される廃液N1に凝集剤Gを添加
して凝集剤添加廃液N2とする。この凝集剤添加廃液N
2に対しては遠心分離機6による分離が可能である。こ
こで添加される凝集剤としては、有機系凝集剤の方が効
率的であるが、有機系凝集剤を用いた場合、廃液のpH
(水素イオン濃度)を調整しなければならない。即ち、
水溶性クーラント廃液の特性を変える可能性がある。本
発明では、水溶性クーラントの構成成分であるベントナ
イトを無機凝集剤として用いることが可能となり、液特
性の変質なしにSS分と液体分を分離することができ
る。
【0035】即ち、本発明が適用される水溶性スラリー
廃液2の液温が60℃以上及びその水分率が60%以下
となると、ベントナイトが凝集剤として作用することが
確認されている。よって、凝集剤添加廃液N2の凝集分
離及び液体分の濃縮は、蒸留法6により、同時に進行す
ることができる。
【0036】次に、工程(c2)において、この凝集剤
添加廃液N2は凝集分離及び液体分の蒸留による濃縮に
より、SS(浮遊固体)分と水溶性クーラント成分Qと
凝集剤Gとから構成される濃縮廃液N3となる。さら
に、工程(c3)において、この濃縮廃液N3に対し
て、遠心分離機8により、効率的に固液分離が実施され
る。凝集分離操作において凝集された凝集フロックの安
定性は液温に依存するところが大で、遠心分離機8に通
液する場合、液温を60℃以上に保つことが必要であ
る。
【0037】この固液分離操作によって水溶性クーラン
ト成分Qと凝集フロックに吸着された浮遊固体分+凝集
剤とに分離される。抽出された水溶性クーラント成分Q
には無機系分散剤Dを添加してその粘度を調整し〔工程
(v)〕、再生水溶性クーラントQ1として再利用する
〔工程(d)〕。固体分として分級された浮遊固体分+
凝集剤は不要スラッジLとして廃棄される。
【0038】液体分を濃縮除去するために蒸留法を用い
る場合には、例えば真空蒸留法を採用するにしても、加
温する必要がある。通常ならば、該液体分に酸化防止剤
を添加し、水溶性クーラント成分の酸化防止を図る必要
が有る。本発明が適用される水溶性スラリー廃液の場
合、酸化防止剤を添加せずに、60〜100℃の条件下
で繰り返し蒸留を試みながら、5回の操作でも、新液状
態の水溶性クーラント成分Qの特性状態に変化が無いこ
とを確認した。酸化防止剤を添加せずに、蒸留が可能で
あることは、本発明が適用される水溶性スラリー廃液の
特性を変えないことにも役だっている。
【0039】なお、上記の説明においては、凝集剤添加
廃液N2に対して蒸留法を適用する例を示したが、この
凝集剤添加廃液N2に対して最初に遠心分離操作を行な
い、液体分(水溶性クーラント成分Q+水)と不要スラ
ッジ(浮遊固体分+凝集剤)に固液分離し、次いで液体
分(水溶性クーラント成分Q+水)に蒸留法を適用して
水を除去し、水溶性クーラント成分Qを抽出することも
できる。
【0040】前記回収された有効砥粒Pとこの抽出再生
された水溶性クーラント成分Q1を混合することによ
り、新品とかわらない性能の水溶性スラリー10を作成
し、これを再利用することができる。即ち、回収した有
効砥粒と抽出した水溶性クーラント成分の再利用〔工程
(d)〕が行なわれる。
【0041】以上の操作により、水溶性スラリー廃液2
は有効砥粒Pと不要スラッジLと水溶性クーラント成分
Qと水に分離される。有効砥粒Pは(必要に応じて新品
砥粒P1と共に)、再度所定の水溶性クーラント成分
(新品水溶性クーラントQ2及び/又は再生水溶性クー
ラント成分Q1)との混合比率をもって混合され〔工程
(e)〕、水溶性スラリーとして再生し、ワイヤーソー
装置による切断加工に提供される。
【0042】一方、抽出水溶性クーラント成分Qには、
凝集沈澱により失なわれた固形成分(無機系分散剤であ
るベントナイト)を添加し、粘度調整をして再生水溶性
クーラントQ1とし、水溶性スラリーの原料として再利
用される。水溶性スラリー廃液に起因する排出物の排水
処理施設での処理量は、本発明のシステムを使用するこ
とにより、最終的に排出されるスラッジのみとなるの
で、従来の水溶性スラリー廃液の場合に比較して1/5
(重量比)に軽減された。
【0043】また、水溶性スラリーをワイヤーソー装置
による切断加工の際の加工液として用いることにより、
有機溶剤を被切断物の洗浄に使用する必要がなくなり、
環境問題の解決の一助として貢献できる。
【0044】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明によれば、水
溶性スラリー廃液を再利用することにより、排水処理施
設への負荷軽減によるコストの低減、さらには砥粒及び
水溶性クーラント成分の再利用により切断コスト全般の
低減に寄与できるという大きな効果が達成される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明システムの構成の1例を示す概略説明図
である。
