JP5275859B2 - 電子基板 - Google Patents

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Description

本発明は、発熱量が大きい電子基板に関するものである。
自動車用DC−DCコンバータは、スイッチング用MOS−FET、電圧変換用トランス、整流用ダイオード、平滑化用チョークコイルの4つの部品で構成される方式のものが一般的である。ハイブリッド自動車用のDC−DCコンバータでは、高電圧・大電流によってそれぞれの部品からの発熱が大きくなるため、それぞれがウォータージャケット等の冷却部品で個別に冷却されるように構成されている。すなわち、それぞれが別個に冷却部品に搭載され、各部品間をバスバー等によって電気的に接続する構造となっている(例えば引用文献1)。
上記のような構成では、接続部分におけるネジ締結作業あるいは溶接作業が多くなり、組立工数が増大するのみならず、接続部分の接触抵抗のばらつきに起因した電気的問題を回避するために、回路上にも専用の部品を付加する必要が生じる。このような問題への対策として、電圧変換用トランス及び平滑化用チョークコイルを構成するコイルを、スイッチング用MOS−FET及び整流用ダイオードを搭載する基板の回路パターンで形成することで、これらの部品を一体化することができ、これにより接続箇所を削減することができる。
特開2005−143215号公報
しかしながら、同一基板上にスイッチング用MOS−FET、整流用ダイオード、電圧変換用トランス及び平滑化用チョークコイルを形成して一体化した場合には、各部品間を電気的に接続する配線回路を経由して熱が伝導されやすくなる。同一基板上に上記の各部品を一体化して形成した電子基板の一例を図8に示す。図8は、DC−DCコンバータを構成する従来の電子基板900の断面図である。電子基板900の温度上昇を抑制するために、電子基板900は熱伝導シート102を介して、ウォータージャケット等の冷却部品103に熱的に接続されている。
電圧変換用トランス920及び平滑化用チョークコイル940を構成するコイルを回路パターンで形成した場合、そこでの発熱がスイッチング用MOS−FET910及び整流用ダイオード930に比べて大きくなる。その結果、トランス920及びチョークコイル940での発熱が配線回路951〜955を経由してMOS−FET910やダイオード930に伝わり、これらを高温に加熱してしまう。MOS−FET910やダイオード930は、所定以上の高温になると信頼性が確保できなくなるといった問題が生じる。
また、電圧変換用トランス920及び平滑化用チョークコイル940を構成するコイルを回路パターンで形成し、かつそれに用いる基板面積を小さくするためには、少なくとも4層の導体層を有する多層基板を用いる必要がある。4層の多層基板を用いる場合、基板の総厚や総重量を抑制するために、導体層1層当たりの厚さを薄くすることが好ましい。
しかしながら、1層当たりの厚さを薄くしすぎると、電圧変換用トランス及び平滑化用チョークコイルを構成するコイルからの発熱量が多大となって基板温度が上昇する。基板温度が上昇しすぎると、基板に形成されているビアホールやスルーホール、もしくは層間絶縁材料の信頼性を確保するのが困難になってしまう。さらに、コイルで発生する熱が増大すると、配線回路を伝ってMOS−FET及びダイオードをさらに高温にしてその信頼性確保を困難にしてしまう。
そこで、本発明はこれらの問題を解決するためになされたものであり、基板の温度上昇を抑えるために、基板のビアホールに挿入された放熱部材で、基板で発生する熱を効率的に放熱するように構成された電子基板を提供することを目的とする。
この発明の電子基板の態様は、絶縁基板の少なくとも両面に導体層を有し、前記導体層がビアホールで電気的に接続されている電子基板であって、前記絶縁基板の少なくともいずれか一方の面にある導体最外層を残し形成されている前記ビアホールに挿入された熱伝導部品と、前記熱伝導部品を前記ビアホールに固定するための固定部材と、を備えており、
前記ビアホールは、前記絶縁基板の面方向において発熱部品とは異なる位置に配置されており、前記ビアホールは前記絶縁基板の一方の面にある導体最外層のみを残して形成され、前記ビアホールに挿入される前記熱伝導部品には、他方の面にある導体最外層から突出するように突出部が形成され、前記ビアホールには前記導体最外層を貫通する貫通孔が前記ビアホールの径よりも小さい径となるように設けられ、前記熱伝導部品の前記絶縁基板垂直方向には、前記熱伝導部品を貫通する空気孔が設けられていることを特徴とする。
この発明によれば、導電層間を接続するビアホールに放熱部材を挿入することで、基板
の温度上昇を抑制し、そして、導電最外層を残すことにより、電子基板の平坦性が確保で
