JP5829174B2 - 液処理装置および液処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板に処理液を供給することにより基板の洗浄処理やエッチング処理、メッキ処理、現像処理等の液処理を行う液処理装置および液処理方法に関する。

従来から、半導体ウエハ等の基板（以下、ウエハともいう）を水平状態に保持した状態で当該ウエハの表面や裏面に処理液を供給することによりウエハの洗浄処理やエッチング処理、メッキ処理、現像処理等の液処理を行う液処理装置として、様々な種類のものが知られている（例えば、特許文献１等参照）。特許文献１には、処理対象のウエハを保持する基板保持部と、この基板保持部に保持されたウエハの周囲を取り囲むとともに当該ウエハの上方に開口部を有する遮蔽壁と、この遮蔽壁の上方に設けられた遮蔽部材と、前記遮蔽壁と前記遮蔽部材との間の隙間を通して側方から差し入れられ、前記基板保持部に保持されたウエハに向けて処理液を吐出する処理液ノズルと、を備えた液処理装置が開示されている。

特開２００７−３５８６６号公報

特許文献１に示すような従来の液処理装置では、処理液ノズルがウエハに向けて処理液を吐出している間に、処理液ノズルの表面に処理液のミストが付着することが考えられる。この場合、処理液ノズルの表面に多量のミストが付着したままミストが放置されると、複数のミストが凝縮して液滴が形成され、この液滴が処理中のウエハに落下してしまうおそれがある。また、処理液ノズルに付着した液滴が放置され、その結果、液滴が乾燥してしまうと、乾燥した部分の一部がパーティクルとなってウエハ上を漂い、このパーティクルがウエハに付着し、これによってウエハが汚染されることも考えられる。

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、ノズルを支持するノズル支持アームの表面に付着したミストが、付着したまま放置されることを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。

本発明の第１の観点によれば、基板を保持する基板保持部が内部に設けられた処理室と、前記基板保持部に保持された基板に対して処理液を供給するためのノズルと、前記ノズルを支持するノズル支持アームと、を備え、前記ノズル支持アームに、前記ノズル支持アームの表面に形成された吸引部と、前記吸引部を介して前記ノズル支持アームの表面に付着した液滴を吸引する吸引管と、を含む吸引機構が設けられている液処理装置が提供される。

本発明の第２の観点によれば、処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を保持させることと、ノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持された基板に流体を供給することと、前記ノズル支持アームに設けられた吸引機構により、前記ノズル支持アームの表面に付着した液滴を吸引することと、を備えた液処理方法が提供される。

本発明の液処理装置および液処理方法によれば、ノズルを支持するノズル支持アームの表面に付着したミストが、付着したまま放置されることを防止することができる。

本発明の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上面図である。 本発明の実施の形態による液処理装置の概略的な構成を示す上面図である。 図２に示す液処理装置の側面図である。 図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図であって、カップ外周筒が下方位置にあるときの状態を示す図である。 図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図であって、カップ外周筒が上方位置にあるときの状態を示す図である。 図４等に示す液処理装置におけるカップ外周筒の構成を示す斜視図である。 図２等に示す液処理装置における処理室および６つのノズル支持アームを示す斜視図である。 図７等に示すノズル支持アームの構成の詳細を示す側断面図である。 図７等に示すノズル支持アームを拡大して示す斜視図である。 図９に示すノズル支持アームを、ノズル支持アームの長手方向に平行する平面によって切断した場合を示す縦断面図である。 図９に示すノズル支持アームを、ノズル支持アームの長手方向に直交する平面によって切断した場合を示す縦断面図である。 ノズル支持アームに設けられた吸引機構の吸引部の第１の変形例を示す斜視図である。 ノズル支持アームに設けられた吸引機構の吸引部の第２の変形例を示す縦断面図である。 ノズル支持アームの輪郭の変形例を示す縦断面図である。 ノズル支持アームに設けられた吸引機構の吸引部が、ノズル支持アームの先端面に付着した液滴をも吸引するよう構成されている例を示す図である。 本発明の実施の形態による液処理装置の変形例を示す図であって、カップ外周筒の外側に設けられたアーム洗浄機構を示す側断面図である。 図１６に示すアーム洗浄機構の洗浄用ブロックを拡大して示す斜視図である。 アーム洗浄機構の変形例を示す図であって、アーム洗浄機構の洗浄用ブロックの端面を洗浄するブロック洗浄部を示す斜視図である。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１乃至図１１は、本実施の形態による液処理装置を示す図である。より詳細には、図１は、本発明の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上面図である。また、図２は、本発明の実施の形態による液処理装置の概略的な構成を示す上面図であり、図３は、図２に示す液処理装置の概略的な構成を示す側面図である。また、図４および図５は、図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図である。また、図６は、図４等に示す液処理装置におけるカップ外周筒の構成を示す斜視図である。また、図７乃至図１１は、図２等に示す液処理装置に設けられたノズル支持アームの構成を示す図である。

まず、図１を用いて、本実施の形態による液処理装置を含む液処理システムについて説明する。図１に示すように、液処理システムは、外部から被処理基板としての半導体ウエハ等の基板Ｗ（以下、ウエハＷともいう）を収容したキャリアを載置するための載置台１０１と、キャリアに収容されたウエハＷを取り出すための搬送アーム１０２と、搬送アーム１０２によって取り出されたウエハＷを載置するための棚ユニット１０３と、棚ユニット１０３に載置されたウエハＷを受け取り、当該ウエハＷを液処理装置１０内に搬送する搬送アーム１０４と、を備えている。図１に示すように、液処理システムには、複数（図１に示す態様では４個）の液処理装置１０が設けられている。

次に、本実施の形態による液処理装置１０の概略的な構成について図２および図３を用いて説明する。

図２および図３に示すように、本実施の形態による液処理装置１０は、ウエハＷが収容され、この収容されたウエハＷの液処理が行われる処理室（チャンバー）２０を備えている。図３に示すように、処理室２０内には、ウエハＷを水平状態で保持して回転させるための保持部２１が設けられており、この保持部２１の周囲にはリング状の回転カップ４０が配設されている。また、図２および図３に示すように、処理室２０内において回転カップ４０の周囲には円筒状のカップ外周筒５０が配設されている。後述するように、このカップ外周筒５０はウエハＷの処理状況に応じて昇降可能となっている。これらの保持部２１、回転カップ４０およびカップ外周筒５０の構成の詳細については後述する。

また、液処理装置１０には、保持部２１に保持されたウエハＷに対してウエハＷの上方から処理液やＮ２ガス等の流体を供給するためのノズル８１と、このノズル８１を支持する、水平方向に延びるノズル支持アーム８２が設けられている。図２に示すように、１つの液処理装置１０には複数（具体的には例えば６つ）のノズル支持アーム８２が設けられており、各ノズル支持アーム８２の先端近傍にノズル８１が設けられている。また、図３に示すように、各ノズル支持アーム８２にはアーム支持部８４が設けられており、各アーム支持部８４は後述するアーム駆動機構８５によって図３における左右方向に駆動されるようになっている。このことにより、各ノズル支持アーム８２は、ノズル８１が処理室２０内に進出した進出位置と、ノズル８１が処理室２０から後述するアーム待機部内へ退避した退避位置との間で水平方向に直線運動を行うようになっている（図２および図３における各ノズル支持アーム８２に設けられた矢印参照）。また、図３に示すように、各ノズル支持アーム８２には表面処理液供給管８２ｍが設けられており、各表面処理液供給管８２ｍは表面処理液供給部８９に接続されている。そして、表面処理液供給部８９から各表面処理液供給管８２ｍを介して各ノズル支持アーム８２のノズル８１に処理液やＮ２ガス等の流体が供給されるようになっている。

また図３に示すように、ノズル支持アーム８２には後述する吸引機構の吸引管７３が設けられており、この吸引管７３は、吸引管７３内の液体および気体を吸引する吸引ポンプ７７に接続されている。吸引ポンプ７７としては、吸引管７３内の液体および気体を適切に吸引することができる様々なものが用いられ得るが、例えばイジェクターや真空ポンプなどが用いられ得る。

