JP5151007B2 - 転写箔用ポリエステルフィルム - Google Patents

Description

本発明は、転写箔用ポリエステルフィルムに関するものである。更に詳しく述べれば、本発明は、転写後の成形品表面の光沢性に優れた、インモールド成形用途などに好適な転写箔用ポリエステルフィルムに関するものである。

ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに代表される２軸配向ポリエステルフィルムは、良好な機械強度、熱的特性、湿度特性およびその他多くの優れた特性から、工業材料、磁気記録材料および包装材料など広い分野において使用されている。

一般的に転写箔は、基材であるポリエステルフィルムの片面に、順次、易接着層、離型層、印刷層および接着層などを積層して構成される。これら転写箔の転写方法としては、転写装置を用いて加熱ロールで被転写物に転写する、いわゆるホットスタンピング方法や、射出成形機やブロー成形機の金型に接着層が成形樹脂と接するように転写材をセッティングした後、成形樹脂を射出またはブローし、成形と同時に転写し、冷却後金型より成形品を取り出す、インモールド成形に代表される、いわゆる成形同時転写方法などが一般的に知られている。このような転写法は、家庭用電化製品、自動車内装品、台所用品、化粧容器、玩具類および文具類などに使用されるプラスチック成形品で用いられている。

一方、近年は、プラスチック成形品に対する易成形性と意匠性等に関する種々の要求が高くなってきており、例えば、柔軟性に優れ被転写物表面形状への追従性と深絞り加工性等に優れた転写箔（特許文献１参照）や、ＰＥＴとポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）を共重合またはブレンドして加工性を向上させたもの（特許文献２および特許文献３参照）などが提案されている。

しかしながら、最近は、生産効率の向上や、より高い意匠性を実現するためのさらに高度な改良が求められている。例えば、転写工程において転写箔が静電気を帯びると印刷工程でヒゲが発生したり埃が付着したりとトラブルの原因となる。また例えば、金属代替品などでは、転写後の成形品表面に高光沢度を要求されている。
特開平６−２１０７９９号公報 特開平１０−１７６８３号公報 特開２００１−３５４８４３号公報

かかる状況に鑑み、本発明は、このような欠点を改良し、転写後の成形品表面の光沢性に優れた、インモールド成形用途などに好適な転写箔用ポリエステルフィルムを提供することを目的とするものである。

かかる目的を達成するため、本発明の転写箔用積層ポリエステルフィルムは下記の構成からなるものである。すなわち、少なくとも転写面側の表面において、中心面平均粗さ（ＳＲａ）の値が４．５〜６．２ｎｍ、２００ｎｍ〜８００ｎｍの突起数が全突起数の３．４％〜１７．０％、自乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）の値が９．９〜１６．１ｎｍであり、転写面の反対面に、帯電防止層を有し、該帯電防止層表面の表面比抵抗が１×１０ ^１０ Ω／□以下であることを特徴とする二軸配向転写箔用ポリエステルフィルムである。

そして、本発明の二軸配向転写箔用ポリエステルフィルムは、次の好ましい態様を有するものである。
（ａ）インモールド成形用であること。
（ｂ）前記の帯電防止層が、水性塗液塗布可能な成分により形成された、塗膜層であること。
（ｃ）前記の帯電防止層が、ポリチオフェンおよび／またはポリチオフェン誘導体を含むこと。
（ｄ）前記の転写面側に易接着層を有すること。
（ｇ）前記の易接着層が、水性塗液塗布可能な成分により形成された、塗膜層であること。
（ｅ）前記の易接着層が、ポリエステル樹脂を含むこと。
（ｆ）ポリエステルフィルムを構成するポリエステルの重合触媒として、チタン系化合物が使用されていること。

本発明によれば、転写後の成形品表面の光沢性、また加工時の帯電防止性や易接着性に優れた、インモールド成形用途などに好適な転写箔用ポリエステルフィルムを作成することができる。

以下、本発明の転写箔用ポリエステルフィルムについてさらに詳細に説明する。本発明の転写箔用ポリエステルフィルムの基材であるポリエステルフィルムは、基本的にポリエステルで構成されている。

本発明で用いられるポリエステルとは、エステル結合を主鎖の主要な結合鎖とする高分子化合物であり、ジカルボン酸とジオールの重縮合によって得ることができる。ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、フタル酸等の芳香族ジカルボン酸、シュウ酸、コハク酸、エイコ酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、ドデカンジオン酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪族ジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸、トリメリット酸、およびピロメリット酸等の多官能酸等を挙げることができる。一方、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールおよびトリエチレングリコール等の脂肪族グリコール、ビスフェノールＡやビスフェノールＳなどの芳香族グリコール、ジエチレングリコール、およびポリテトラメチレングリコール等を挙げることができる。

ポリエステル中には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、有機および無機の粒子、顔料、染料、充填剤、帯電防止剤および核剤などが、本発明の効果を損なわない範囲で添加されていてもよい。

また、ポリエステルの重合触媒として、チタン系触媒を用いると、凝集物が少なくなりより好ましい様態である。チタン系重合触媒の種類としては、例えば、チタンテトラブトキシドやチタンテトライソプロポキシドなどのチタンアルコキシド、主たる金属元素がチタンおよびケイ素からなる複合酸化物やチタン錯体などを、得られたポリエステルに対してチタン原子換算で０．０００５〜０．１５重量％用いることが好ましい。そのようにして得られたポリエステルには、チタン系触媒が含まれるものであり、それは場合によっては、重合触媒機能が失活していることもある。

本発明で基材として用いられるポリエステルフィルムは、単層または多層構成のいずれでもよいが、多層構成とすれば、内層と外層で異なるポリエステル処方をとることができ、フィルムの表面設計上好ましい様態である。

本発明の転写箔用ポリエステルフィルムの総厚みは、本発明の転写箔用ポリエステルフィルムが使用される用途に応じて適宜選択されるため特に限定されないが、機械的強度、ハンドリング性および生産性などの点から、好ましくは１２〜１８８μｍであり、最も好ましくは３０〜１００μｍである。

本発明において、少なくとも転写面側の表面において、中心面平均粗さ（ＳＲａ）の値が１５ｎｍ以下であることが本発明の目的達成のために必要であり、この中心面平均粗さ（ＳＲａ）は好ましくは１２ｎｍ以下であり、さらに好ましくは９ｎｍ以下であり、最も好ましくは６ｎｍ以下である。すなわち、転写面側表面を高平滑とすることで、転写面側に順次積層される離型層、保護層および印刷層なども高平滑となるため、転写後の被転写物表面も高平滑となり、その結果として、成形品表面の光沢度が増すためである。かかる転写面側表面の中心面平均粗さ（ＳＲａ）の値が１５ｎｍを超える場合、所望の光沢度が得られない。また、ＳＲａの値の下限は特に限定されないが、製膜安定性や製膜後のスリット性や加工時のフィルム搬送性などの点から１ｎｍ以上が好ましい。