【図2】本発明システムにおける工程順の1例を示すフ
ローチャートである。
【図3】本発明システムにおける工程順の他の例を示す
フローチャートである。
【図4】ワイヤーソー装置の1例を示す概略説明図であ
る。
【符号の説明】
2 水溶性スラリー廃液 4 分級機 6 蒸留法 8 遠心分離機 10A 従動ローラ 10B 従動ローラ 10C 駆動ローラ 12 ワイヤー 14a,14b,14c リング状溝 16 駆動モータ 20,30 張力調節機構 22,32 ワイヤー巻取りドラム 24,34 トルクモータ 40 ワーク 42 ワークホルダー L 不要スラッジ N1 ,N2 ,N3 廃液 P 有効砥粒 Q 水溶性クーラント成分 W 希釈液
フロントページの続き (72)発明者 外山 公平 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150番地 信越半導体株式会社 半導体 白河研究所内 (72)発明者 木内 悦男 群馬県群馬郡群馬町足門762番地 三益 半導体工業株式会社内 (72)発明者 早川 和男 群馬県群馬郡群馬町足門762番地 三益 半導体工業株式会社内 (72)発明者 鏑木 新吾 東京都墨田区八広2丁目17番10号 大智 化学産業株式会社内 (72)発明者 芦田 昭雄 東京都墨田区八広2丁目17番10号 大智 化学産業株式会社内 (72)発明者 伊藤 多可良 京都府舞鶴市字余部下1180番地 日立造 船メタルワークス株式会社内 (72)発明者 野網 国昭 京都府舞鶴市字余部下1180番地 日立造 船メタルワークス株式会社内 (56)参考文献 特開 平8−39430(JP,A) 特開 昭62−28209(JP,A) 特開 平5−412(JP,A) 特開 平4−315576(JP,A) 特開 平1−316170(JP,A) 実開 平2−19460(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B28D 7/02 B28D 5/04 B24B 27/06 B24B 57/00

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)水を希釈液として、水溶性スラリ
    ー廃液に添加することにより、水溶性スラリー廃液の粘
    度を低下させる工程と、(b)上記低粘度化した、水溶
    性スラリー廃液を有効砥粒と浮遊固体分及び液体分から
    なる廃液とに分級する工程と、(c)上記浮遊固体分お
    よび液体分からなる廃液から水溶性クーラント成分を抽
    出し、該浮遊固体分を不要スラッジとして廃棄する工程
    とからなり、分級した有効砥粒と抽出した水溶性クーラ
    ント成分を再利用することを特徴とする水溶性スラリー
    廃液の再利用システム。
  2. 【請求項2】 上記分級した有効砥粒と上記抽出した水
    溶性クーラント成分を混合して再利用するときに、不足
    分を新品砥粒及び新品水溶性クーラントにより補給する
    ことを特徴とする請求項1記載の水溶性スラリー廃液の
    再利用システム。
  3. 【請求項3】 上記抽出した水溶性クーラント成分に分
    散剤を添加し粘度調整を行うことを特徴とする請求項1
    又は2記載の水溶性スラリー廃液の再利用システム。
  4. 【請求項4】 上記分散剤が無機系分散剤であることを
    特徴とする請求項3記載の水溶性スラリー廃液の再利用
    システム。
  5. 【請求項5】 上記(a)工程で低粘度化した水溶性ス
    ラリー廃液の粘度が30mPa・s 以下であることを特徴
    とする請求項1〜4のいずれか1項記載の水溶性スラリ
    ー廃液の再利用システム。
  6. 【請求項6】 上記(a)工程で低粘度化した水溶性ス
    ラリー廃液の粘度が20〜30mPa・s であることを特
    徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の水溶性スラ
    リー廃液の再利用システム。
  7. 【請求項7】 上記(a)工程を水溶性スラリー廃液又
    は希釈液を添加した希釈水溶性スラリー廃液を40℃以
    上に加温することによって行なうことを特徴とする請求
    項1〜のいずれか1項記載の水溶性スラリー廃液の再
    利用システム。
  8. 【請求項8】 上記(b)工程を液体サイクロンによっ
    て行うことを特徴とする請求項1〜のいずれか1項記
    載の水溶性スラリー廃液の再利用システム。
  9. 【請求項9】 上記(c)工程における廃液から水溶性
    クーラント成分を抽出する操作を凝集分離操作によって
    行うことを特徴とする請求項1〜のいずれか1項記載
    の水溶性スラリー廃液の再利用システム。
  10. 【請求項10】 上記凝集分離操作が、(c1)上記浮
    遊固体分および液体分からなる廃液に凝集剤を添加する