図２および図３に示すように、液処理装置１０において、アーム待機部８０が処理室２０に隣接して設けられている。このアーム待機部８０において、処理室２０から退避したノズル支持アーム８２が待機するようになっている。また、アーム待機部８０と処理室２０との間には鉛直方向に延びる壁９０が設けられている。この壁９０には、各ノズル支持アーム８２が通過可能な開口８８ｐが設けられている。

また、図３に示すように、処理室２０の上方にはＦＦＵ（ファンフィルタユニット）７０が設けられており、このＦＦＵ７０からＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスがダウンフローで処理室２０内に送られるようになっている。また、図２および図３に示すように、処理室２０の底部におけるカップ外周筒５０の内側には排気部５４が設けられており、この排気部５４により処理室２０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。このように、ＦＦＵ７０から処理室２０内にクリーンエア等のガスがダウンフローで送られ、このガスが排気部５４により排気されることにより、処理室２０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。

また、図２および図３に示すように、処理室２０の底部におけるカップ外周筒５０の外側には排気部５６が設けられており、この排気部５６により処理室２０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。この排気部５６により、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の外側の雰囲気の排気を行うことができるようになっている。具体的には、排気部５６により、アーム待機部８０内の雰囲気がカップ外周筒５０内に入り込むことが抑止される。また、この排気部５６により、カップ外周筒５０内の雰囲気がアーム待機部８０に出てしまうことが抑止される。

また、図２および図３に示すように、アーム待機部８０の底部には排気部５８が設けられており、この排気部５８によりアーム待機部８０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。具体的には、各ノズル支持アーム８２を駆動するためのアーム駆動機構８５（後述）から発生するパーティクルを排気部５８により引くことができるようになっている。

また、図２に示すように、液処理装置１０の処理室２０およびアーム待機部８０の出入口にはそれぞれメンテナンス用のシャッター６０、６２が設けられている。処理室２０およびアーム待機部８０にそれぞれメンテナンス用のシャッター６０、６２が設けられていることにより、これらの処理室２０内やアーム待機部８０内の機器を個別にメンテナンスすることができる。

また、図２に示すように、液処理装置１０の側壁には、搬送アーム１０４により処理室２０内へウエハＷを搬入したり処理室２０からウエハＷを搬出したりするための開口９４ａが設けられており、この開口９４ａには、当該開口９４ａを開閉するためのシャッター９４が設けられている。

なお、図２に示す液処理装置１０において、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の内部の領域はクリーンルームに対して微陽圧となっており、一方、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の外側の領域はクリーンルームに対して微陰圧となっている。このため、処理室２０内において、カップ外周筒５０の内部の領域の気圧はカップ外周筒５０の外側の領域の気圧よりも大きくなっている。

次に、図２および図３に示すような液処理装置１０の構成の詳細について図４および図５を用いて説明する。

図４および図５に示すように、保持部２１は、ウエハＷを保持するための円板形状の保持プレート２６と、保持プレート２６の上方に設けられた円板形状のリフトピンプレート２２とを備えている。リフトピンプレート２２の上面には、ウエハＷを下方から支持するためのリフトピン２３が周方向に等間隔で３つ設けられている。なお、図４および図５では２つのリフトピン２３のみを表示している。また、リフトピンプレート２２にはピストン機構２４が設けられており、このピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が昇降するようになっている。より具体的には、搬送アーム１０４（図１参照）によりウエハＷをリフトピン２３上に載置したりリフトピン２３上からウエハＷを取り出したりするときには、ピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が図４等に示すような位置から上方に移動させられ、このリフトピンプレート２２は回転カップ４０よりも上方に位置するようになる。一方、処理室２０内でウエハＷの液処理を行う際には、ピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が図４等に示すような下方位置に移動させられ、ウエハＷの周囲に回転カップ４０が位置するようになる。

保持プレート２６には、ウエハＷを側方から支持するための保持部材２５が周方向に等間隔で３つ設けられている。なお、図４および図５では２つの保持部材２５のみを表示している。各保持部材２５は、リフトピンプレート２２が上方位置から図４および図５に示すような下方位置に移動したときにこのリフトピン２３上のウエハＷを保持し、このウエハＷをリフトピン２３からわずかに離間させるようになっている。

各保持部材２５は、ウエハＷを受け取る受け取り位置と、ウエハＷを保持する保持位置との間で移動可能な構造を有しており、また各保持部材２５は、リフトピンプレート２２の昇降と連動して動くようになっている。すなわち、リフトピンプレート２２が上方位置にあるときは、各保持部材２５が受け取り位置に移動し、リフトピンプレート２２が下方位置にあるときは、各保持部材２５が保持位置に移動する。

また、リフトピンプレート２２および保持プレート２６の中心部分にはそれぞれ貫通穴が形成されており、これらの貫通穴を通るよう処理液供給管２８が設けられている。この処理液供給管２８は、保持プレート２６の各保持部材２５により保持されたウエハＷの裏面に薬液や純水等の処理液を供給するようになっている。また、処理液供給管２８はリフトピンプレート２２と連動して昇降するようになっている。処理液供給管２８の上端には、リフトピンプレート２２の貫通穴を塞ぐよう設けられたヘッド部分２８ａが形成されている。また、図４等に示すように、処理液供給管２８には処理液供給部２９が接続されており、この処理液供給部２９により処理液供給管２８に処理液が供給されるようになっている。

図４および図５に示すように、保持部２１の周囲にはリング状の回転カップ４０が配設されている。この回転カップ４０は保持プレート２６に取り付けられており、保持プレート２６と一体的に回転するようになっている。より詳細には、回転カップ４０は、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されたウエハＷを側方から囲うよう設けられており、ウエハＷの液処理を行う際にこのウエハＷから側方に飛散した処理液を受けるようになっている。

また、回転カップ４０の周囲には、ドレインカップ４２、第１案内カップ４３、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５が上方から順に設けられている。ドレインカップ４２および各案内カップ４３、４４、４５はそれぞれリング状に形成されている。ここで、ドレインカップ４２は処理室２０において固定されている。一方、各案内カップ４３、４４、４５にはそれぞれ昇降シリンダ（図示せず）が連結されており、これらの案内カップ４３、４４、４５は対応する昇降シリンダにより互いに独立して昇降自在となっている。

図４および図５に示すように、ドレインカップ４２や各案内カップ４３、４４、４５の下方には、第１処理液回収用タンク４６ａ、第２処理液回収用タンク４６ｂ、第３処理液回収用タンク４６ｃおよび第４処理液回収用タンク４６ｄがそれぞれ設けられている。そして、各案内カップ４３、４４、４５の上下方向における位置により、ウエハＷの液処理を行う際にこのウエハＷから側方に飛散した処理液が、処理液の種類に基づいて、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうちいずれか一つの処理液回収用タンクに選択的に送られるようになっている。具体的には、全ての案内カップ４３、４４、４５が全て上方位置にあるときには（図４および図５に示すような状態）、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第４処理液回収用タンク４６ｄに送られるようになっている。一方、第３案内カップ４５のみが下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第３処理液回収用タンク４６ｃに送られるようになっている。また、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５が下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第２処理液回収用タンク４６ｂに送られるようになっている。また、全ての案内カップ４３、４４、４５が下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第１処理液回収用タンク４６ａに送られるようになっている。

また、図４および図５に示すように、第４処理液回収用タンク４６ｄの内側には排気部４８が設けられている。そして、各案内カップ４３、４４、４５の上下方向における位置が所定の位置となることにより、ウエハＷの周囲の雰囲気が、排気部４８により排気されるようになっている。

また、本実施の形態の液処理装置１０においては、処理室２０内においてドレインカップ４２や各案内カップ４３、４４、４５の周囲にカップ外周筒５０が設けられている。このカップ外周筒５０は、図４に示すような下方位置と図５に示すような上方位置との間で昇降可能となっている。また、図２および図３に示すように、カップ外周筒５０には、ノズル支持アーム８２が通過可能な開口５０ｍが設けられている。カップ外周筒５０は、図５に示すような上方位置にあるときに、カップ外周筒５０内の領域を外部に対して隔離するようになっている。

