JP5295855B2 - 反力処理機構 - Google Patents
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- 架台と、前記架台に除振ユニットを介して支持される定盤と、前記定盤上に支持され該定盤上を移動する第1移動体と、前記第1移動体を第1方向に駆動する第1アクチュエータと、を具備するステージ装置に用いられる反力処理機構であって、
前記第1方向の軸方向の変位は吸収せず且つ前記第1方向以外の軸方向の変位を吸収する第1逃げ機構を介して、前記第1アクチュエータの固定子を前記架台に連結固定する第1連結部と、
前記定盤に対する前記第1アクチュエータの固定子の相対移動を、前記第1方向以外の軸方向に規制しつつ前記第1方向にガイドする第1ガイド部と、を備えたことを特徴とする反力処理機構。 - 前記第1逃げ機構は、
前記第1方向(X軸)に直交し且つ互いに直交する直交方向(Y軸、Z軸)の変位を吸収する2つのガイド部と、
前記第1方向及び前記直交方向それぞれの回転方向(θx、θy、θz)の変位を吸収するθ変位吸収部と、を有することを特徴とする請求項1に記載の反力処理機構。 - 前記θ変位吸収部は、
一対のブロック部と、
前記一対のブロック部の間に配置される球体と、
前記一対のブロック部を互いに押さえつけるボルトと、を備え、
前記一対のブロック部のそれぞれに前記2つのガイド部が固定され、
前記一対のブロック部が、前記球体を中心として相対回転することにより、前記回転方向の変位を吸収することを特徴とする請求項2に記載の反力処理機構。 - 前記第1移動体の上にスタックされる第2移動体と、
前記第2移動体を前記第1方向と交差する第2方向に駆動し、前記第1移動体とともに前記第1方向に移動する第2アクチュエータと、
前記第2アクチュエータの固定子を前記第2方向に拘束して前記第1方向の移動をガイドする支持機構と、
前記支持機構を前記定盤に対して前記第1方向に拘束して、前記第2方向の移動をガイドする第2ガイド部と、
前記支持機構を第2逃げ機構を介して前記架台に連結固定する第2連結部と、を備えることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項記載の反力処理機構。 - 架台と、該架台に除振ユニットを介して支持される定盤と、前記定盤上に支持され該定盤上を移動する第1及び第2移動体と、前記第1移動体を第1方向に駆動する第1アクチュエータと、前記第2移動体を前記第1方向と交差する第2方向に駆動する第2アクチュエータと、を具備するステージ装置に用いられる反力処理機構であって、
前記第1方向とは異なる方向の変位を吸収する第1逃げ機構を介して、前記第1アクチュエータの固定子を前記架台に連結固定する第1連結部と、
前記第2方向とは異なる方向の変位を吸収する第2逃げ機構を介して、前記第2アクチュエータの固定子を前記架台に連結固定する第2連結部と、
前記定盤に対する前記第1アクチュエータの固定子の相対移動を、前記第1方向とは異なる方向に規制しつつ前記第1方向にガイドする第1ガイド部と、
前記定盤に対する前記第2アクチュエータの固定子の相対移動を、前記第2方向とは異なる方向に規制しつつ前記第2方向にガイドする第2ガイド部と、を備えたことを特徴とする反力処理機構。 - 前記第2移動体は、前記第1移動体上を移動するものであり、
前記第2アクチュエータの固定子を支持する支持機構をさらに備え、
前記支持機構は、前記第2方向における前記第2アクチュエータの固定子の前記第1移動体に対する相対移動を可能にすると共に、前記第1方向における該固定子と前記第1移動体との同期移動を可能にするよう構成されていることを特徴とする請求項5記載の反力処理機構。 - 前記支持機構は、
前記定盤上に配置されたベース部と、
前記ベース部上に配置され、前記第2アクチュエータの固定子に固定された固定ブロック部と、
前記ベース部に対する前記固定ブロック部の相対移動を、前記第2方向に規制しつつ前記第1方向にガイドする第1支持機構ガイド部と、
前記第1移動体に対する前記固定ブロック部の相対移動を、前記第1方向に規制しつつ前記第2方向にガイドする第2支持機構ガイド部と、を含み、
前記第2連結部は、前記第2逃げ機構を介して前記架台と前記ベース部とを連結固定し、
前記第2ガイド部は、前記定盤と前記ベース部との間に設けられていることを特徴とする請求項6記載の反力処理機構。 - 前記アクチュエータは、シャフトモータであることを特徴とする請求項1〜7の何れか一項記載の反力処理機構。
- 架台と、前記架台に除振ユニットを介して支持される定盤と、前記定盤上に支持され該定盤上を移動する移動体と、前記移動体を第1方向に駆動するアクチュエータと、を具備するステージ装置に用いられる反力処理機構であって、
前記第1方向の軸方向の変位は吸収せず且つ前記第1方向以外の軸方向の変位を吸収する逃げ機構を介して、前記アクチュエータの固定子を前記架台に連結固定する連結部と、
前記定盤に対する前記アクチュエータの固定子の相対移動を、前記第1方向以外の軸方向に規制しつつ前記第1方向に許容する固定子支持部と、を備え、
前記固定子支持部は、前記アクチュエータの固定子が移動しようとする力を、前記第1方向については前記架台に伝達させ、前記第1方向以外の軸方向については前記定盤に伝達させることを特徴とする反力処理機構。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009110013A JP5295855B2 (ja) | 2009-04-28 | 2009-04-28 | 反力処理機構 |
TW099113322A TWI485028B (zh) | 2009-04-28 | 2010-04-27 | Reaction force handling mechanism |
KR1020100038999A KR101162108B1 (ko) | 2009-04-28 | 2010-04-27 | 반력 처리 기구 |
US12/769,441 US20100270476A1 (en) | 2009-04-28 | 2010-04-28 | Reaction force treatment mechanism, xy stage apparatus, inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009110013A JP5295855B2 (ja) | 2009-04-28 | 2009-04-28 | 反力処理機構 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010253663A JP2010253663A (ja) | 2010-11-11 |