きるので、放熱シート等を介した冷却部品への密着性が高まり、より高い効率で電子基板
を冷却することが可能となる。
この発明によれば、熱伝導部品に突出部を設けることにより、さらに基板の温度上昇を
抑制することが可能となる。
この発明によれば、ビアホール内にめっきや導電樹脂、銅ナノ粒子を含む銅粉ペースト
等の固定部材を充填する際、固定部材の流れがよくなり、熱伝導部品の固定時間の短縮が
可能となる。
この発明によれば、熱伝導部品を貫通する空気孔を設けることによって、ビアホール内
にめっきや導電樹脂、銅ナノ粒子を含む銅粉ペースト等の固定部材を充填する際に発生す
る気泡を取り除くことが可能となり、電子基板の信頼性を向上させることが可能となる。
この発明の電子基板の他の態様は、前記ビアホールは、開口されている導体最外層側に向かって、前記ビアホール径が大きくなるように形成されており、前記熱伝導部品は前記ビアホールの形状に対応して形成されていることを特徴とする。
この発明によれば、ビアホール側面の傾斜角度がゆるやかになり、熱膨張収縮で固定部材にかかる応力が低減されることによって、電子基板の信頼性を向上させることが可能となる。
この発明の電子基板の他の態様は、前記突出部には、別の放熱部材が熱的に接続されることを特徴とする。
この発明によれば、突出部に別の放熱部材を熱的に接続することにより、さらに基板の温度上昇を抑制することが可能となる。
この発明の電子基板の他の態様は、前記導体層の厚さが200μm以上であることを特徴とする
この発明の電子基板の他の態様は、前記導体層が少なくとも4層以上あることを特徴とする。
この発明の電子基板の他の態様は、前記ビアホールの内面にはめっきが施されており、前記めっきの厚さが40μm以上であること特徴とする。
この発明の電子基板の他の態様は、前記電子基板がDC−DCコンバータを構成する基板であることを特徴とする。
本発明の電子基板によれば、基板の温度上昇を抑えるために、基板のビアホールに挿入された導電性を有する放熱部材で、基板で発生する熱を効率的に放熱することが可能となる。
本発明に係る電子基板の第一の実施形態を示す断面図である。 本発明に係る電子基板の他の第一の実施形態、図1と同じ状態で示す断面図である。 本発明に係る電子基板の第二の実施形態、図1と同じ状態で示す断面図である。 図3の電子基板に別の放熱部材を接続したときの断面図である。 本発明に係る電子基板の第三の実施形態、図1と同じ状態で示す断面図である。 本発明に係る電子基板の第四の実施形態、図1と同じ状態で示す断面図である。 本発明に係る電子基板の第五の実施形態、図1と同じ状態で示す断面図である。 従来の電子基板の断面図である。
本発明の第一の実施形態に係る電子基板を、図1及び図2を用いて以下に説明する。図1及び図2は、電子基板の断面図である。なお、同一機能を有する各構成部については、図示及び説明簡略化のため、同一符号を付して示す。
電子基板100は、絶縁性の樹脂などで形成される絶縁基板4と、銅などの導電性を有する導体層3とで主に構成されている。導体層3は導体最外層3a、3d及び導体内層3b、3cの4つの層からなっている。また、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の絶縁をとるために、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の間には絶縁層4(4a、4b、4c)がそれぞれ配置されている。
電子基板100には、各導体層3a、3b、3c、3dを接続するためのビアホール5が形成されている。このビアホール5に、熱伝導性の良い熱伝導部品1が挿入され、熱伝導部品1は、固定部材2によりビアホール5に固定されている。ここで、熱伝導部品1としては、銅やアルミなどの熱伝導性の高いものを用いることができ、また、固定部材2としては、はんだや導電性樹脂、銅ナノ粒子を含む銅粉ペーストなどの導電性を有するものを使用することができる。
このように、ビアホール5に熱伝導性の良い熱伝導部品1を挿入することにより、電子基板100の温度上昇を抑制することが可能となる。さらに、電子基板100の導体最外層3d側は、熱伝導シート6を介して、ウォータージャケット等の冷却部品12に熱的に接続されており、導体最外層3dを残すようにビアホール5を形成することによって、冷却部品12側に接続させる電子基板100の平坦性が確保できるので、熱伝導シート6を介した冷却部品12への密着性が高まり、より高い効率で電子基板100を冷却することが可能となる
ビアホール5の形成方法としては、レーザによる加工方法や、ドリルなどによる加工方法があり、レーザによる加工方法においては、レーザ光の強度や照射時間を調整することにより、またドリルなどによる加工方法においては、ドリルの押し込み幅を調整することよって、ビアホール5の深さを適宜調整することが可能となる。また、各導体層3を個別に製造し、各導体層3それぞれにビアホール5を形成した後、それを張り合わせて電子基板100を製造することも可能である。