このようなカップ外周筒５０の構成の詳細について図６を用いて説明する。図６は、カップ外周筒５０の構成を示す斜視図である。図６に示すように、カップ外周筒５０の側面には、ノズル支持アーム８２が通過可能な開口５０ｍが、ノズル支持アーム８２の本数に応じて設けられている（例えばノズル支持アーム８２が６本の場合、６つの開口５０ｍが設けられる）。また、カップ外周筒５０の上部には、このカップ外周筒５０を支持するための支持部材５０ａが連結されており、支持部材５０ａには当該支持部材５０ａを昇降させる駆動機構５０ｂが設けられている。そして、駆動機構５０ｂにより支持部材５０ａを昇降させることにより、この支持部材５０ａに支持されるカップ外周筒５０も昇降するようになっている。

また、図４および図５に示すように、ＦＦＵ７０にはガイド部材５１が取り付けられている。このガイド部材５１は、図５に示すようにカップ外周筒５０が上方位置にあるときに、このカップ外周筒５０から内側にわずかに距離を隔てて位置するよう配置されている。また、本実施の形態の液処理装置１０においては、図５に示すようにカップ外周筒５０が上方位置にあるときには、カップ外周筒５０内の気圧はカップ外周筒５０の外側の気圧よりも大きくなるようになっている。このため、カップ外周筒５０が上方位置にあるときには、ＦＦＵ７０により生じる処理室２０内のダウンフローのガスが、ガイド部材５１によりカップ外周筒５０の上端近傍において当該カップ外周筒５０の内側から外側に案内されるようになっている。

また、図４および図５に示すように、処理室２０内には、カップ外周筒５０を洗浄するための洗浄部５２が設けられている。この洗浄部５２は、純水等の洗浄液を貯留するための貯留部分５２ａを有しており、図４に示すようにカップ外周筒５０が下方位置にあるときにこのカップ外周筒５０が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになっている。洗浄部５２は、貯留部分５２ａに貯留された洗浄液にカップ外周筒５０が浸されることにより、このカップ外周筒５０の洗浄を行うようになっている。

図４に示すように、カップ外周筒５０が下方位置にあるときにはこのカップ外周筒５０の大部分が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになる。また、図５に示すように、カップ外周筒５０が上方位置にあるときにもこのカップ外周筒５０の下部が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになる。このため、カップ外周筒５０が上方位置にあるときには、貯留部分５２ａに貯留された洗浄液とカップ外周筒５０の下部との間で水シールを行うとともに、カップ外周筒５０の上部とガイド部材５１との間が狭くなるので、カップ外周筒５０内の領域を外部から隔離することができるようになる。

また、図４および図５に示すように、処理室２０内において、洗浄部５２の内側には処理室２０内の雰囲気の排気を行うための排気部５４が設けられており、また、洗浄部５２の外側には処理室２０内の雰囲気の排気を行うための排気部５６が設けられている。このような排気部５４および排気部５６が設けられていることにより、カップ外周筒５０が図４に示すような下方位置にあるときには、これらの排気部５４および排気部５６により処理室２０内全体の雰囲気の排気を行うことができる。一方、カップ外周筒５０が図５に示すような上方位置にあるときには、カップ外周筒５０内の領域が外部から隔離されるので、排気部５４によりカップ外周筒５０の内部の雰囲気の排気を行うことができ、また、排気部５６によりカップ外周筒５０の外側の雰囲気の排気を行うことができる。

前述のように、本実施の形態においては、１つの液処理装置１０に複数（具体的には例えば６つ）のノズル支持アーム８２が設けられており、各ノズル支持アーム８２の先端にノズル８１が設けられている。具体的には、各ノズル８１は、それぞれ、第１の薬液（具体的には、例えば酸性の薬液）、第２の薬液（具体的には、例えばアルカリ性の薬液）、純水、Ｎ２ガス、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、純水のミストをウエハＷの上面に供給するようになっている。

以下、本実施の形態におけるノズル支持アーム８２の構成について図７および図８を用いて詳述する。ここで、図７は、図２等に示す液処理装置１０における処理室２０および６つのノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕを示す斜視図であり、図８は、図７等に示す各ノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕの構成の詳細を示す側断面図である。

図７に示すように、６つのノズル支持アーム８２は、例えば純水供給用アーム８２ｐ、第１の薬液供給用アーム８２ｑ、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒ、第２の薬液供給用アーム８２ｓ、純水のミスト供給用アーム８２ｔおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕから構成されている。前述のように、これらのアーム８２ｐ〜８２ｕの先端近傍にはノズル８１が設けられている。ここで、純水供給用アーム８２ｐの先端近傍に設けられたノズル８１からは純水がウエハＷの上面に供給され、第１の薬液供給用アーム８２ｑの先端近傍に設けられたノズル８１からは第１の薬液（具体的には、例えば硫酸と過酸化水素水とを混合することにより得られるＳＰＭ液）がウエハＷの上面に供給され、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒの先端近傍に設けられたノズル８１からはＮ２ガスがウエハの上面に供給されるようになっている。また、第２の薬液供給用アーム８２ｓの先端近傍に設けられたノズル８１からは第２の薬液（具体的には、例えばアルカリ性の薬液）がウエハＷの上面に供給され、純水のミスト供給用アーム８２ｔの先端近傍に設けられたノズル８１からは純水のミストがウエハＷの上面に供給され、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕの先端近傍に設けられたノズル８１からはＩＰＡがウエハＷの上面に供給されるようになっている。

図８に示すように、各ノズル支持アーム８２には、当該ノズル支持アーム８２を直進運動させるためのアーム駆動機構８５が設けられている。アーム駆動機構８５は、ノズル支持アーム８２が図８における左右方向に直進運動を行うよう、ノズル支持アーム８２を支持するアーム支持部８４を駆動することができる。

本実施の形態の液処理装置１０においては、アーム駆動機構８５が処理室２０の外部に設けられていることにより、このアーム駆動機構８５から発生するゴミ等が処理室２０内に入ってしまうことを抑制することができる。また、処理室２０内の雰囲気がアーム駆動機構８５に到達してしまうことを抑制することができる。

また、本実施の形態の液処理装置１０においては、図７に示すように、複数のアーム８２ｐ〜８２ｕの高さレベルが異なっていてもよい。この場合、高さレベルが互いに異なる複数のアーム８２ｐ〜８２ｕが同時に処理室２０内に進出したときにアーム同士が衝突または干渉しないようになっている。

図８に示すように、各アーム８２ｐ〜８２ｕは二重配管構造となっている。より詳細には、各アーム８２ｐ〜８２ｕは内部配管８２ｂおよび外部配管８２ｃから構成されている。内部配管８２ｂはノズル８１に連通しており、この内部配管８２ｂからノズル８１に流体が送られるようになっている。内部配管８２ｂは例えばフッ素系樹脂から構成されている。また、内部配管８２ｂは外部配管８２ｃに覆われるようになっており、この外部配管８２ｃは例えばステンレス鋼パイプにフッ素系樹脂をコーティングしたものからなる。

ところで図８に示すように、各アーム８２ｐ〜８２ｕの表面は、側面８２ｄと先端面８２ｅとを含んでいる。このうち側面８２ｄとは、各アーム８２ｐ〜８２ｕの表面のうち各アーム８２ｐ〜８２ｕの長手方向と同一の方向に延びる面のことである。また先端面８２ｅとは、各アーム８２ｐ〜８２ｕの表面のうち各アーム８２ｐ〜８２ｕの長手方向と異なる方向に延びる面であって、アーム８２ｑの先端に位置する面のことである。図８に示す例において、先端面８２ｅは、各アーム８２ｐ〜８２ｕの長手方向軸線に直交する方向に延びる平坦な面となっている。このように先端面８２ｅを構成することにより、図８に示すように、各アーム８２ｐ〜８２ｕは、アーム待機部８０で待機しているときに、処理室２０とアーム待機部８０との間に設けられた壁９０の開口８８ｐをほぼ塞ぐことができる。このことにより、各アーム８２ｐ〜８２ｕは、壁９０の開口８８ｐを塞ぐ蓋として機能するようになり、これによって、処理室２０内の領域とアーム待機部８０の領域とを隔離することができるようになる。

また、各アーム８２ｐ〜８２ｕは、図５に示すような上方位置にあるカップ外周筒５０の開口５０ｍも塞ぐことができるようになっている。このことにより、カップ外周筒５０内の領域とアーム待機部８０の領域とを隔離することができるようになる。