JP5295855B2 true JP5295855B2 (ja) | 2013-09-18 |
Family
ID=42991299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009110013A Expired - Fee Related JP5295855B2 (ja) | 2009-04-28 | 2009-04-28 | 反力処理機構 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100270476A1 (ja) |
JP (1) | JP5295855B2 (ja) |
KR (1) | KR101162108B1 (ja) |
TW (1) | TWI485028B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI616269B (zh) * | 2016-08-01 | 2018-03-01 | Reaction force elimination platform device |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8467126B2 (en) * | 2010-05-27 | 2013-06-18 | Valley Precision, Inc. | Stage driver for movable stages |
CN102632491B (zh) * | 2012-05-14 | 2014-02-26 | 青岛同日电机有限公司 | 一种全封闭型三维直驱电机平台装置 |
JP6186210B2 (ja) * | 2013-08-26 | 2017-08-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
JP2015071278A (ja) * | 2013-10-04 | 2015-04-16 | ファナック株式会社 | プラテン調整機構を有する射出成形機の型締装置 |
WO2017115396A1 (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | 株式会社紀和マシナリー | 変位抑制装置とそれを利用した工作機械 |
CN108151648B (zh) * | 2017-12-27 | 2020-04-14 | 苏州乐佰图信息技术有限公司 | 双导轨测量平台及其测量目标坐标的方法 |
KR102211230B1 (ko) * | 2020-01-10 | 2021-02-02 | 이주영 | 자동 용접시스템 |
US20230063899A1 (en) | 2020-02-06 | 2023-03-02 | Nissin Manufacturing Co., Ltd. | Cutting Machining Apparatus |
JP7370920B2 (ja) * | 2020-03-31 | 2023-10-30 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ装置 |
KR20230002804A (ko) * | 2020-05-18 | 2023-01-05 | 무라다기카이가부시끼가이샤 | 공작 기계 시스템 |
CN112198174B (zh) * | 2020-08-25 | 2023-01-13 | 华东师范大学 | 一种透射电子显微镜的装样装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR0129662B1 (ko) * | 1987-10-30 | 1998-04-07 | 고다까 토시오 | 이동 테이블 장치 |
US5760564A (en) * | 1995-06-27 | 1998-06-02 | Nikon Precision Inc. | Dual guide beam stage mechanism with yaw control |
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-
2009
- 2009-04-28 JP JP2009110013A patent/JP5295855B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-04-27 TW TW099113322A patent/TWI485028B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-04-27 KR KR1020100038999A patent/KR101162108B1/ko active IP Right Grant
- 2010-04-28 US US12/769,441 patent/US20100270476A1/en not_active Abandoned
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TWI616269B (zh) * | 2016-08-01 | 2018-03-01 | Reaction force elimination platform device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101162108B1 (ko) | 2012-07-03 |
TWI485028B (zh) | 2015-05-21 |
KR20100118529A (ko) | 2010-11-05 |
TW201111094A (en) | 2011-04-01 |
US20100270476A1 (en) | 2010-10-28 |
JP2010253663A (ja) | 2010-11-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111005 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130322 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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