また、本発明ではそれと同時に、自乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）の値が２０ｎｍ以下であることが好ましく、自乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）の値はさらに好ましくは１５ｎｍ以下であり、最も好ましくは１０ｎｍ以下である。自乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）の値は、その求式が自乗和の平均値の平方根であることから、より大きい突起が多いほど値は大きくなる。そのため、大きい突起数の目安となる値である。あまりに大きい突起は平滑性に大きく影響するばかりでなく、表面キズなどの原因にもなりうるため、その突起数の設計は重要な課題である。かかる自乗平均平方根粗さＲＭＳの値が２０ｎｍを超える場合、光沢度が低下して好ましくない。また、ＲＭＳの値の下限は特に限定されないが、製膜後のスリット性や加工時のフィルム搬送性の点から１ｎｍ以上が好ましい。

さらに本発明においては、少なくとも転写面側表面の突起分布について、２００ｎｍ以上の突起数が全突起数の１％以上であることが必要であり、３％以上であることが好ましい。また、２００ｎｍ〜８００ｎｍの突起数は全突起数の３％〜２０％であることが好ましく、最も好ましくは５％〜１５％である。２００ｎｍ以上の突起が存在することは、スリット時の巻き性や耐ブロッキング性向上の観点から重要である。２００ｎｍ未満の突起では、上記特性の効果が薄く、また、８００ｎｍを超える突起では平滑性に影響がある。２００ｎｍ以上の突起の存在比としては、１％未満であると上記特性の効果が薄く、２０％を超えると平滑性に影響がある。

上記の表面状態を達成するための方法は特に限定されないが、特定の粒子径・粒度分布を有する有機または／および無機の粒子を基材ポリエステルフィルム中、もしくは基材ポリエステルフィルム上のコート層中に含有させる方法等が挙げられる。

有機粒子としては、例えば、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラミン樹脂およびベンゾグアナミン樹脂などが挙げられる。また、該無機粒子としては、例えば、シリカ、コロイダルシリカ、数珠状シリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、クレー、炭酸カルシウム、および金属酸化物（酸化スズなど）などが好ましく用いられる。これらの有機粒子および無機粒子は、形状としては球状の単分散粒子を用いることが好ましい。また、粒子の大きさとしては、平均粒子径が０．００１〜６μｍであることが好ましく、より好ましくは０．０１〜３μｍであり、最も好ましくは０．０５〜１．５μｍである。また、粒子の脱落を防止するために、粒子は基材ポリエステルフィルム中に含有させることが好ましい。

該粒子の含有量としては、特に限定されないが、各層を形成する樹脂の合計に対して０．０００１〜５０重量％を、好ましい範囲として挙げることができる。

また、基材ポリエステルフィルムとして、複合フィルムの構成（多層構成）を採用し、外層の厚みを、外層に添加する粒子の平均粒子径にあわせて設計することが好ましい。外層の厚みと平均粒子径を近づけることにより、表面のうねりによる凹凸を除去することができ、より平滑な面を設計できるためである。加えて、平均粒子径０．５μｍ以下の粒子と０．５μｍ以上１．５μｍ以下の粒子を併用することにより、フィルムをロール状に巻いた時の層間の空気を抜くための適度に高い突起を有しながら、小さい突起で滑り性を発現し、かつ中心面平均粗さ（ＳＲａ）や自乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）を小さく抑えることができる。

本発明の転写箔用ポリエステルフィルムは、非転写面（転写面の反対面）に帯電防止層を有することが好ましい。帯電防止層を有することにより、静電気の発生を抑えることができるので、加工時の埃の付着やヒゲの発生などによるトラブルを低減させる効果があり、飛躍的な歩留まりの向上が期待できる。

帯電防止層を付与する方法としては、多層構成として外層に練りこむ方法や、フィルム製膜後にオフラインにてコートする方法などがあるが、帯電防止層は、フィルム製造時における環境汚染防止や防爆性、製造コストなどの点から、水性塗液を塗布後少なくとも一方向に延伸されて形成される塗膜層であることが好ましく、ポリエステルフィルムを二軸配向する製造工程内で形成されることが好ましい。該延伸のタイミングは特に限定されないが、水性塗液を塗布した後に二軸延伸する方法、あるいは、縦（フィルムの長手方向）延伸後に水性塗液を塗布しさらに横延伸する方法が好ましく用いられる。該水性塗液の塗布方法としては、各種の塗布方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法およびスプレーコート法などを好ましく用いることができるが、これらに限定されるものではない。

本発明のおける帯電防止層の厚さは、通常は１０〜１０００ｎｍが好ましく、より好ましくは１５〜２００ｎｍであり、最も好ましくは３０〜１００ｎｍである。帯電防止層の厚さが薄すぎると、帯電防止性機能が不良となる。また、帯電防止層の厚さが厚すぎると、外観が劣ったり、帯電防止層が転写材の製造工程および転写工程で脱落したり、転写箔用フィルムの製造コストが高くなる。

また、本発明における帯電防止層中には、本発明の効果が損なわれない範囲内で、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機または無機の微粒子、充填剤、耐電防止剤、および核剤などを配合しても良い。易滑剤や微粒子については、フィルムのすべり性を向上させ、取り扱いを容易にする効果がある。易滑剤や微粒子の平均粒径は、帯電防止層厚みの５０％〜５００％の大きさのものが好ましい。その平均粒径が５０％未満では易滑効果が不十分であり、５００％を超えると易滑剤や微粒子が脱落しやすい。また、配合されるポリエステル樹脂は、基材ポリエステルフィルムとの密着性を高める効果が期待される。

帯電防止層表面の表面比抵抗は、好ましくは１×１０^１０Ω／□以下であり、さらに好ましくは１×１０^８Ω／□以下であり、最も好ましくは１×１０^６Ω／□以下である。表面比抵抗が１×１０^１０Ω／□を超えると、帯電防止性能が劣り、加工工程でのトラブルを改善することが難しい。表面比抵抗の下限値は特に限定されるものではないが、製造コストや製膜安定性の観点から１×１０^２Ω／□以上であることが好ましい。