    工程と、(c2)上記凝集剤を添加した廃液から液体分
    を濃縮するとともに、凝集フロックを生成させる工程
    と、(c3)上記凝集フロックに吸着した浮遊固体分及
    び濃縮された液体分からなる廃液を固液分離処理するこ
    とによって、水溶性クーラント成分を抽出し、該浮遊固
    体分を不要スラッジとして廃棄する工程からなることを
    特徴とする請求項記載の水溶性スラリー廃液の再利用
    システム。
  11. 【請求項11】 上記(c3)工程における固液分離処
    理を遠心分離操作によって行なうことを特徴とする請求
    10記載の水溶性スラリー廃液の再利用システム。
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Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3408979B2 (ja) 1997-12-26 2003-05-19 株式会社日平トヤマ スラリ管理システム
US6231628B1 (en) * 1998-01-07 2001-05-15 Memc Electronic Materials, Inc. Method for the separation, regeneration and reuse of an exhausted glycol-based slurry
JP3426149B2 (ja) * 1998-12-25 2003-07-14 富士通株式会社 半導体製造における研磨廃液再利用方法及び再利用装置
JP3389141B2 (ja) * 1999-04-26 2003-03-24 株式会社スーパーシリコン研究所 スライシング用スラリーの評価方法及びスラリー
DE19960380C2 (de) * 1999-12-14 2002-05-29 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Fraktionieren einer Zerspanungssuspension
DE10011513A1 (de) * 2000-03-09 2001-09-20 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Aufbereiten einer gebrauchten Schneidsuspension
US6607670B2 (en) * 2000-04-14 2003-08-19 Framatome Anp. Inc. Process for rapid colloidal suspension removal
JP2001334452A (ja) * 2000-05-30 2001-12-04 Memc Japan Ltd 円柱状ワークの切断方法
EP1561557B1 (en) 2001-05-29 2011-03-30 MEMC ELECTRONIC MATERIALS S.p.A. Method for treating an exhausted glycol-based slurry
US6622745B1 (en) 2002-01-07 2003-09-23 Projex Ims, Inc. Fluid waster diversion system
EP1559469B1 (en) * 2004-01-30 2011-10-12 P.M.P.O. S.R.L. Plant and method for the treatment of the recovery cooling fluid in mechanical processing plants
JP4160930B2 (ja) * 2004-05-19 2008-10-08 シャープ株式会社 ハロシランの製造方法、固形分の精製方法
DE102005007368A1 (de) * 2004-06-16 2006-01-05 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Schmierend wirkende Polymer-Wasser-Mischung
AU2012203361B2 (en) * 2005-06-24 2015-11-26 Sic Processing Ag Process and apparatus for treating exhausted abrasive slurries for the recovery of their reusable components
ITRM20050329A1 (it) * 2005-06-24 2006-12-25 Guido Fragiacomo Procedimento per il trattamento di sospensioni abrasive esauste per il recupero delle loro componenti riciclabili e relativo impianto.