次に、図2を用いて、他の第一の実施形態である電子基板200について説明する。
図1と異なる点は、ビアホール5により導体層3b、3c、3dが電気的に接続されている点であり、ビアホール5が、電子基板200の外から確認できない構造となっている。
このような構造であっても、ビアホール5に放熱部材を挿入することで、基板の温度上昇を抑制し、そして、導電最外層3dを残すことにより、電子基板の平坦性が確保できるので、放熱シート等を介した冷却部品への密着性が高まり、より高い効率で電子基板を冷却することが可能となる。
ビアホール5の形成方法としては、導体層3b〜3dを形成した後、レーザやドリルなどにより導体層3b〜3dを加工して、最後に導体層3aを形成することで電子基板200を製造することができる。また、各導体層3を個別に製造し、各導体層3それぞれにビアホール5を形成した後、それを張り合わせて電子基板200を製造することも可能である。
次に、本発明の第二の実施形態に係る電子基板を、図3及び図4を用いて以下に説明する。図3は電子基板の断面図であり、図4は、図3の電子基板300にさらに別の放熱部材20を接続したときの断面図である。
電子基板300は、電子基板100や200と同様に、絶縁性の樹脂などで形成される絶縁基板4と、銅などの導電性を有する導体層3(3a〜3d)とで主に構成されている。導体層3は導体最外層3a、3d及び導体内層3b、3cの4つの層からなっている。また、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の絶縁をとるために、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の間には絶縁層4が配置されている。
電子基板300には、各導体層3a、3b、3dを接続するためのビアホール5が形成されている。このビアホール5に、熱伝導性の良い熱伝導部品1が挿入され、熱伝導部品1は、固定部材2によりビアホール5に固定されている。ここで、熱伝導部品1としては、銅やアルミなどの熱伝導性の高いものを用いることができ、また、固定部材2としては、はんだや導電性樹脂、銅ナノ粒子を含む銅粉ペーストなどの導電性を有するものを使用することができる。なお、内層3cは、ビアホール5とは接続されていない。
さらに、熱伝導部品1には、導体最外層3aから外に突出するように一体形成されている突出部11が形成されている。このように、熱伝導部品1に突出部11を一体形成することによって、電子基板300の温度上昇をさらに抑制することが可能となる。
また、図4に示すように、突出部11にヒートシンクなどの別の放熱部材20を接続し、電子基板300の温度上昇をさらに抑制することも可能である。そして、図4のように、突出部11にそれぞれ放熱部材20を接続しても良いし、複数の突出部11に1つの放熱部材20を接続しても構わない。
次に、本発明の第三の実施形態に係る電子基板を、図5を用いて以下に説明する。図5は電子基板の断面図である。
電子基板400は、電子基板300と同様に、絶縁性の樹脂などで形成される絶縁基板4と、銅などの導電性を有する導体層3(3a〜3d)とで主に構成されている。導体層3は導体最外層3a、3d及び導体内層3b、3cの4つの層からなっている。また、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の絶縁をとるために、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の間には絶縁層4が配置されている。
電子基板400には、各導体層3a、3b、3dを接続するためのビアホール5が形成されている。このビアホール5に、熱伝導性の良い熱伝導部品1が挿入され、熱伝導部品1は、固定部材2によりビアホール5に固定されている。ここで、熱伝導部品1としては、銅やアルミなどの熱伝導性の高いものを用いることができ、また、固定部材2としては、はんだや導電性樹脂、銅ナノ粒子を含む銅粉ペーストなどの導電性を有するものを使用することができる。なお、内層3cは、ビアホール5とは接続されていない。
さらに、ビアホール5には、導体最外層3dを貫通する貫通孔7が形成されている。この貫通孔7の孔径は、ビアホールの径よりも小さい径となるように形成されている。具体的には、Φ6mmのビアホール径に対して、Φ0.6mm以下の貫通孔径とすることが好ましい。このように構成することで、ビアホール5に導体最外層3dを貫通する貫通孔7をさらに形成することによって、ビアホール内にめっきや導電樹脂、銅ナノ粒子を含む銅粉ペースト等の固定部材2を充填する際、固定部材の流れがよくなり、熱伝導部品の固定時間の短縮をはかることが可能となる。さらに、Φ0.6mm以下の貫通孔径であれば、電子基板の平坦性が確保できるので、放熱シート等を介した冷却部品への密着性を確保でき、高い効率で電子基板を冷却することが可能となる。