このような特性を満たす帯電防止層に用いられる帯電防止剤としては、例えば、カチオン性導電体である４級アンモニウム塩基を有する化合物や共役電子性導電体であるポリアニリン系導電剤、酸化スズ系導電剤、およびポリチオフェン系導電剤などが挙げられる。一般的に広く使用されているスルホン酸基などを有するアニオン性導電体は、湿度による帯電防止性能の変化が大きく、また耐水性にも劣るため好ましくない。カチオン性導電体である４級アンモニウム塩基を有する化合物を使用した場合は、比較的湿度による帯電防止性能の変化が小さく、また耐水性も比較的強いため、使用することが可能である。一方、共役電子導電体であるポリアニリン系導電剤、酸化スズ系導電剤およびポリチオフェン系導電剤を使用した場合は、その電子導電メカニズムが空気中の水分に依らないため、湿度による帯電防止性能の変化量が非常に小さく好適である。なかでも、特にポリチオフェンおよびポリチオフェン誘導体を用いた場合は、加えて塗膜の透明性や基材ポリエステルフィルムとの密着性および塗布外観に優れており特に好ましい態様である。

カチオン系導電体である４アンモニウム塩基を有する化合物とは、分子鎖の主鎖や側鎖に、４級アンモニウム塩基を含む構成要素を持つ化合物のことであり、それらの構成要素としては、例えば、ピロリジウム環、アルキルアミンの４級化合物、さらにこれらをアクリル酸やメタクリル酸と共重合したもの、Ｎ−アルキルアミノアクリルアミドの４級化合物、およびビニルベンジルトリメチルアンモニウム塩等を挙げることができる。４級アンモニウム塩基の対イオンとなるアニオンとしては、例えば、ハロゲン、アルキルサルフェート、アルキルスルホネート、および硝酸などが挙げられる。また、４級アンモニウム塩基を有する化合物は高分子化合物であることが望ましい。分子量が低すぎる場合は、帯電防止層表面から逆面側、あるいは工程中のロールや金型などに帯電防止剤が転移し、逆面側の接着不良の原因となったり、製品の欠点となることがある。４級アンモニウム塩基を有する化合物の数平均分子量は、通常２０００以上さらには５０００以上であることが好ましい。また、分子量が大きくなりすぎると、塗布液の粘度が高くなりすぎたり、延伸時の追従性が悪化するなどの問題があるため、数平均分子量は１０００００以下であることが好ましい。

共役電子導電体であるポリチオフェンおよびポリチオフェン誘導体は、例えば、下記の一般式（１）または下記の一般式（２）で示される化合物を、ポリ陰イオンの存在下で重合することによって得ることができる。

上記の一般式（１）において、Ｒ１とＲ２は、それぞれ独立に、水素元素、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、もしくは芳香族炭化水素基をあらわし、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、シクロヘキシレン基およびフェニル基などである。また、上記の一般式（２）では、ｎは１〜４の整数である。

本発明の転写箔用ポリエステルフィルムにおいては、上記の一般式（２）で示される構造式からなるポリチオフェンまたはポリチオフェン誘導体を用いることが好ましく、例えば、一般式（２）で、ｎ＝１（メチレン基）、ｎ＝２（エチレン基）およびｎ＝３（プロピレン基）の化合物が好ましい。中でも特に好ましいのは、ｎ＝２のエチレン基の化合物、すなわち、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェンである。ポリチオフェンまたはポリチオフェン誘導体としては、例えば、チオフェン環の３位と４位の位置に官能基が結合した化合物が例示される。上記のとおり、３位と４位の炭素原子に酸素原子が結合した化合物が好ましい。該炭素原子に直接炭素原子あるいは水素原子が結合した構造を有する化合物については、塗液の水性化が容易でない場合がある。

本発明の転写箔用ポリエステルフィルムにおいては、その帯電防止処理層に上記ポリチオフェンとポリ陰イオンからなる組成物、または、上記ポリチオフェン誘導体とポリ陰イオン化合物からなる組成物を含有させることが好ましい。

本発明におけるポリ陰イオン化合物は、遊離酸状態の酸性ポリマーであり、高分子カルボン酸、あるいは、高分子スルホン酸、ポリビニルスルホン酸などが好ましい化合物として挙げられる。高分子カルボン酸としては、例えば、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸およびポリマレイン酸が例示される。高分子スルホン酸としては、例えば、ポリスチレンスルホン酸が例示される。中でも、ポリスチレンスルホン酸が導電性の点で最も好ましい。遊離酸の一部が中和された塩の形をとってもよい。これらポリ陰イオンを重合時に用いることにより、本来、水に不溶なポリチオフェン系化合物を水分散あるいは水性化しやすく、かつ、酸としての機能がポリチオフェン系化合物のドーピング剤としての機能も果たすものと考えられる。

本発明においては、高分子カルボン酸や高分子スルホン酸は、共重合可能な他のモノマー、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルおよびスチレンなどと共重合した形で用いることもできる。ポリ陰イオン化合物として用いられる高分子カルボン酸や高分子スルホン酸の分子量は特に限定されないが、塗剤の安定性や導電性の点で、その重量平均分子量は１０００〜１００００００が好ましく、より好ましくは５０００〜１５００００である。また、本発明の特性を阻害しない範囲で、一部リチウム塩やナトリウム塩などのアルカリ塩やアンモニウム塩などを含んでも良い。中和された塩の場合も、非常に強い酸として機能するポリスチレンスルホン酸とアンモニウム塩は、中和後の平衡反応の進行により、酸性側に平衡がずれることが分かっており、これによりドーパントとして作用するものと考える。

本発明において、ポリチオフェンまたはポリチオフェン誘導体に対して、ポリ陰イオン化合物は、固形分重量比で過剰に存在させた方が導電性の点で好ましく、ポリチオフェンまたはポリチオフェン誘導体が１重量部に対し、ポリ陰イオン化合物は１重量部から５重量部が好ましく、より好ましくは１重量部から３重量部である。

また、上記ポリチオフェンまたはポリチオフェン誘導体とポリ陰イオン化合物からなる組成物は、例えば、特開平６−２９５０１６号公報、特開平７−２９２０８１号公報、特開平１−３１３５２１号公報、特開２０００−６３２４号公報、ヨーロッパ特許ＥＰ６０２７３１号明細書および米国特許ＵＳ５３９１４７２号明細書などに記載の方法により製造することができるが、これら以外の方法であってもよい。

例を挙げると、３，４−ジヒドロキシチオフェン−２，５−ジカルボキシエステルのアルカリ金属塩を出発物質として、３，４−エチレンジオキシチオフェンを得た後、ポリスチレンスルホン酸水溶液にペルオキソ二硫酸カリウムと硫酸鉄と、先に得た３，４―エチレンジオキシチオフェンを導入し、反応させ、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）などのポリチオフェンに、ポリスチレンスルホン酸などのポリ陰イオン化合物が複合体化した上記の組成物を得る。