US20090274596A1 (en) * 2006-02-24 2009-11-05 Ihi Compressor And Machinery Co., Ltd. Method and apparatus for processing silicon particles
DE102007033258A1 (de) 2007-07-17 2009-01-22 Schott Ag Verfahren zum Regenerieren verbrauchter Trennmedien zur erneuten Verwendung
DE102007048879A1 (de) 2007-10-11 2009-04-16 Schott Ag Wiederaufbereitung von fluiden Sägeslurries sowie deren Verwendung zur Herstellung von Wafern mit verbesserten Oberflächen
WO2009056152A1 (en) * 2007-10-30 2009-05-07 Pall Corporation Method for treating spent abrasive slurry
EP2205387A1 (en) * 2007-10-30 2010-07-14 Pall Corporation Method and system for manufacturing wafer-like slices from a substrate material
ITRM20070677A1 (it) * 2007-12-27 2009-06-28 Garbo S R L Procedimento per la separazione e il recupero dei sospendenti contenuti nelle sospensioni esauste provenienti dalle lavorazioni meccaniche del silicio.
JP5090191B2 (ja) * 2008-01-24 2012-12-05 三和油化工業株式会社 遊離砥粒スラリー廃液からの分散媒の回収方法
US8425639B2 (en) * 2008-05-30 2013-04-23 Cabot Microelectronics Corporation Wire saw slurry recycling process
KR100985861B1 (ko) * 2008-09-24 2010-10-08 씨앤지하이테크 주식회사 반도체용 슬러리 공급장치 및 슬러리 공급방법
US8277768B2 (en) 2008-11-14 2012-10-02 Texas Instruments Incorporated System and method for production of high purity silicon solids and solids therefrom
TWI378836B (en) * 2008-12-20 2012-12-11 Cabot Microelectronics Corp Wiresaw cutting method
JP2010253621A (ja) * 2009-04-27 2010-11-11 Ihi Compressor & Machinery Co Ltd ワイヤソーのクーラント管理方法及び装置
JP5332914B2 (ja) * 2009-05-29 2013-11-06 信越半導体株式会社 シリコンインゴットの切断方法
DE102009034949A1 (de) * 2009-07-09 2011-01-13 Akw Apparate + Verfahren Gmbh Verfahren zur Aufbereitung einer Suspension
KR101188313B1 (ko) 2010-04-06 2012-10-09 오씨아이 주식회사 태양전지용 웨이퍼 제조시 발생되는 폐슬러지 재생방법 및 재생시스템
JP5640260B2 (ja) * 2010-06-25 2014-12-17 日本碍子株式会社 クーラント回収方法
DE102010025606A1 (de) 2010-06-30 2012-01-05 Schott Solar Ag Verfahren zur Wiederaufbereitung von verbrauchten Sägeflüssigkeiten aus der Herstellung von Siliziumwafern
JP5795728B2 (ja) * 2011-09-26 2015-10-14 信越化学工業株式会社 固体微粒子回収方法
EP2796243B1 (en) * 2011-12-22 2017-05-17 Konica Minolta, Inc. Abrasive material regeneration method and regenerated abrasive material
WO2013099666A1 (ja) * 2011-12-27 2013-07-04 コニカミノルタ株式会社 研磨材分離方法及び再生研磨材
US10112136B2 (en) * 2012-02-03 2018-10-30 Enviro-Fab Llc Fluid lubricant and material shavings recapture system for a cutting operation
JP2013248707A (ja) * 2012-05-31 2013-12-12 Panasonic Corp クーラント廃液の再生方法、クーラント廃液の処理方法、クーラント廃液の処理システム、及び再生クーラント液の製造方法
US9586306B2 (en) 2012-08-13 2017-03-07 Omax Corporation Method and apparatus for monitoring particle laden pneumatic abrasive flow in an abrasive fluid jet cutting system