（吸引機構）
また本実施の形態の液処理装置１０においては、図２や図９乃至図１１に示すように、ノズル支持アーム８２には、ノズル支持アーム８２の表面に付着した液滴を吸引する吸引機構７１が設けられている。以下、吸引機構７１について詳細に説明する。ここでは、各ノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕのうち第１の薬液供給用アーム８２ｑに設けられた吸引機構７１について、図９乃至図１１を参照して説明する。図９は、アーム８２ｑを拡大して示す斜視図である。また図１０は、図９に示すアーム８２ｑを、アーム８２ｑの長手方向に平行する平面によって切断した場合を示す縦断面図であり、図１１は、図９に示すアーム８２ｑを、アーム８２ｑの長手方向に直交する平面によって切断した場合を示す縦断面図である。

アーム８２ｑに設けられた吸引機構７１について説明する前に、まず、アーム８２ｑの内部配管８２ｂについて説明する。上述のように、アーム８２ｑに設けられたノズル８１からは、硫酸と過酸化水素水とを混合することにより得られるＳＰＭ液がウエハＷの上面に向けて吐出される。ここで、ＳＰＭ液をノズル８１に供給する内部配管８２ｂは、図１０および図１１に示すように、硫酸を供給する第１内部配管８７ａと、過酸化水素水を供給する第２内部配管８７ｂと、を含んでいる。この場合、第１内部配管８７ａから供給される硫酸と、第２内部配管８７ｂから供給される過酸化水素水とは、ノズル８１の直前で混合され、その後、ウエハＷに供給される。

ＳＰＭ液は、不要となったレジスト膜をウエハＷ上から除去するためにウエハＷ上に供給される。このＳＰＭ液は、レジスト膜の除去能力を高くするため、一般に高温に加熱された状態でウエハＷに対して供給される。より具体的には、硫酸が、例えば１４０〜２００度の高温に加熱された状態で第１内部配管８７ａにより供給される。また、硫酸と過酸化水素水とを混合すると、反応熱による温度上昇が生じる。このため、ノズル８１からウエハＷ上に供給されるＳＰＭ液の温度は、例えば２００〜２５０度程度になっている。

高温のＳＰＭ液がウエハＷ上に供給されると、ＳＰＭ液のミストがアーム８２ｑの側面８２ｄ上で凝縮し、この結果、アーム８２ｑの側面８２ｄに液滴が生成されることがある。このような液滴がアーム８２ｑ側面８２ｄに付着したままになっている場合、いずれ液滴がアーム８２ｑから離れ、そしてウエハＷ上に落下してしまうと考えられる。上述の吸引機構７１は、このように液滴がウエハＷ上に落下してしまうことを防ぐために設けられている。図９に示すように、吸引機構７１は、アーム８２ｑの側面８２ｄに形成された吸引部７８と、吸引部７８を介してアーム８２ｑの側面８２ｄに付着した液滴を吸引する吸引管７３と、を含んでいる。上述のように、吸引管７３は、吸引管７３内の液体および気体を吸引する吸引ポンプ７７に接続されている。

（吸引部）
次に吸引部７８について具体的に説明する。はじめに、吸引部７８が形成される位置について説明する。一般に、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着した液滴は、重力によってアーム８２ｑの側面８２ｄに沿って下方に移動し、最終的にアーム８２ｑの下端部に至ると考えられる。ここで図９に示すように、吸引部７８は、アーム８２ｑの下端部に形成されている。ここで、このため、アーム８２ｑの側面８２ｄ上に生成された液滴を、アーム８２ｑの下端部に形成された吸引部７８によって最終的に吸引することができる。

次に、吸引部７８の構造について説明する。図９乃至図１１に示すように、吸引部７８は、アーム８２ｑの長手方向に沿って所定のピッチで形成された複数の吸引口７２を含んでいる。各吸引口７２の具体的な形状は特には限られないが、例えば各吸引口７２は円形の輪郭を有している。図１０および図１１に示すように、各吸引口７２は吸引管７３に連通している。このため、アーム８２ｑの側面８２ｄのうち各吸引口７２の近傍の領域に付着している液滴は、吸引管７３からの吸引力により、吸引口７２を介して吸引管７３に吸引される。

好ましくは、図９に示すように、アーム８２ｑの側面８２ｄには、吸引口７２に至るよう延びる溝８２ｆが形成されている。この場合、液滴がアーム８２ｑの側面８２ｄに沿って移動している間に溝８２ｆに接すると、当該液滴は、その後、溝８２ｆに沿って下方に移動することになる。このため、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着した液滴を、溝８２ｆを介して吸引口７２に導くことができる。これによって、吸引口７２を介して液滴を吸引管７３により吸引することができ、このことにより、アーム８２ｑに付着した液滴がウエハＷ上に落下してしまうことをより確実に防ぐことができる。

図９および図１０において、各吸引口７２間のピッチが符号ｐ_１により示されている。また図９において、各溝８２ｆ間のピッチが符号ｐ_２により示されている。さらに図１０において、アーム８２ｑの長手方向における各吸引口７２の寸法（直径）が符号ｄ_１により示されている。これらピッチｐ_１，ｐ_２および直径ｄ_１の具体的な値が特に限られることはなく、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着し得る液滴の寸法に応じて適宜設定される。例えば、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着している複数の小さな液滴が凝集し、これによって生成された１つの大きな液滴の寸法が２〜３ｍｍになると、この液滴が重力によりアーム８２ｑから離れてウエハＷ上に落下してしまう、という場合について考える。この場合、各吸引口７２間のピッチｐ_１および各溝８２ｆ間のピッチｐ_２は、液滴が側面８２ｄから離れてしまう際の寸法よりも小さくなるよう設定され、例えば２ｍｍ以下に設定される。これによって、液滴が側面８２ｄから離れてしまうよりも先に液滴が溝８２ｆに接することになり、このため、液滴を確実に吸引口７２に至らせることができる。

上述のように想定される液滴の寸法に応じてピッチｐ_１，ｐ_２および直径ｄ_１の具体的な値が適宜設定されるが、一般的には、隣接する２つの吸引口７２間のピッチｐ_１および隣接する２つの溝８２ｆ間のピッチｐ_２が１．０〜５．０ｍｍの範囲内に設定され、各吸引口７２の直径ｄ_１が０．５〜１．０ｍｍの範囲内に設定される。これによって、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着するものとして想定される液滴の大部分を、吸引口７２によって吸引することができる。

図１０および図１１に示すように、吸引管７３および各吸引口７２は、吸引機構用材料７４の内部を切削することにより形成されている。この吸引機構用材料７４は、図１１に示すように、アーム８２ｑの内側に位置するだけでなく、吸引口７２の近傍においてアーム８２ｑの側面８２ｄを構成している。このような、吸引口７２の近傍においてアーム８２ｑの側面８２ｄを構成する吸引機構用材料７４は、好ましくは、石英などの親水性材料から構成されている。すなわち、吸引機構用材料７４は、表面エネルギーが大きく濡れやすい材料から構成されている。これによって、吸引機構用材料７４の表面に付着した液滴が吸引機構用材料７４から離れてしまうことを抑制することができ、このことにより、液滴がウエハＷ上に落下してしまうことをより確実に防ぐことができる。

なお吸引機構用材料７４自体が親水性を有する例を示したが、これに限られることはなく、吸引機構用材料７４のうちアーム８２ｑの側面８２ｄを構成する領域のみが親水性材料によってコーティングされていてもよい。これによって、吸引機構用材料７４の表面に付着した液滴が吸引機構用材料７４から離れてしまうことを抑制することができる。

ところで上述の説明において、アーム８２ｑの側面８２ｄのうち吸引口７２近傍の領域を除くその他の部分を構成する外部配管８２ｃが、ステンレス鋼パイプにフッ素系樹脂をコーティングすることにより構成される例を示した。すなわち、外部配管８２ｃの表面が撥水性を有する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、外部配管８２ｃの表面は、撥水性または親水性のいずれを有していてもよい。例えば、側面８２ｄのうち外部配管８２ｃによって構成されている領域内においては、側面８２ｄから離れてしまう程度の寸法の液滴が生成され得ないことが想定される場合、外部配管８２ｃの表面が撥水性を有していてもよい。これによって、外部配管８２ｃの表面に付着した液滴を速やかに移動させ、そして溝８２ｆや吸引機構用材料７４の領域に至らせることができる。溝８２ｆや吸引機構用材料７４の領域に至った液滴は、吸引口７２を介して吸引管７３により吸引される。