本発明における帯電防止処理層は、上記ポリチオフェンまたはポリチオフェン誘導体とポリ陰イオン化合物からなる組成物と架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤としては、例えば、メラミン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、イソシアネート系架橋剤およびアクリルアミド系架橋剤などを用いることができる。該架橋剤は、分子量が１０００以下の架橋剤であることが好ましく、より好ましくは８００以下であり、さらに好ましくは６００以下である。特に水溶性かつ分子量１０００以下の架橋剤を用いることで、延伸工程での柔軟性や流動性が発現し、積層膜を形成する混合体の乾燥後の延伸追従性を高め、塗膜の亀裂による白化現象を抑制し、透明性が付与される。分子量が大きくなりすぎた場合は、塗布、乾燥後の延伸時において塗膜に亀裂が入るため透明性が低下する傾向がある。また、エポキシ系架橋剤の熱減量率５％となる温度は２３０℃以上であることが好ましく、より好ましくは２５０℃以上であり、特に好ましくは２７０℃以上である。熱減量率５％となる温度が２３０℃未満の場合、ポリエステルフィルムの製造工程、特に横延伸〜熱処理のオーブン中にエポキシ成分が分散され工程を汚すことがある。

上記架橋剤としては、特にエポキシ系架橋剤、特に水溶性エポキシ系架橋剤が特に好ましく、透明性、帯電防止性および塗膜外観に優れた帯電防止層を形成することができる。エポキシ系架橋剤の種類は特に限定はされないが、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル系、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル系、ジグリセロールポリグリシジルエーテル系、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル系およびポリエチレングリコールジグリシジルエーテル系などを用いることができる。例えば、ナガセケムテック株式会社製エポキシ化合物“デナコール”（登録商標）（ＥＸ−６１１、ＥＸ−６１４、ＥＸ−５１２、ＥＸ−５２１、ＥＸ−４１２、ＥＸ−３１３、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８３０，ＥＸ−８５０など）、坂本薬品工業株式会社製のジエポキシ・ポリエポキシ系化合物（ＳＲ−ＥＧ、ＳＲ−８ＥＧ，ＳＲ−ＧＬＧなど）、大日本インキ工業株式会社製エポキシ架橋剤“ＥＰＩＣＬＯＮ” （登録商標）ＥＭ−８５−７５Ｗ、あるいはＣＲ−５Ｌなどを好適に用いることができる。

上記、ポリチオフェンまたはポリチオフェン誘導体とポリ陰イオン化合物からなる組成物の固形分と架橋剤の固形分の混合比は、ポリチオフェンまたはポリチオフェン誘導体とポリ陰イオン化合物からなる組成物の固形分量と架橋剤の固形分量の和を１００重量部としたとき、架橋剤の固形分量は３０重量部〜９０重量部が好ましく、より好ましくは５０重量部〜８５重量部である。架橋剤の固形分量が９０重量部よりも多い場合は、帯電防止性が発現しにくくなる。また、架橋剤の固形分量が３０重量部よりも少ない場合は、帯電防止層にクラックが生じやすく、透明性が劣ったり、帯電防止性が発現しにくくなる。

本発明の転写箔用ポリエステルフィルムは、転写面に易接着層を有することが好ましい。転写箔は、その工程において、順次、易接着層、離型層および印刷層などを積層させ機能を発現させるが、基材ポリエステルフィルムの製膜工程で易接着層を積層させることは、加工工程において易接着層を設ける工程を省略することができるので、製造コストや加工時間の点から好ましい態様である。

転写面に易接着層を付与する方法としては、多層構成として外層に練りこむ方法や、フィルム製膜後にオフラインにてコートする方法などがあるが、易接着層はフィルム製造時における環境汚染防止や防爆性、製造コストなどの点から、水性塗液を塗布後少なくとも一方向に延伸されて形成される塗膜層であることが好ましく、基材ポリエステルフィルムを二軸配向する製造工程内で形成されることがさらに好ましい。該延伸のタイミングは特に限定されないが、水性塗液を塗布した後に二軸延伸する方法、あるいは、縦（フィルムの長手方向）延伸後に水性塗液を塗布しさらに横延伸する方法が好ましく用いられる。該水性塗液の塗布方法としては、各種の塗布方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法およびスプレーコート法などを好ましく用いることができるが、これらに限定されるものではない。

易接着層の厚みは、１０〜２０００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１０００ｎｍである。易接着層の厚みが薄すぎると離型層との接着性や耐溶剤性が不足する場合があり、厚すぎると易滑性やフィルムロールとしたときの耐ブロッキング性、製膜安定性が低下する場合がある。

また易接着層は、ポリエステル樹脂を含むことが好ましい。易接着層にポリエステル樹脂を用いると基材ポリエステルフィルムとの親和性が高いため界面剥離や削れが発生しにくく、さらに水性塗布の場合には塗布外観が良くなる。また製造コストや離型層との接着力の観点からもポリエステル樹脂であることが好ましい。

水性塗液として塗布するためには、易接着層に含有されるポリエステルは、共重合成分として、スルホン酸塩基を含む化合物や、カルボン酸塩基を含む化合物を含む共重合ポリエステルであることが好ましい。スルホン酸塩基を含む化合物としては、例えば、スルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホイソフタル酸、４−スルホナフタレン−２，７−ジカルボン酸等あるいはこれらのアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩およびアンモニウム塩を用いることができるが、これらに限定されるものではない。カルボン酸塩基を含む化合物としては、例えば、トリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、４−メチルシクロヘキセン−１，２，３−トリカルボン酸、トリメシン酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフルフリル）−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、エチレングリコールビストリメリテート、２，２’，３，３’−ジフェニルテトラカルボン酸、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸、エチレンテトラカルボン酸など、あるいはこれらのアルカリ金属塩、およびアルカリ土類金属塩およびアンモニウム塩などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。

易接着層に含有されるポリエステルは、また、共重合成分として、ジエチレングリコールを含有する共重合ポリエステルであることが好ましい。該成分を共重合成分とすることで、特にアルコールに対する易接着層の耐溶剤性が向上できるし、また、基材ポリエステルフィルムとの親和性を向上させることができる。その他の共重合成分として、公知のジカルボン酸およびジオールを用いることができるが、その例として前記したジカルボン酸やジオールを挙げることができるが、それらに限定されるものではない。また、前記したスルホン酸塩基を含む化合物や、カルボン酸塩基を含む化合物を共重合成分として含むこともできる。該共重合ポリエステルの好ましいガラス転移点の範囲は０〜６０℃であり、さらに好ましくは１０〜４５℃である。

ジエチレングリコールを共重合成分として含む共重合ポリエステルの含有量は、易接着層を形成する樹脂の合計に対して１０〜６０重量％が好ましく、さらに好ましくは２０〜５０重量％である。該含有量が少なすぎると耐溶剤性や基材ポリエステルフィルムとの接着力に劣る場合があり、多すぎるとフィルムロールとしたときの耐ブロッキング性に劣る場合がある。

