JP5248633B2 - 液処理装置および液処理方法 - Google Patents
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Description
20 処理室
21 保持部
22 リフトピンプレート
23 リフトピン
24 ピストン機構
25 保持部材
25a 軸
25b 支持部分
25c 被押圧部材
25d バネ部材
26 保持プレート
26a 軸受け部
26b 軸受け孔
26c 内面壁
28 処理液供給管
28a ヘッド部分
29 処理液供給部
40 回転カップ
42 ドレインカップ
43 第1案内カップ
44 第2案内カップ
45 第3案内カップ
46a 第1処理液回収用タンク
46b 第2処理液回収用タンク
46c 第3処理液回収用タンク
46d 第4処理液回収用タンク
48 排気部
50 カップ外周筒
50a 支持部材
50b 駆動機構
50m 開口
51 ガイド部材
52 洗浄部
52a 貯留部分
54 排気部
56 排気部
58 排気部
60 シャッター
62 シャッター
70 FFU
80 アーム待機部
82 ノズル支持アーム
82a ノズル
82b 内部配管
82c 外部配管
82p 純水供給用アーム
82q 第1の薬液供給用アーム
82r N2ガス供給用アーム
82s 第2の薬液供給用アーム
82t 純水のミスト供給用アーム
82u IPA供給用アーム
83p〜83u 渦巻き形状配管
84 アーム支持部
85 アーム駆動機構
85a モータ
85b プーリ
85c 循環ベルト
85d ベース部材
85e ベルト取付部材
86 回転機構
88 アーム洗浄部
88a 収容部分
88b 洗浄液供給管
88c 吸引機構
88d 吸引機構
88e 排液部分
88f ドレン管
88p 開口
89 表面処理液供給部
90 壁
94 シャッター
94a 開口
101 載置台
102 搬送アーム
103 棚ユニット
104 搬送アーム
200 液処理装置
210 処理室
220 保持部
230 カップ
240 ノズル
241 アーム
242 アーム支持部
250 FFU
260 排気部
Claims (9)
- 基板を保持する基板保持部および当該基板保持部の周囲に配設されるカップが内部に設けられた処理室と、
前記基板保持部に保持された基板に対して流体を供給するためのノズルを各々が有している複数のノズル支持アームと、
前記複数のノズル支持アームの各々に設けられ、前記処理室内に進出した位置と前記処理室から退避した位置との間で、前記複数のノズル支持アームを互いに独立して水平方向に直進運動させるアーム駆動機構と、
前記処理室に隣接して設けられ、当該処理室から退避した前記ノズル支持アームが待機するためのアーム待機部と、
前記処理室と前記アーム待機部との間に前記処理室と前記アーム待機部とを隔離するために設けられ、前記各ノズル支持アームが通る開口を有した鉛直方向に延びる壁と、
を備え、
前記複数のノズル支持アームのうちの少なくとも一つのノズル支持アームの高さレベルが他のノズル支持アームの高さレベルと異なっている、液処理装置。 - 前記各ノズル支持アームは、当該ノズル支持アームに設けられているノズルを、前記処理室内に進出したときに前記基板保持部に保持された基板の中央部の上方に位置させることができるように設けられている、請求項1記載の液処理装置。
- 前記複数のノズル支持アームの直進運動の方向は互いに異なっている、請求項2記載の液処理装置。
- 高さレベルが互いに異なる複数の前記ノズル支持アームが同時に前記処理室内に進出することができるようになっていることを特徴とする請求項1記載の液処理装置。
- 第1の流体を供給するためのノズルを支持する前記ノズル支持アームが、前記第1の流体とは種類が異なる第2の流体を供給するためのノズルを支持する前記ノズル支持アームと高さレベルが異なるようになっており、
前記基板保持部に保持された基板に対して前記第1の流体を供給した後に当該基板における前記第1の流体が供給された箇所に前記第2の流体を供給する際に、前記第1の流体を供給するためのノズルを支持する前記ノズル支持アームおよび前記第2の流体を供給するためのノズルを支持する前記ノズル支持アームが同時に前記処理室内に進出することを特徴とする請求項4記載の液処理装置。 - 前記第1の流体はIPAであり、前記第2の流体はガスであり、前記基板保持部に保持された基板に対して前記第1の流体であるIPAを供給した後に当該基板におけるIPAが供給された箇所に前記第2の流体であるガスを供給することにより基板の乾燥処理が行われるようになっていることを特徴とする請求項5記載の液処理装置。
- 第1の流体を供給するためのノズルを支持する前記ノズル支持アームが、前記第1の流体とは種類が異なる第2の流体を供給するためのノズルを支持する前記ノズル支持アームと高さレベルが異なるようになっており、
前記基板保持部に保持された基板に対して前記第1の流体を供給した後に引き続き当該基板に前記第2の流体を供給する際に、前記第1の流体を供給するためのノズルを支持する前記ノズル支持アームおよび前記第2の流体を供給するためのノズルを支持する前記ノズル支持アームが同時に前記処理室内に進出することを特徴とする請求項4記載の液処理装置。 - 前記第1の流体は薬液であり、前記第2の流体は水であり、前記基板保持部に保持された基板に対して前記第1の流体である薬液を供給した後に引き続き当該基板に前記第2の流体である水を供給することにより基板の薬液処理およびリンス処理が連続して行われるようになっていることを特徴とする請求項7記載の液処理装置。
- 処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を保持させる工程と、
壁により前記処理室から隔てられたアーム待機部に設けられた第1のノズル支持アームを第1のアーム駆動機構により水平方向に直線運動させて、前記壁に設けられた開口を介して前記処理室内に進出させる工程と、
前記待機部に設けられた第2のノズル支持アームを、前記第1のアーム駆動機構とは独立して動作可能な第2のアーム駆動機構により、水平方向に直線運動させて、前記壁に設けられた開口を介して前記処理室内に進出させる工程と、
前記処理室内に進出した第1のノズル支持アームに設けられたノズルから第1の処理流体を前記基板保持部により保持された前記基板に供給する工程と、
前記第1のノズル支持アームのノズルから前記基板に前記第1の処理流体を供給しているときに、前記処理室内に進出した第2のノズル支持アームに設けられたノズルを、前記第1のノズルアームのノズルの近傍に位置させる工程と、
を備えたことを特徴とする液処理方法。
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