次に、アーム８２ｑに設けられたノズル８１の表面に付着した液滴がウエハＷ上に落下することを防ぐための構造について説明する。図９に示すように、アーム８２ｑに設けられたノズル８１は、下方に向かって突出するよう形成されている。このノズル８１は、側面部８１ｂと、側面部８１ｂの下端に形成された吐出口８１ａと、からなっている。ここで図９に示すように、好ましくは、ノズル８１は、下方に向かうにつれて先細になるよう構成されている。このようにノズル８１を構成することにより、ノズルの側面部８１ｂに付着した液滴を、ノズルの側面部８１ｂに沿って下方へ移動させ、そして液滴を吐出口８１ａに至らせることができる。この場合、吐出口８１ａに至った液滴は、内部配管８２ｂから供給されるＳＰＭ液とともにウエハＷに吐出されることになる。

次に、このような構成からなる液処理装置１０の動作について説明する。

まず、保持部２１におけるリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示す位置から上方に移動させることと、処理室２０の開口９４ａに設けられたシャッター９４をこの開口９４ａから退避させることにより開口９４ａを開くことを行う。そして、液処理装置１０の外部からウエハＷが搬送アーム１０４により開口９４ａを介して処理室２０内に搬送され、このウエハＷがリフトピンプレート２２のリフトピン２３上に載置され、その後、搬送アーム１０４は処理室２０から退避する。この際に、カップ外周筒５０は図４に示すような下方位置に位置している。また、各ノズル支持アーム８２は処理室２０から退避した退避位置に位置している。すなわち、各ノズル支持アーム８２はアーム待機部８０で待機している。また、ＦＦＵ７０から処理室２０内にクリーンエア等のガスが常にダウンフローで送られ、このガスが排気部５４により排気されることにより、処理室２０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。

次に、リフトピンプレート２２および処理液供給管２８を下方に移動させ、これらのリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示すような下方位置に位置させる。この際に、保持プレート２６に設けられた各保持部材２５が、リフトピン２３上のウエハＷを支持し、このウエハＷをリフトピン２３からわずかに離間させる。

その後に、またはリフトピンプレート２２の下降中に、カップ外周筒５０に設けられた駆動機構５０ｂにより、このカップ外周筒５０を上方に移動させ、カップ外周筒５０を図５に示すような上方位置に位置させる。そして、カップ外周筒５０が上方位置に移動した後、保持部２１における保持プレート２６およびリフトピンプレート２２を回転させる。このことにより、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷも回転する。

その後、アーム待機部８０で待機している６つのノズル支持アーム８２のうち一または複数のノズル支持アーム８２を、壁９０の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出させる（図５の二点鎖線参照）。この際に、アーム駆動機構８５によりノズル支持アーム８２は直線運動を行う。

その後、まず、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷに対して酸性の薬液により処理を行い、その後引き続いてリンス処理を行う。具体的には、図５に示すような状態で、アーム待機部８０で待機している６つのノズル支持アーム８２のうち第１の薬液供給用アーム８２ｑが壁９０の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する。

そして、ウエハＷが回転した状態で、処理室２０内に進出した第１の薬液供給用アーム８２ｑに設けられたノズル８１からウエハＷの上面の中心に向けて酸性の薬液（ここではＳＰＭ液）を供給する。また、この際に、ウエハＷの下面（裏面）に向かって処理液供給管２８から酸性の薬液を供給してもよい。このようにして、ウエハＷの少なくとも上面にＳＰＭ液が供給され、ウエハＷの薬液処理が行われる。ウエハＷに供給されたＳＰＭ液は、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうち例えば第１処理液回収用タンク４６ａに送られて回収される。

第１の薬液供給用アーム８２ｑに設けられたノズル８１からウエハＷの上面にＳＰＭ液が供給されている間、アーム８２ｑに設けられた吸引機構７１は、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着した液滴を吸引し続ける。具体的には、高温のＳＰＭ液から発生するミストがアーム８２ｑの側面８２ｄ上で凝縮することにより生成された液滴が、吸引口７２を介して吸引管７３に吸引される。これによって、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着した液滴が薬液処理中にウエハ上に落下してしまうことを防ぐことができる。

次に、処理室２０内に純水供給用アーム８２ｐを進出させ、その後、純水供給用アーム８２ｐに設けられたノズル８１から純水をウエハＷに供給する。ウエハＷに供給された純水は、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうち例えば第３処理液回収用タンク４６ｃに送られて回収される。このようにして、カップ外周筒５０内でウエハＷに対してＳＰＭ液により処理が行われ、その後引き続いてリンス処理が行われるようになる。

なお、ＳＰＭ液による処理の直後にリンス処理を実施するため、第１の薬液供給用アーム８２ｑと純水供給用アーム８２ｐとが処理室２０内に同時に進出していてもよい。これによって、ＳＰＭ液による処理とリンス処理との間を空けることなく、連続的にリンス処理を実施することができる。この際に、処理室２０内において純水供給用アーム８２ｐと第１の薬液供給用アーム８２ｑは互いに高さレベルが異なっているのでこれらのアーム８２ｐ、８２ｑが互いに干渉することはない。

ウエハＷに対するＳＰＭ液による処理およびリンス処理が終了すると、処理室２０に進出した第１の薬液供給用アーム８２ｑはこの処理室２０から退避してアーム待機部８０で待機するようになる。一方、純水供給用アーム８２ｐは処理室２０内に残ったままとなる。また、リンス処理が行われる間に、第２の薬液供給用アーム８２ｓが壁９０の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する。より詳細には、上述のようなリンス処理が行われる際に、第２の薬液供給用アーム８２ｓは、純水供給用アーム８２ｐのノズル８１による純水の吐出位置からわずかに後退した位置に当該第２の薬液供給用アーム８２ｓのノズル８１が位置するよう、処理室２０内で待機している。

その後、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷに対してアルカリ性の薬液により処理を行い、その後引き続いてリンス処理を行う。具体的には、処理室２０内に進出している第２の薬液供給用アーム８２ｓおよび純水供給用アーム８２ｐにより、ウエハＷに対してアルカリ性の薬液による処理およびリンス処理が行われる。この際に、第２の薬液供給用アーム８２ｓおよび純水供給用アーム８２ｐは互いに高さレベルが異なるようになっているので、これらのアーム８２ｓ、８２ｐが互いに干渉することはない。第２の薬液供給用アーム８２ｓを用いたアルカリ性の薬液による処理の具体的な方法は、薬液の種類が異なる点を除いて、第１の薬液供給用アーム８２ｑを用いた上述のＳＰＭ液による処理の方法と略同一である。また、アルカリ性の薬液による処理の後のリンス処理の具体的な方法は、ＳＰＭ液による処理の後の上述のリンス処理の方法と略同一である。

アルカリ性の薬液による処理の後のリンス処理が行われる間に、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕが壁９０の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する。より詳細には、上述のようなリンス処理が行われる際に、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕは、純水供給用アーム８２ｐのノズル８１による純水の吐出位置からわずかに後退した位置に当該ＩＰＡ供給用アーム８２ｕのノズル８１が位置するよう、処理室２０内で待機している。

その後、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷに対してＩＰＡにより乾燥処理が行われる。具体的には、アーム待機部８０で待機している６つのノズル支持アーム８２のうちＮ２ガス供給用アーム８２ｒが壁９０の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する。このようにして、処理室２０内にＮ２ガス供給用アーム８２ｒおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕがそれぞれ進出した状態となる。この際に、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒおよびＩＰＡ供給用アーム８２ｕは互いに高さレベルが異なるようになっているので、これらのアーム８２ｒ、８２ｕが互いに干渉することはない。