易接着層を形成するジエチレングリコールを共重合成分とする共重合ポリエステル以外の樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲で特に限定されるものではないが、例えば、その他のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、尿素樹脂およびフェノール樹脂などを挙げることができ、なかでも特にその他のポリエステル樹脂を好ましく挙げることができる。

また、本発明における易接着層中には、本発明の効果が損なわれない範囲内で、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機または無機の微粒子、充填剤、耐電防止剤、核剤などを配合しても良い。

本発明の転写箔用ポリエステルフィルムを構成するポリエステルフィルムは、２軸配向されたフィルムであることが好ましい。２軸配向ポリエステルフィルムとは、無延伸状態のポリエステルシートまたはフィルムを、長手方向および幅方向に、いわゆる２軸方向に延伸することによって作られるものであり、広角Ｘ線回折で２軸配向のパターンを示すものである。２軸方向へ延伸する方法は、逐次２軸延伸法、同時２軸延伸法のどちらでもよいが、同時２軸延伸の場合は、平滑なフィルム表面にキズがつきにくく、また低速でオンラインコートができる等の利点がある。そのフィルム構成は、単層でもよいし、また、異なる組成のポリエステル組成物Ａ、Ｂ、Ｃにより構成される積層構成、例えば、Ａ／Ｂの２層構成、Ａ／Ｂ／ＡあるいはＡ／Ｂ／Ｃの３層構成、３層よりも多層の積層構成でもよい。その際の積層厚み比も任意に設定してよいが、外層は表面のうねりを除去して平滑性を増加させるために添加する粒子径にあわせて設計することが好ましい。これらの積層構成は共押出しによる積層フィルムとして製造することができる。特にＡ／Ｂの２層構成の場合は、粒子が少なく表面が平滑で転写後の光沢性に優れた層を転写層側に、易滑粒子を多く含み取り扱い性と巻き取り性に優れた層を帯電防止層側に接合する構成とすることができるため、転写後の光沢性とフィルムの取り扱い性の両者を同時に達成しやすく特に好ましい態様である。また、基材ポリエステルフィルムの厚さは特に限定されないが、好ましくは１２〜１８８μｍであり、最も好ましくは３０〜１００μｍである。

本発明の転写用ポリエステルフィルムにおいては、ヘイズ値が５％未満であることが好ましく、さらに好ましくは３％未満である。ヘイズ値が５％を超える場合、フィルムの透明性が損なわれるため、転写材の検査時に印刷図柄の欠点などが判定しにくいなども問題が生じることがある。ヘイズ値は、例えば、基材ポリエステルフィルムに含まれる滑剤の含有量や帯電防止処理層中に含まれる滑剤の含有量、帯電防止処理層中に含まれる各種成分を前述の好ましい範囲に調整することなどで達成される。

本発明の転写用ポリエステルフィルム中において、長径５０μｍ以上であるの金属触媒凝集物と粗大粒子および異物個数の合計は、５０ヶ／１０００ｃｍ^２以下（０ヶ／１０００ｃｍ^２を含む）であることが好ましく、さらに好ましくは３０ヶ／１０００ｃｍ^２以下であり、特に好ましくは１０ヶ／１０００ｃｍ^２以下である。これらのフィルム中の異物個数の合計が５０ヶ／１０００ｃｍ^２を超えると、異物部分が表面に突起を形成し、転写後の図柄に欠点として転写されることがある。これら金属触媒凝集物、粗大粒子および異物の個数を低減する方法は特に限定されないが、例えば、製膜時のポリエステル樹脂のフィルターとして、平均目開きが好ましくは５〜１５μｍ、より好ましくは５〜１０μｍのステンレス鋼繊維を焼結圧縮したフィルター（ＦＳＳ）を使用することが好ましい。また、上記ステンレス繊維を焼結圧縮したフィルターの後に、平均目開きが１０〜３０μｍのステンレス鋼粉体を焼結したフィルター（ＰＳＳ）をこの順で連続濾過する、あるいは一つのカプセル中に上記２種類のフィルターを併せ持つ複合フィルター（ＦＰ）を使用することで、触媒凝集物や粗大粒子を取り除くことができると同時に、製膜エッジや巻き芯部分をリサイクルチップとして再利用した時に生じやすい樹脂のゲル化物や熱劣化物を効率良く取り除くことができるため、リサイクルチップを多く使用できたり、かつフィルター寿命が長くなるため生産性が向上する。

［特性の測定方法および効果の評価方法］
本発明における特性の測定方法および効果の評価方法は、次のとおりである。

（１）表面比抵抗
表面比抵抗の測定は、試料を測定条件（温度２５℃、相対湿度６５％）において２４時間放置後、その雰囲気下でデジタル超高抵抗／微小電流計Ｒ８３４０Ａ（アドバンテスト（株）製）を用い、印可電圧１００Ｖで１０秒間印可後測定を行った。

（２）基材ポリエステルフィルム中の金属触媒凝集物、粗大粒子および異物個数
ポリエステルフィルム中に含まれる金属触媒凝集物および粗大粒子および異物個数は、偏光顕微鏡（４０倍）を用い長径５０μｍ以上の基材ポリエステルフィルム中に含まれる金属触媒凝集物および粗大粒子および異物を１０００ｃｍ^２に渡り観察し、その合計をカウントした。