US20140145309A1 (en) * 2012-11-26 2014-05-29 Memc Singapore, Pte. Ltd (Uen200614797D) Systems For The Recycling of Wire-Saw Cutting Fluid
US20140144846A1 (en) * 2012-11-26 2014-05-29 Memc Singapore, Pte. Ltd (Uen200614797D) Methods For The Recycling of Wire-Saw Cutting Fluid
US9649744B2 (en) 2013-07-30 2017-05-16 Omax Corporation Reducing small colloidal particle concentrations in feed and/or byproduct fluids in the context of waterjet processing
US9011204B2 (en) * 2013-07-30 2015-04-21 Omax Corporation Reducing small colloidal particle concentrations in feed and/or byproduct fluids in the context of waterjet processing
US11577366B2 (en) 2016-12-12 2023-02-14 Omax Corporation Recirculation of wet abrasive material in abrasive waterjet systems and related technology
US11224987B1 (en) 2018-03-09 2022-01-18 Omax Corporation Abrasive-collecting container of a waterjet system and related technology
JP7003897B2 (ja) * 2018-11-16 2022-02-04 株式会社Sumco ウェーハの製造方法、ワイヤーソー用再利用スラリーの品質評価方法、及びワイヤーソー用使用済みスラリーの品質評価方法
CN113427647B (zh) * 2021-07-12 2022-07-22 山东省地质矿产勘查开发局第八地质大队(山东省第八地质矿产勘查院) 一种绿色矿山石料切割废水回收装置及其使用方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3997359A (en) * 1972-11-07 1976-12-14 Joseph Daniel Dankoff Reclamation of components from grinding swarf
US3948784A (en) * 1975-03-24 1976-04-06 Nalco Chemical Company Treatment of industrial grinding and cutting lubricants
US4122008A (en) * 1977-02-10 1978-10-24 Eddy Allen Filtration process for separating particles from liquid coolants in lens grinding devices
GB2017517B (en) * 1978-03-10 1982-06-23 Fiat Ricerche Recovery of the components of grinding sludge
US4409020A (en) * 1983-01-24 1983-10-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior Recovery of metals from grinding sludges
DE3344404A1 (de) * 1983-12-08 1985-07-18 Mannesmann AG, 4000 Düsseldorf Verfahren und vorrichtung zur reinigung von kreislauf-fluessigkeiten
US4751006A (en) * 1987-07-16 1988-06-14 Monlan, Incorporated Coolant reclamation unit
US4872975A (en) * 1989-01-31 1989-10-10 Ingersoll-Rand Company System for separating abrasive material from a fluid used in fluid jet cutting
US5127199A (en) * 1991-01-08 1992-07-07 Progressive Blasting Systems, Inc. Abrasive water jet catch tank media transporting means
JPH0741535B2 (ja) 1991-04-10 1995-05-10 中小企業事業団 ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置
JP2606156B2 (ja) * 1994-10-14 1997-04-30 栗田工業株式会社 研磨剤粒子の回収方法
US5578222A (en) * 1995-12-20 1996-11-26 Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. Reclamation of abrasive grain

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