そして、ウエハＷが回転した状態で、処理室２０内に進出したＩＰＡ供給用アーム８２ｕに設けられたノズル８１からウエハＷに対してＩＰＡを供給した後に、このウエハＷにおけるＩＰＡが供給された箇所に対して処理室２０内に進出したＮ２ガス供給用アーム８２ｒに設けられたノズル８１からＮ２ガスを供給する。具体的には、処理室２０内において、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕに設けられたノズル８１によりウエハＷの中心にＩＰＡが供給される。その後、ＩＰＡ供給用アーム８２ｕがウエハＷの中心から周縁部に移動し、ＩＰＡが供給された後のウエハＷ上の領域に対して、Ｎ２ガス供給用アーム８２ｒに設けられたノズル８１によりガスが噴射されるウエハＷ上の領域が後を追うように、これらのＩＰＡ供給用アーム８２ｕおよびＮ２ガス供給用アーム８２ｒをウエハＷ上で移動させる。このようにして、ウエハＷの表面において、ＩＰＡが供給された箇所にＮ２ガスがすぐに供給されるようになり、ウエハＷの乾燥処理を適切に行うことができるようになる。なお、ウエハＷに供給されたＩＰＡは、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうち例えば第４処理液回収用タンク４６ｄに送られて回収される。ウエハＷの乾燥処理が終了すると、処理室２０に進出したＩＰＡ供給用アーム８２ｕおよびＮ２ガス供給用アーム８２ｒはこの処理室２０から退避してアーム待機部８０で待機するようになる。

ウエハの乾燥処理が終了すると、カップ外周筒５０に設けられた駆動機構５０ｂにより、このカップ外周筒５０を下方に移動させ、カップ外周筒５０を図４に示すような下方位置に位置させる。

その後、保持部２１におけるリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示す位置から上方に移動させる。この際に、保持プレート２６の保持部材２５により支持されたウエハＷがリフトピンプレート２２のリフトピン２３上に受け渡される。次に、処理室２０の開口９４ａに設けられたシャッター９４をこの開口９４ａから退避させることにより開口９４ａを開き、液処理装置１０の外部から開口９４ａを介して搬送アーム１０４を処理室２０内に進出させ、この搬送アーム１０４によりリフトピンプレート２２のリフトピン２３上のウエハＷを取り出す。搬送アーム１０４により取り出されたウエハＷは液処理装置１０の外部に搬送される。このようにして、一連のウエハＷの液処理が完了する。

本実施の形態の液処理装置１０によれば、上述のように、第１の薬液供給用アーム８２ｑには吸引機構７１が設けられている。このため、高温のＳＰＭ液から発生するミストがアーム８２ｑ上で凝縮することにより、アーム８２ｑ上に液滴が生成されたとしても、当該液滴を吸引機構７１によって吸引することができる。これによって、ウエハＷ上に液滴が落下することを防ぐことができ、このことにより、ウエハＷが汚染されてしまうことを防ぐことができる。

また本実施の形態の液処理装置１０によれば、アーム８２ｑの側面８２ｄに、吸引機構７１の各吸引口７２に至るよう延びる溝８２ｆが形成されている。このため、液滴を確実に吸引口７２に至らせることができ、このことにより、ウエハＷ上に液滴が落下することをより強固に防ぐことができる。

また本実施の形態の液処理装置１０によれば、アーム８２ｑに設けられたノズル８１は、下方に向かうにつれて先細になる形状を有している。これによって、ノズルの側面部８１ｂに付着した液滴を、ノズルの側面部８１ｂに沿って下方へ移動させ、そして液滴を吐出口８１ａに至らせることができる。この場合、吐出口８１ａに至った液滴は、内部配管８２ｂから供給されるＳＰＭ液とともにウエハＷに供給されることになる。このことにより、液滴のみが単独でウエハＷ上に落下してしまうことを防ぐことができる。

（比較の形態）
次に比較の形態として、上述の吸引機構７１が設けられていない液処理装置１０について考える。この場合、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着している複数の小さな液滴は、下方に移動している間にその他の液滴と合流し、その寸法が増大すると考えられる。そして、液滴の寸法が所定の寸法よりも大きくなると、当該液滴がウエハＷ上に落下する。この場合、当該液滴は、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着している間に冷却されており、このため、ウエハＷ上に落下する際の当該液滴の温度は、ノズル８１からウエハＷ上に供給されるＳＰＭ液の温度に比べて大幅に低くなっていると考えられる。すなわち、ノズル８１から供給されてウエハＷ上に存在しているＳＰＭ液の温度と、アーム８２ｑの側面８２ｄからウエハＷ上に落下した液滴の温度と、は大きく相違している。このため、仮にノズル８１から供給されてウエハＷ上に存在しているＳＰＭ液の成分と、アーム８２ｑの側面８２ｄからウエハＷ上に落下した液滴の成分とが略同一であったとしても、温度の相違により、アーム８２ｑの側面８２ｄからウエハＷ上に落下した液滴によってウエハＷ上の反応が乱されることになる。この結果、アーム８２ｑの側面８２ｄからウエハＷ上に落下した液滴に起因して、ウエハＷ上にパーティクルなどの不要な物質が生成されることになる。

これに対して本実施の形態によれば、上述のように、アーム８２ｑには吸引機構７１が設けられている。このため、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着した液滴がウエハＷ上に落下することを防ぐことができる。
また本実施の形態によれば、上述のように、アーム８２ｑに設けられたノズル８１は、下方に向かうにつれて先細になる形状を有している。このため、ノズル８１の側面部８１ｂに付着した液滴は、側面部８１ｂに沿って下方に移動し、そして吐出口８１ａに至る。このため、ノズル８１の側面部８１ｂに付着した液滴のみが単独でウエハＷ上に落下してしまうことはなく、当該液滴は、内部配管８２ｂから供給されるＳＰＭ液とともにウエハＷに供給される。この場合、ノズル８１の側面部８１ｂに付着した液滴の温度が低くなっていたとしても、当該液滴と内部配管８２ｂから供給されるＳＰＭ液とが混合されるため、ウエハＷ上に到達する液の温度には、ノズル８１の側面部８１ｂに付着していた液滴の温度の影響がほとんど現れない。このことにより、ウエハＷ上にパーティクルなどの不要な物質が生成されることを防ぐことができる。

吸引機構の変形例
また、吸引機構７１の具体的な構成が上述の構成に限られることはなく、各アーム８２ｐ〜８２ｕの表面に付着した液滴を吸引することができる限りにおいて、様々な構造が採用され得る。以下、吸引機構７１の変形例について説明する。

（吸引部の第１の変形例）
はじめに吸引部７８の変形例について説明する。図１２は、吸引機構７１の吸引部７８の第１の変形例を示す斜視図である。

図１２に示す例において、吸引部７８は、アーム８２ｑの長手方向に沿って延びるスリット７５を含んでいる。このスリット７５は、上述の吸引口７２の場合と同様に吸引管７３に連通している。このため、アーム８２ｑの側面８２ｄのうちスリット７５の近傍の領域に付着している液滴は、吸引管７３からの吸引力により、スリット７５を介して吸引管７３に吸引される。

図１２において、スリット７５の幅が符号ｄ_２により示されている。スリット７５の幅ｄ_２の具体的な値は特には限定されないが、例えば０．５〜１．０ｍｍの範囲内となっている。

（吸引部の第２の変形例）
次に吸引部７８の第２の変形例について説明する。図１３は、吸引機構７１の吸引部７８の第２の変形例を示す縦断面図である。

図１３に示す例において、吸引機構７１の吸引管７３は、多数のポーラス７６ａを含む多孔質材料７６の内部を切削することにより形成されている。この場合、多数のポーラス７６ａのうちいくつかのポーラス７６ａは、隣接するポーラス７６ａとの間で互いに連通している。また図１３に示すように、多数のポーラス７６ａの一部は多孔質材料７６の表面に至っている。この場合、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着している液滴を、多孔質材料７６の表面に至っているポーラス７６ａおよび当該ポーラス７６ａに連通しているポーラス７６ａを介して吸引管７３によって吸引することができる。

（アームの輪郭の変形例）
また図９乃至図１３に示す本実施の形態および変形例において、アーム８２ｑの断面形状が円形となっている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、アーム８２ｑが、少なくとも吸引機構７１の吸引部７８の近傍において、下方に向かうにつれて先細になる形状を有していてもよい。例えば図１４に示すように、アーム８２ｑの断面形状が、頂点が下方に位置する逆三角形の形状となっていてもよい。この場合、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着した液滴は、側面８２ｄに沿って下方へ移動し、そして吸引口７２を介して吸引管７３によって吸引される。