（３）フィルムの表面粗さ（ＳＲａ、ＲＭＳ）
非接触式光干渉型３次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製、Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ２００）を用い、以下の条件で任意の５点を測定し、その平均値を求めた。中心面平均粗さ（ＳＲａ）は、粗さ曲面と粗さ曲面の中心面との高さ方向との差をとり、その絶対値の平均値を表したものである。また、自乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）は、粗さ曲面と粗さ曲面の中心面との高さ方向との差をとり、その二乗の平均値の平方根を表したものである。
・画素数 ３２０×２４０画素
・走査速度 ２μｍ／秒
・倍率 ２０倍
・測定面積 ０．３５２ｍｍ×０．２６４ｍｍ
・補正 円柱補正
・カットオフ波長 ０．４４ｍｍ、４．４μｍ
・フィルタートリミング ＯＮ
・フィルタータイプ ＦＦＴ ＦＩＸＥＤ
・フィルター Ｂａｎｄ Ｒｅｊｅｃｔ
・ＦＤＡ Ｒｅｓ Ｈｉｇｈ
（４）フィルム表面の突起数
３次元表面粗さ計（小坂研究所製、ＥＴ−３０ＨＫ）を用い、次の条件で触針法により測定を行った。横軸に突起高さＺ（ｎｍ）をとり、縦軸に突起のＣＯＵＮＴ数をとったヒストグラムを作成し、それぞれのＣＯＵＮＴ数をその突起高さの突起数とした。また、突起高さＺは、フィルムの基準面に平行な面で３次元粗さ曲面を切ったときに、フィルムの断面積が７０％になる高さを０ｎｍとした。
・針径 ２（μｍＲ）
・針圧 １０（ｍｇ）
・測定長 ５００（μｍ）
・縦倍率 ２００００（倍）
・ＣＵＴ ＯＦＦ ２５０（μｍ）
・測定速度 １００（μｍ／ｓ）
・測定間隔 ５ （μｍ）
・記録本数 ８０本
・ヒステリシス幅 ±６．２５（ｎｍ）
・基準面積 ０．１（ｍｍ^２ ）
（５）転写後の成形品表面の光沢度と成形性
転写箔用ポリエステルフィルムの転写面側に、ブチル化尿素メラミン樹脂とパラトルエンスルホン酸の混合液をグラビアコート法にて塗布し、８０℃の温度で硬化させ、離型層を形成した。次に、離型層上に、アクリル系樹脂を用いてグラビアコート法で剥離層を形成し、その上に図柄層として、ビニル樹脂系インキによるメタリック色（アルミニウム顔料２０％含有）のベタパターンと、黒色（カーボンブラック１５％含有）の文字パターンをグラビア印刷で形成し、次いで、４０℃の温水で洗浄、乾燥し、最後にアクリル系樹脂の接着層をグラビアコート法で形成し転写材を得た。

得られた転写材を、温度２５℃、相対湿度３０％の雰囲気下で、５０ｍｍ×５０ｍｍ 最大深さ８ｍｍの金型を用い、金型温度２２０℃で金型内で真空成型したのち型締めを行い、その後アクリル樹脂を成型樹脂として２５ＭＰａの射出圧力条件で成型同時転写加工を行った。

（Ａ）表面光沢度
得られた成形品に対し、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｚ−８７４１（２００４年）における６０°反射の表面光沢度を測定した。成形品の表面光沢度をＧＦ、標準金属試料の表面光沢度をＧＭとしたとき、以下の判定に従った。△以上が合格である。
○ ＧＦ≧ＧＭ
△ ＧＭ−２０≦ＧＦ＜ＧＭ
× ＧＦ＜ＧＭ−２０
（Ｂ）成形性
成形性は、下記の判定に従った。△以上が合格である。
○ 埃の付着、ヒゲの発生等による不良品の割合が０．１％未満。
△ 埃の付着、ヒゲの発生等による不良品の割合が１％未満で発生。
× 埃の付着、ヒゲの発生等による不良品の割合が１％以上で発生。

（６）易接着層の耐削れ性
１／２インチ幅のロールフィルムの易接着面を固定ピンに当て、２ｍ／ｍｉｎの速度で走行させ、１５分後の固定ピン上の堆積物を観察し、下記の判定に従った。△以上が合格である。
○ 堆積物がほとんど認められないもの
△ 若干付着の形跡があるもの
× 多いもの
（７）易接着層と離型層の密着性
転写箔用ポリエステルフィルムの転写面（易接着面）側にブチル化尿素メラミン樹脂とパラトルエンスルホン酸の混合液をグラビアコート法にて塗布し、８０℃にて硬化させ、離型層を形成し、室温で１日風乾した。この上にカッターナイフで碁盤目の切り込みを入れ、そしてセロテープを貼りつけし、９０°正剥離を行い、その剥離状態を３段階に評価して下記の判定に従った。△以上が合格である。
○ ７５％以上離型層が残る。
△ ５０％以上７５％未満離型層が残る。
× ５０％未満しか離型層が残らない。

（８）平均粒子径
フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法で除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これを走査型電子顕微鏡（エリオニクス社製、ＥＳＭ３２００）で観察し、粒子の画像をイメージアナライザー（カールツァイス社製、ＩＢＡＳ２０００）で処理する。

（９）ヘイズ
得られたフィルムに対し、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｋ−７１０５（２００４年）に従って行った。用いた波長は５５０ｎｍである。

以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

（実施例１）
押出機（Ａ）と押出機（Ｂ）とＴダイ複合口金を有する複合製膜装置を用いて、下記のＡ層とＢ層からなる三層積層ポリエステルフィルムとした。その積層構成はＡ／Ｂ／Ａである。

まず、Ａ層を形成する樹脂について説明する。高純度テレフタル酸１００ｋｇに対しエチレングリコール４５ｋｇのスラリーを、予めビス（ヒドロキシエチル）テレフタレート約１２３ｋｇが仕込まれ、温度２５０℃、圧力１．２×１０^５Ｐａに保持されたエステル化反応槽に４時間かけて順次供給し、供給終了後もさらに１時間かけてエステル化反応を行い、このエステル化反応生成物を重縮合槽に移送した。引き続いて、エステル化反応生成物が移送された前記重縮合反応槽に、ジエチルホスホノ酢酸エチルを０．０１重量部添加し、さらに酢酸マグネシウム４水塩を０．０４重量部、さらに重合触媒として三酸化アンチモン（住友金属鉱山社製）を、得られるポリエステルに対してアンチモン原子換算で４００ｐｐｍとなるように添加した。さらに、添加剤として、平均粒径１．１μｍ、比表面積３００ｍ^２/ｇの炭酸カルシウムを、ポリエステルに対し０.０６重量％になるように添加した。その後、低重合体を３０ｒｐｍで攪拌しながら、反応系を２５０℃から２８５℃の温度まで６０分かけて昇温するとともに、圧力を４０Ｐａまで下げた。なお、最終圧力到達までの時間は６０分とした。所定の攪拌トルクとなった時点で、反応系を窒素パージし常圧に戻し重縮合反応を停止し、２０℃の温度の冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリエステルのペレットを得た。なお、減圧開始から所定の撹拌トルク到達までの時間は３時間であった。

次いで、Ｂ層を形成する樹脂について説明する。高純度テレフタル酸１００ｋｇに対しエチレングリコール４５ｋｇのスラリーを、予めビス（ヒドロキシエチル）テレフタレート約１２３ｋｇが仕込まれ、温度２５０℃、圧力１．２×１０^５Ｐａに保持されたエステル化反応槽に４時間かけて順次供給し、供給終了後もさらに１時間かけてエステル化反応を行い、このエステル化反応生成物を重縮合槽に移送した。引き続いて、エステル化反応生成物が移送された前記重縮合反応槽に、ジエチルホスホノ酢酸エチルを０．０１重量部添加し、さらに酢酸マグネシウム４水塩を０．０４重量部、さらに重合触媒として三酸化アンチモン（住友金属鉱山社製）を、得られるポリエステルに対してアンチモン原子換算で４００ｐｐｍとなるように添加した。その後、低重合体を３０ｒｐｍで攪拌しながら、反応系を２５０℃から２８５℃の温度まで６０分かけて昇温するとともに、圧力を４０Ｐａまで下げた。なお最終圧力到達までの時間は６０分とした。所定の攪拌トルクとなった時点で反応系を窒素パージし常圧に戻し重縮合反応を停止し、２０℃の温度の冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリエステルのペレットを得た。なお、減圧開始から所定の撹拌トルク到達までの時間は３時間であった。