次に、本発明の第四の実施形態に係る電子基板を、図6を用いて以下に説明する。図6は電子基板の断面図である。
電子基板500は、図3の電子基板300と同様に、絶縁性の樹脂などで形成される絶縁基板4と、銅などの導電性を有する導体層3(3a〜3d)とで主に構成されている。導体層3は導体最外層3a、3d及び導体内層3b、3cの4つの層からなっている。また、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の絶縁をとるために、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の間には絶縁層4が配置されている。
電子基板500には、各導体層3a、3b、3dを接続するためのビアホール5が形成されている。このビアホール5に、熱伝導性の良い熱伝導部品9が挿入され、熱伝導部品9は、固定部材2によりビアホール5に固定されている。ここで、熱伝導部品9としては、銅やアルミなどの熱伝導性の高いものを用いることができ、また、固定部材2としては、はんだや導電性樹脂、銅ナノ粒子を含む銅粉ペーストなどの導電性を有するものを使用することができる。
さらに、熱伝導部品9の基板垂直方向には、熱伝導部品9を貫通する空気孔8が設けられている。空気孔8の径としては、できるだけ小さいものが好ましい。このように、熱伝導部品9に空気孔8を設けることによって、ビアホール5内にめっきや導電樹脂、銅ナノ粒子を含む銅粉ペースト等の固定部材2を充填する際に発生する気泡を取り除くことが可能となり、電子基板500の信頼性を向上させることが可能となる。
次に、本発明の第五の実施形態に係る電子基板を、図7を用いて以下に説明する。図7は電子基板の断面図である。
電子基板600は、絶縁性の樹脂などで形成される絶縁基板4と、銅などの導電性を有する導体層3(3a〜3d)とで主に構成されている。導体層3は導体最外層3a、3d及び導体内層3b、3cの4つの層からなっている。また、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の絶縁をとるために、各導体層3(3a、3b、3c、3d)の間には絶縁層4が配置されている。
電子基板600には、各導体層3a、3b、3dを接続するためのビアホール15が形成されている。ビアホール15は、開口されている導体最外層側3aに向かってビアホール径が大きくなるように、断面略台形の形状に形成されている。そして、ビアホール15に、ビアホール15の形状に対応するように形成された熱伝導性の良い熱伝導部品10が挿入され、熱伝導部品10は、固定部材2によりビアホール15に固定されている。ここで、熱伝導部品10としては、銅やアルミなどの熱伝導性の高いものを用いることができ、また、固定部材2としては、はんだや導電性樹脂、銅ナノ粒子を含む銅粉ペーストなどの導電性を有するものを使用することができる。
このように、ビアホール15は、開口されている導体最外層側3aに向かってビアホール径が大きくなるように、断面略台形の形状に形成され、ビアホール15に、ビアホール15の形状に対応するように形成された熱伝導性の良い熱伝導部品10が挿入されることによって、ビアホール15側面の傾斜角度がゆるやかになり、熱膨張収縮で固定部材2にかかる応力が低減されることによって、電子基板600の信頼性を向上させることが可能となる。
以上で説明した電子基板の製造方法としては、ビアホール5、15に熱伝導部品1、9、10を挿入した後、固定部材2を充填して良く、また、ビアホール5、15に固定部材2を充填し、固定部材2が硬化する前に熱伝導部品1、9、10をビアホール5、15に挿入しても良い。
このような構造の電子基板とすることで、従来の代表的な基板である、内径がΦ0.6mmで銅めっき厚20μmのビアホールを有する4層基板に流せる電流が1(A)程度であったものが、大電流基板として導体の厚さを200μmとし、さらに内径をΦ6mmとし穴の内部に材質が銅の熱伝導部品を挿入し、銅めっき厚40μmとなるようにビアホールを形成した4層基板とすることによって、80(A)程度の電流を流すことが可能となる。なお、本発明のビアホールは電子基板に要求される熱特性に応じて、適宜複数設けることも可能である。
100、200、300、400、500、600 電子基板
900 電子基板
1、9、10 熱伝導部品
2 固定部材
3 導体層
3a、3d 導体最外層
4 絶縁基板
5、15 ビアホール
6 熱伝導シート
7 貫通孔
8 空気孔