（吸引部および吸引管の変形例）
また上述の本実施の形態および変形例において、吸引機構７１の吸引部７８および吸引管７３が、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着した液滴を吸引するよう構成されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、吸引部７８および吸引管７３は、アーム８２ｑの先端面８２ｅに付着した液滴をも吸引するよう構成されていてもよい。例えば図１５に示すように、吸引管７３が先端面８２ｅの近傍まで延びており、また、先端面８２ｅの下端部に吸引口７２が形成されていてもよい。これによって、アーム８２ｑの表面（側面８２ｄおよび先端面８２ｅ）に付着した液滴がウエハＷ上に落下してしまうことをより確実に防ぐことができる。

その他の変形例
また上述の本実施の形態において、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着する液滴が、高温のＳＰＭ液のミストに起因する例を示した。しかしながら、アーム８２ｑの側面８２ｄに付着する液滴の原因が特に限られることはなく、様々な経緯でアーム８２ｑの側面８２ｄに付着することが考えられる。例えば、ノズル８１からウエハＷ上に供給されたＳＰＭ液などの流体がウエハＷで跳ね返され、これによって、流体の液滴がアーム８２ｑの側面８２ｄに汚れとして付着することが考えられる。

また上述の本実施の形態において、各ノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕのうち第１の薬液供給用アーム８２ｑに吸引機構７１が設けられている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、その他のアーム８２ｐ，８２ｒ〜８２ｕに吸引機構７１が設けられていてもよい。これによって、例えば上述のように第１の薬液供給用アーム８２ｑと同時に純水供給用アーム８２ｐが処理室２０内に進出している場合に、高温のＳＰＭ液のミストに起因して純水供給用アーム８２ｐの表面に付着した液滴を吸引機構７１によって吸引することができる。このことにより、純水供給用アーム８２ｐの表面に付着した液滴が薬液処理中にウエハＷ上に落下してしまうことを防ぐことができる。

アーム洗浄機構
また上述の本実施の形態および変形例において、ノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕの表面に付着した液滴を吸引する吸引機構７１が液処理装置１０に設けられる例を示した。しかしながら、ノズル支持アーム８２ｐ〜８２ｕを清浄に保つための機構が吸引機構７１に限られることはない。例えば図７や図１６に示すように、アーム８２ｐ〜８２ｕの洗浄を行うため、アーム８２ｐ〜８２ｕ毎に位置固定で設けられたアーム洗浄機構８８がさらに設けられていてもよい。若しくは、吸引機構７１の代わりにアーム洗浄機構８８が設けられていてもよい。アーム洗浄機構８８は、それぞれ対応するアーム８２ｐ〜８２ｕが移動する際に当該アーム８２ｐ〜８２ｕの洗浄を行うようになっている。このような各アーム洗浄機構８８による各アーム８２ｐ〜８２ｕの洗浄のタイミングは自由に設定できるようになっており、具体的には、各アーム８２ｐ〜８２ｕの洗浄は例えば処理毎に、または一日一回、あるいは月に一回行われるようになっている。

以下、アーム洗浄機構８８の構成の詳細について図１６および図１７を参照して説明する。図１６は、ノズル支持アーム８２およびアーム洗浄機構８８を示す側断面図であり、図１７は、アーム洗浄機構８８を斜め上方から見た場合を示す斜視図である。図１６に示すように、アーム洗浄機構８８は、上方位置にあるカップ外周筒５０の外側に設けられている。なおカップ外周筒５０が上方位置にあるとき、ウエハＷの周囲の領域は、外部から隔離されている。ここで「隔離」とは、ウエハＷの周囲の領域が外部から封止されている場合だけでなく、カップ外周筒５０の内部の領域と外部の領域との間における気体の連通が妨げられている場合も含む概念である。

図１６に示すように、アーム洗浄機構８８は、水平方向（図１６における左右方向）に延び、ノズル支持アーム８２（８２ｐ〜８２ｕ）が通過可能な貫通穴８８ｑが形成された洗浄用ブロック８８ｒを有している。貫通穴８８ｑの断面は、ノズル支持アーム８２の断面よりもわずかに大きくなっている。また洗浄用ブロック８８ｒには、以下に説明する、ノズル支持アーム８２を洗浄するための構成要素が設けられている。

図１６に示すように、洗浄用ブロック８８ｒには、ノズル支持アーム８２を洗浄するための洗浄液が収容される収容部分８８ａが、貫通穴８８ｑに連通するよう設けられている。また、収容部分８８ａには洗浄液供給管８８ｂが接続されており、洗浄液供給管８８ｂから収容部分８８ａに洗浄液が供給されるようになっている。収容部分８８ａに洗浄液が供給されると、この収容部分８８ａ内でノズル支持アーム８２の外周面上に液膜が張られるようになる。そして、収容部分８８ａに収容された洗浄液にノズル支持アーム８２（８２ｐ〜８２ｕ）の一部が接触しながら当該ノズル支持アーム８２が移動することにより、ノズル支持アーム８２の洗浄が行われる。

洗浄用ブロック８８ｒには、収容部分８８ａに収容された洗浄液が収容部分８８ａから外部に漏れた場合に、漏れた洗浄液を吸引して排液するための吸引機構が設けられていてもよい。吸引機構の配置は特には限られないが、例えば図１６に示すように、収容部分８８ａの前後にそれぞれ吸引機構８８ｃ、８８ｄが設けられている。吸引機構８８ｃ、８８ｄは、ノズル支持アーム８２が洗浄された後に、このノズル支持アーム８２に付着した液滴を吸引することにより、ノズル支持アーム８２の乾燥を行うために使用されてもよい。

また洗浄用ブロック８８ｒには、ノズル支持アーム８２の内部配管８２ｂに残留した薬液等の液体を回収するための排液部分８８ｅが設けられていてもよい。内部配管８２ｂから排液部分８８ｅに送られた液体は、排液部分８８ｅに接続されたドレン管８８ｆを介して外部に排出される。

アーム洗浄機構８８は、ノズル支持アーム８２の全体を洗浄するよう構成されていてもよく、あるいはノズル支持アーム８２の一部分のみを洗浄するように構成されていてもよい。

アーム洗浄機構８８の具体的な配置が特に限られることはないが、例えば図１６に示すように、アーム洗浄機構８８は、壁９０の開口８８ｐに取り付けられている。この場合、図１６に示すように、各アーム洗浄機構８８および各アーム８２ｐ〜８２ｕは、各アーム８２ｐ〜８２ｕがアーム待機部８０で待機しているときに、壁９０の開口８８ｐを塞ぐことができる。このことにより、処理室２０内の領域とアーム待機部８０の領域とを隔離することができる。また各アーム８２ｐ〜８２ｕは、各アーム８２ｐ〜８２ｕが待機しているときに、図１６に示すような上方位置にあるカップ外周筒５０の開口５０ｍをも塞ぐよう配置されてもよい。このことにより、カップ外周筒５０内の領域とアーム待機部８０の領域とを隔離することができる。

ところで、ノズル支持アーム８２の断面は、ノズル支持アーム８２が適切にカップ外周筒５０の開口５０ｍを通過することができるよう、開口５０ｍよりもわずかに小さく構成されている。このため、ノズル支持アーム８２がカップ外周筒５０の開口５０ｍを塞いでいる場合であっても、開口５０ｍとノズル支持アーム８２との間にはわずかな隙間が形成されている。この場合、図１７において矢印で示されているように、カップ外周筒５０の内部の領域において使用されている処理液が、開口５０ｍとノズル支持アーム８２との間の隙間を通ってカップ外周筒５０の外部に到達することが考えられる。例えば、カップ外周筒５０の内部の領域においてアーム８２ｑのノズル８１からウエハＷに向けて吐出されたＳＰＭ液が、ウエハＷによって跳ね返され、そしてＳＰＭ液の飛沫８８ｚとして開口５０ｍとノズル支持アーム８２との間の隙間を通ることが考えられる。このような飛沫８８ｚがカップ外周筒５０の外部の領域に到達し、その後に飛沫８８ｚが乾燥すると、乾燥した部分の一部がパーティクルとなってカップ外周筒５０の外部の領域を漂うことになる。また、パーティクルが開口５０ｍとノズル支持アーム８２との間の隙間を通ってカップ外周筒５０の内部の領域に入り込み、そして、パーティクルがウエハＷに付着してしまうことも考えられる。