これらＡ層とＢ層を形成するポリエステルペレットを、それぞれ水分率２０ｐｐｍに真空乾燥した後、それぞれ押出機（Ａ）と押出機（Ｂ）に供給し、常法により２８０℃の温度で溶融し、それぞれ８μｍカットのステンレス繊維焼結フィルター（ＦＳＳ）で濾過した後、Ｔダイ複合口金に導入した。該口金内でＡ／Ｂ／Ａの層構成となるように合流せしめた後、シート状に共押出し、これを表面温度２５℃の温度の冷却ドラムを用いて静電密着法で冷却固化せしめた。このようにして得られた未延伸ポリエステルフフィルムを、９５℃の温度に加熱した後、長手方向に１０４℃の温度で３．５倍に延伸して１軸延伸フィルムとした。この１軸延伸フィルムの両面に、空気中でコロナ放電処理を施し表面張力を５０ｍＮ／ｍ以上とし、転写面側の面に以下の組成の易接着層塗液を塗布し、次いで反対面側（非転写面側）に下記の組成の帯電防止層塗液を塗布した。

＜易接着層塗液＞
次の方法によりポリエステル系易接着塗液α１を作成した。酸性分としてテレフタル酸７０モル％、イソフタル酸２３モル％および５−ナトリウムスルホイソフタル酸７モル％と、また、ジオール成分としてエチレングリコール７０モル％とジエチレングリコール３０モル％からなる共重合ポリエステル樹脂（ガラス転移点：５５℃）の水性分散剤と、メラミン架橋剤として、大日本インキ化学工業（株）製、“ベッカミン”（登録商標）ＡＰＭを固形分比９５：５となるように混合した水性溶液を使用した。

＜帯電防止層塗液＞
次の帯電防止層塗液Ａ１と帯電防止層塗液Ｂ１と帯電防止層塗液Ｃ１を有効成分比で２０重量部／８０重量部／２０重量部で混合した水性溶液を使用した。
・帯電防止層塗液Ａ１
ポリエチレンジオシキチオフェン／ポリスチレンスルホン酸からなる複合体と、ポリエステル樹脂を水に分散させた水性塗液（ナガセケムテックス（株）製“デナトロン”（Ｒ）５００２ＲＺ）を使用した。
・帯電防止層塗液Ｂ１
ポリグリセロールポリグリシジルエーテル系エポキシ架橋剤（ナガセケムテックス（株）製“デナコール”（Ｒ）ＥＸ−５１２）を水に溶解させた水性溶液を使用した。
・帯電防止層塗液Ｃ１
下記の共重合組成からなる長鎖アルキルアクリレートを、イソプロピルアルコール１０重量％とブチルセロソルブ５重量％を含む水に溶解させた水性溶液を使用した。

（共重合成分）
メタクリル酸 ４０重量部
ステアリルメタクリレート ６０重量部
Ｎ−メチロールアクリルアミド ２重量部
アニオン性反応性乳化剤 ２重量部
なお、アニオン性反応乳化剤には、“エレミノール”（登録商標））ＪＳ−２（三洋化成工業（株）製）を用いた。

この両面に塗布された一軸延伸積層ポリエステルフィルムの両端をクリップで把持しながら、テンター内の１１５℃の温度の予熱ゾーンに導き、引き続き連続的に１２１℃の温度の加熱ゾーンで長手方向に直角な方向（横方向）に４．１倍延伸した。さらに引き続いて、テンター内の熱処理ゾーンで２３０℃の温度の熱処理を施し、さらに２１３℃の温度で２．２％横方向に弛緩処理を行った後、更に１６６℃の温度で１．３％弛緩処理を行い、次いで均一に除冷後に巻き取って、総厚み３８μｍ、幅６．９ｍの転写箔用フィルムを得た。結果を表１と表２に示す。安定した帯電防止性を発現し、また表面平滑性と成形後の表面光沢性も良好であった。

（実施例２〜３、参考例）
下記の帯電防止層塗液と易接着層塗液を用い、表１と表２に示された条件を用いたこと以外は、実施例１に従い転写箔用フィルムを得た。
・帯電防止層塗液Ａ２
ポリエチレンジオシキチオフェン／ポリスチレンスルホン酸からなる複合体を水に分散させた水性塗液（Ｂａｙｅｒ社製“Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ”（登録商標））を使用した。
・帯電防止層塗液Ｃ２
下記の共重合組成からなる長鎖アルキルアクリレートを、イソプロピルアルコール１０重量％とブチルセロソルブ５重量％を含む水に溶解させた水性溶液を使用した。
（共重合成分）
メタクリル酸 ４０重量部
ベヘニルメタクリレート ６０重量部
Ｎ−メチロールアクリルアミド ２重量部
アニオン性反応性乳化剤 ２重量部
なお、アニオン性反応乳化剤は、“エレミノール” （登録商標）ＪＳ−２（三洋化成工業（株）製）を用いた。
・帯電防止層塗液Ｄ１
ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド（平均分子量：約３００００）を使用した。
・帯電防止層塗液Ｅ１
メラミン架橋剤、大日本インキ化学工業（株）製、“ベッカミン”（登録商標）Ｊ１０１を使用した。
・易接着層塗液α２
次の方法により、ポリエステル系易接着塗液α２を作成した。(1)フッ素系界面活性剤、(2)テレフタル酸／５−ナトリウムスルホイソフタル酸／／エチレングリコール（モル比８７．５／１２．５／／１００）の共重合組成を有する共重合ポリエステル（ガラス転移点４０℃）、(3)イソフタル酸／５−ナトリウムスルホイソフタル酸／／エチレングリコール／ジエチレングリコール（モル比９３／７／／１０／９０）の共重合組成を有する共重合ポリエステル（ガラス転移点１８℃）の３種類を用意し、上記(2)／(3)を固形分重量比で７０／３０に混合し、水で希釈して固形分濃度を４重量％とし、更に(1)を塗液全体に対して０．０００３重量％加えた水性塗液を使用した。