11 突出部
12 冷却部品
20 放熱部材

Claims (7)

  1. 絶縁基板の少なくとも両面に導体層を有し、前記導体層がビアホールで電気的に接続されている電子基板であって、
    前記絶縁基板の少なくともいずれか一方の面にある導体最外層を残し形成されている前記ビアホールに挿入された熱伝導部品と、
    前記熱伝導部品を前記ビアホールに固定するための固定部材と、
    を備えており、
    前記ビアホールは、前記絶縁基板の面方向において発熱部品とは異なる位置に配置されており、
    前記ビアホールは前記絶縁基板の一方の面にある導体最外層のみを残して形成され、
    前記ビアホールに挿入される前記熱伝導部品には、他方の面にある導体最外層から突出するように突出部が形成され、
    前記ビアホールには前記導体最外層を貫通する貫通孔が前記ビアホールの径よりも小さい径となるように設けられ、
    前記熱伝導部品の前記絶縁基板垂直方向には、前記熱伝導部品を貫通する空気孔が設けられている
    ことを特徴とする電子基板。
  2. 前記ビアホールは、開口されている導体最外層側に向かって、前記ビアホール径が大きくなるように形成されており、前記熱伝導部品は前記ビアホールの形状に対応して形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電子基板。
  3. 前記突出部には、別の放熱部材が熱的に接続されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子基板。
  4. 前記導体層の厚さが200μm以上であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の電子基板。
  5. 前記導体層が少なくとも4層以上あることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の電子基板。
  6. 前記ビアホールの内面にはめっきが施されており、前記めっきの厚さが40μm以上であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の電子基板。
  7. 前記電子基板がDC−DCコンバータを構成する基板であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の電子基板。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101208604B1 (ko) * 2011-05-25 2012-12-06 안복만 방열 기판 및 그 제조방법
FR2984679B1 (fr) * 2011-12-15 2015-03-06 Valeo Sys Controle Moteur Sas Liaison thermiquement conductrice et electriquement isolante entre au moins un composant electronique et un radiateur en tout ou partie metallique
WO2014136175A1 (ja) * 2013-03-04 2014-09-12 株式会社メイコー 放熱基板及びその製造方法
WO2014207815A1 (ja) * 2013-06-25 2014-12-31 株式会社メイコー 放熱基板及びその製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3347145B2 (ja) * 1996-09-26 2002-11-20 サムソン・エレクトロニクス・カンパニー・リミテッド マイクロ波ハイブリッド集積回路
JP2000228466A (ja) * 1999-02-08 2000-08-15 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製造方法ならびに電子装置
JP2003197835A (ja) * 2001-12-26 2003-07-11 Tdk Corp 電力増幅モジュール及び電力増幅モジュール用要素集合体
JP3922642B2 (ja) * 2003-07-30 2007-05-30 日本無線株式会社 熱伝導部材付きプリント基板及びその製造方法
DE102007037297A1 (de) * 2007-08-07 2009-02-19 Continental Automotive Gmbh Schaltungsträgeraufbau mit verbesserter Wärmeableitung

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