ここで本変形例によれば、図１６および図１７に示すように、アーム洗浄機構８８の洗浄用ブロック８８ｒは、ウエハＷに対してＳＰＭ液などの処理液が供給されるときに、すなわちカップ外周筒５０が上方位置にあるときにカップ外周筒５０の外面に対向する端面８８ｓを有している。このため、カップ外周筒５０の開口５０ｍとノズル支持アーム８２との間の隙間を通ってカップ外周筒５０の外部に到達した処理液の飛沫８８ｚを、端面８８ｓによって受けることができる。すなわち、処理液の飛沫８８ｚを端面８８ｓに付着させることにより、処理液の飛沫８８ｚがカップ外周筒５０の外部の領域において拡散することを防ぐことができる。このことにより、カップ外周筒５０の外部の領域がパーティクルによって汚染されることを防ぐことができ、この結果、ウエハＷがパーティクルによって汚染されることを防ぐことができる。なお、端面８８ｓの形状や端面８８ｓとカップ外周筒５０の外面および開口５０ｍとの間の距離などは、カップ外周筒５０の内部の領域から飛来する処理液の飛沫８８ｚを端面８８ｓによって適切に遮断することができるよう、適宜設定されている。

ところで、洗浄用ブロック８８ｒの端面８８ｓに付着した処理液の飛沫８８ｚを放置しておくと、その後に飛沫８８ｚが乾燥し、乾燥した部分の一部がパーティクルとなってカップ外周筒５０の外部の領域を漂うことが考えられる。また、生成されたパーティクルがウエハＷに付着してしまうことも考えられる。このようなウエハＷの汚染を防ぐため、アーム洗浄機構８８は、洗浄用ブロック８８ｒの端面８８ｓを洗浄するブロック洗浄部８８ｔをさらに有していてもよい。図１８は、アーム洗浄機構８８を洗浄用ブロック８８ｒの端面８８ｓ側から見た場合を示す斜視図であって、洗浄用ブロック８８ｒに取り付けられたブロック洗浄部８８ｔの一例を示す斜視図である。

図１８に示すように、ブロック洗浄部８８ｔは、洗浄用ブロック８８ｒの端面８８ｓの上部に配置され、端面８８ｓにブロック洗浄液８８ｖを供給する供給口８８ｕを含んでいる。この場合、供給口８８ｕから端面８８ｓ上に供給されたブロック洗浄液８８ｖは、図１８において矢印で示すように、端面８８ｓに沿って下方へ流れる。これによって、端面８８ｓに付着している処理液の飛沫８８ｚを洗浄することができる。このため、洗浄用ブロック８８ｒの端面８８ｓがパーティクルの発生源となることを防ぐことができ、このことにより、ウエハＷがパーティクルによって汚染されることを防ぐことができる。

ブロック洗浄部８８ｔの供給口８８ｕから端面８８ｓ上に供給されるブロック洗浄液８８ｖの種類が特に限られることはなく、端面８８ｓに付着している処理液の飛沫８８ｚを洗浄することができる適切な液が用いられる。例えば、ブロック洗浄液８８ｖとして水が用いられ得る。

ブロック洗浄部８８ｔは、端面８８ｓに向けて空気やＮ２ガスなどの気体を吐出する吐出口をさらに有していてもよい。これによって、ブロック洗浄液８８ｖによって端面８８ｓを洗浄した後、端面８８ｓに向けて気体を吐出することが可能となり、このことにより、端面８８ｓを速やかに乾燥させることができる。なお、端面８８ｓに向けて気体を吐出するための吐出口と、端面８８ｓ上にブロック洗浄液８８ｖを供給するための供給口８８ｕとが、共通のものであってもよい。

ブロック洗浄部８８ｔを用いて洗浄用ブロック８８ｒの端面８８ｓを洗浄するタイミングが特に限られることはなく、自由に設定され得る。例えば、アーム８２ｑのノズル８１からＳＰＭ液をウエハＷに向けて吐出した後、各アーム８２ｐ〜８２ｕに対応するアーム洗浄機構８８においてそれぞれ、ブロック洗浄部８８ｔを用いた洗浄用ブロック８８ｒの端面８８ｓの洗浄が実施されてもよい。この際、ＳＰＭ液用のアーム８２ｑに対応するアーム洗浄機構８８においては、アーム８２ｑを処理室２０からアーム待機部８０に向けて移動させている間に、ブロック洗浄部８８ｔを用いた洗浄用ブロック８８ｒの端面８８ｓの洗浄が実施されてもよい。これによって、液処理装置１０におけるスループットが低下してしまうことを抑制しながら、洗浄用ブロック８８ｒの端面８８ｓの洗浄を実施することができる。

１０ 液処理装置
２０ 処理室
２１ 保持部
７１ 吸引機構
７３ 吸引管
７８ 吸引部
８１ ノズル
８２ ノズル支持アーム
８８ アーム洗浄機構
８８ｒ 洗浄用ブロック
８８ｔ ブロック洗浄部

Claims (14)

1. 基板を保持する基板保持部が内部に設けられた処理室と、
   前記基板保持部に保持された基板に対して処理液を供給するためのノズルと、
   前記ノズルを支持するノズル支持アームと、を備え、
   前記ノズル支持アームに、前記ノズル支持アームの表面に形成された吸引部と、前記吸引部を介して前記ノズル支持アームの表面に付着した液滴を吸引する吸引管と、を含む吸引機構が設けられ、
   前記ノズル支持アームは、水平方向に延びており、
   前記吸引機構の前記吸引部は、前記ノズル支持アームの下端部に形成されていることを特徴とする液処理装置。
2. 前記ノズル支持アームの表面に、前記吸引機構の前記吸引部に至るよう延びる溝が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
3. 前記ノズル支持アームが、少なくとも前記吸引機構の前記吸引部の近傍において、下方に向かうにつれて先細になる形状を有していることを特徴とする請求項１または２に記載の液処理装置。
4. 前記ノズルが、下方に向かうにつれて先細になる形状を有していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液処理装置。
5. 前記ノズル支持アームの表面を構成する材料が、少なくとも前記吸引機構の前記吸引部の近傍において、親水性材料からなっていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液処理装置。
6. 前記吸引機構の前記吸引部が、前記ノズル支持アームの長手方向に沿って所定のピッチで形成された複数の吸引口を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液処理装置。
7. 前記ノズル支持アームの長手方向において、各吸引口の寸法は０．５〜１．０ｍｍの範囲内となっており、
   隣接する２つの前記吸引口間の前記ピッチは、１．０〜５．０ｍｍの範囲内となっていることを特徴とする請求項６に記載の液処理装置。
8. 前記吸引機構の前記吸引部が、前記ノズル支持アームの長手方向に沿って延びるスリットを含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液処理装置。
9. 前記基板に対して処理液が供給されるときに前記基板の周囲の領域を外部から隔離するよう構成され、前記ノズル支持アームが通過可能な開口が設けられた円筒状のカップ外周筒と、
   前記カップ外周筒の外側に設けられ、前記ノズル支持アームを洗浄するアーム洗浄機構と、をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の液処理装置。
10. 前記アーム洗浄機構は、前記ノズル支持アームが通過可能な貫通穴が形成された洗浄用ブロックを有し、
    前記洗浄用ブロックは、前記カップ外周筒の外面に対向する端面を含むことを特徴とする請求項９に記載の液処理装置。
11. 前記アーム洗浄機構は、前記洗浄用ブロックの前記端面を洗浄するブロック洗浄部をさらに有することを特徴とする請求項１０に記載の液処理装置。
12. 前記ブロック洗浄部は、前記洗浄用ブロックの前記端面の上部に配置され、前記端面にブロック洗浄液を供給する供給口を含む請求項１１に記載の液処理装置。
13. 処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を保持させることと、
    ノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持された基板に流体を供給することと、
    前記ノズル支持アームに設けられた吸引機構により、前記ノズル支持アームの表面に付着した液滴を吸引することと、を備え、
    前記ノズル支持アームは、水平方向に延びており、前記吸引機構は、前記ノズル支持アームの下端部に形成されている吸引部から前記液滴を吸引することを特徴とする液処理方法。
14. 前記ノズル支持アームに設けられた吸引機構により、前記ノズル支持アームの表面に付着した液滴を吸引することが、前記ノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持された基板に流体を供給することの間に実施されることを特徴とする請求項１３に記載の液処理方法。

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