なお、実施例２と参考例においては、単層用のＴダイ口金を用いて単膜フィルムとした。また、参考例においては、同時２軸延伸法で延伸し、かつ、重合触媒として下記のように調整したクエン酸キレートチタン化合物のエチレングリコール溶液を得られるポリエステルに対してチタン元素が５ｐｐｍとなるように添加したポリエステルペレットを用いた。得られたポリエステルペレットは、極限粘度０.６３ｄｌ／ｇ、カルボキシル末端基量４２当量／トン、ガラス転移温度（Ｔｇ）７８℃、環状三量体含有量１.１重量％であった。

（クエン酸キレートチタン化合物の合成方法）
撹拌機、凝縮器および温度計を備えた１Ｌのフラスコ中に、温水９２．８ｇ当たり、クエン酸・一水和物１３２．５ｇ（０．６３モル）を溶解させた。この撹拌されている溶液に滴下漏斗からチタンテトライソプロポキシド７２．０ｇ（０．２５モル）を加えた。この混合物を１時間加熱、還流させて曇った溶液を生成させ、これよりイソプロパノール／水混合物を真空下で蒸留した。その生成物を２０℃の温度まで冷却し、そしてその撹拌された溶液に、ＮａＯＨ９４．８６ｇ（０．７６モル）の３２重量／重量％水溶液を滴下漏斗により加えた。得られた生成物をろ過し、次いでエチレングリコール１２５．５４ｇ（２モル）と混合し、そして真空下で加熱してイソプロパノール／水を除去し、わずかに曇った淡黄色の生成物（Ｔｉ含有量３．８５重量％）を得た。また、実施例３においては、Ａ／Ｂの二層フィルムとした。Ａ層が転写面側である。

結果を表１と表２に示す。表から明らかなように、次のような結果が得られた。
・ 実施例２：転写面側の表面平滑性、帯電防止性ともに良好であった。易接着層と離型層の密着性がやや劣るが、使用可能なレベルであった。
・参考例：表面平滑性、帯電防止性ともにやや劣るが、使用可能なレベルであった。また同時２軸延伸法により表面のキズが少なく、塗布性が良好であった。またチタン系触媒を用いたことにより内部異物が少なく、外観が良好であった。
・ 実施例３：表面平滑性、帯電防止性ともに良好であった。特に帯電防止性のレベルが優れていた。ヘイズがやや高く、易接着層と離型層の密着性がやや劣るが、使用可能なレベルであった。

（比較例１〜４）
ポリエステルフィルム樹脂のフィルターとして１４μｍカットのステンレス鋼粉体フィルター（ＦＳＳ）を使用したことと、下記の帯電防止層塗液と易接着層塗液を用いたこと、および表３と４に示された条件を用いたこと以外は、実施例１に従い転写箔用フィルムを得た。
・帯電防止用塗液Ｄ２
下記の共重合組成からなるアクリル樹脂（ガラス転移点４０℃）の粒子状物を、水に分散させた水分散液を使用した。
（共重合成分）
メチルメタクリレート ６５モル％
エチルアクリレート ３５モル％
アクリル酸 １モル％
Ｎ−メチロールアクリルアミド ２モル％
・帯電防止層塗液Ｅ２
メラミン架橋剤、三和ケミカル（株）製、“ニカラック”（登録商標）ＭＷ１２ＬＦを使用した。
・帯電防止用塗液Ｆ１
ポリスチレンスルホン酸アンモニウム塩（重量平均分子量：１００００）を水に溶解した水溶液を使用した。
・帯電防止層塗剤Ｇ１
ノニオン系のポリエチレン系ワックス水分散体（ワックスの軟化点：１４０℃、平均粒径８７ｎｍ）からなる水性溶液を使用した。
・帯電防止層塗剤Ｇ２
酸化ポリエチレン水分散体（ジョンソンポリマー社製、ジョンワックス（登録商標））を使用した。
・易接着層塗液β１
次の方法によりアクリル系易接着塗液β１を作成した。変性アクリルエマルジョン樹脂 と、オキサゾリン架橋剤“エポクロス ＷＳ５００” （登録商標）（株式会社日本触媒製）を有効成分比で１００重量部／１０重量部で混合した水性溶液を使用した。
・易接着層塗液β２
次の方法によりアクリル系易接着塗液β２を作成した。帯電防止用塗液Ｄ２と、帯電防止用塗液Ｅ２を有効成分比で１００重量部／５重量部で混合した水性溶液を使用した。
・易接着層塗液β３
次の方法により、ポリウレタン系易接着塗液β３を作成した。自己乳化性ポリウレタンポリ尿素樹脂１００重量部に対しメラミン系架橋剤を６重量部添加してなる塗剤を使用した。

なお、比較例２と４においては、単層用のＴダイ口金を用いて単膜フィルムとした。

結果を表３と表４に示す。表から明らかなように、比較例１〜４においては、表面粗さ、成形品の表面光沢度、帯電防止性、成形性、易接着性、内部異物個数およびヘイズともに劣っており、所望の機能を発揮するには、そのレベルが未達であった。

本発明の転写箔用ポリエステルフィルムは、なかでも、高い意匠性が要求されるインモールド成形用途などにおいては、優れた帯電防止性、易接着性および表面平滑性が、各工程における問題を改善することができ、生産性や製品の品位を著しく改善することができ有用である。

Claims (8)

1. 少なくとも転写面側の表面において、中心面平均粗さ（ＳＲａ）の値が４．５〜６．２ｎｍ、２００ｎｍ〜８００ｎｍの突起数が全突起数の３．４％〜１７．０％、自乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）の値が９．９〜１６．１ｎｍであり、転写面の反対面に、帯電防止層を有し、該帯電防止層表面の表面比抵抗が１×１０^１０Ω／□以下であることを特徴とする二軸配向転写箔用ポリエステルフィルム。
2. インモールド成形用である請求項１記載の二軸配向転写箔用ポリエステルフィルム。
3. 帯電防止層が、水性塗液塗布可能な成分により形成された、塗膜層である請求項１または２に記載の二軸配向転写箔用ポリエステルフィルム。
4. 帯電防止層が、ポリチオフェンおよび／またはポリチオフェン誘導体を含む請求項１〜３のいずれかに記載の二軸配向転写箔用ポリエステルフィルム。
5. 転写面側に易接着層を有する請求項１〜４のいずれかに記載の二軸配向転写箔用ポリエステルフィルム。
6. 易接着層が、水性塗液塗布可能な成分により形成された、塗膜層である請求項５に記載の二軸配向転写箔用ポリエステルフィルム。
7. 易接着層が、ポリエステル樹脂を含む請求項５または６に記載の二軸配向転写箔用ポリエステルフィルム。
8. ポリエステルフィルムを構成するポリエステルの重合触媒として、チタン系化合物が使用されてなる請求項１〜７のいずれかに記載の二軸配向転写箔用ポリエステルフィルム。