JP5148998B2 - 恒温槽用清浄剤 - Google Patents

Description

本発明は、科学機器に於ける、水を媒体とする反応恒温槽、特に自動分析装置に於ける恒温槽中に添加される防腐、防黴、防藻作用を有する新規な清浄剤に関する。

一般に、臨床化学の分野では、疾病の診断、病態の把握等の目的で血清、尿及び組織液等の生体試料中の生理活性物質、例えば酵素、脂質、蛋白質等の測定が広く行われている。

自動分析装置は、迅速である、高能率・高精度である、操作が簡便である、試料・試薬が微量でよい、省力化できるといった種々の特徴を有することから、この分野に於いて、最近広く用いられている。測定は通常、試料の採取、試薬の添加、混合、加温、比色(吸光度測定)、演算の順に行われる。この内、加温は形式としてエアバス(空気浴)方式と水浴又は油浴方式があるが、水浴を恒温槽とする形式が最も一般的である。反応温度は通常50℃以下で行われるが、37℃で行うのが最も一般的である。吸光度測定は、反応液を反応容器よりセルに吸い上げて測定する方式と、反応容器を測定セルとして直接測定する方式とがあるが、現在は後者の方式が主流となっている。この方式の測定は水浴を恒温槽とする場合、槽外に設置された光源より照射された光が恒温槽を通し、更に恒温槽中の反応容器を通して槽の反対側に設置された検知器で検知されることにより行われる。即ち、反応容器はまた反応セルとして直接測定される訳である。また、測定に使用される波長は通常300〜900nmである。

ところで、自動分析装置の恒温槽中の水の交換は、通常一日に1度乃至数度行われるが、この水交換時に反応容器外壁に気泡が付着する場合が多い。この防止の目的で通常少量の清浄剤が添加される。この目的で使用される清浄剤は通常各種界面活性剤を主成分とし、これにキレート剤、pH調整剤、防腐剤等を添加したもので、低起泡性のものであり、恒温槽中での清浄剤としての濃度は通常0.05〜2.0 w/w％である。しかしながら、かかる清浄剤を含む恒温槽中の水を使用する恒温槽中の水は、長期間使用した場合、清浄剤の成分が栄養源となり、藻の発生や微生物(細菌等)の発育を促し(防腐剤を添加したものでもその効果があまり認められない)、その結果、反応容器への藻の付着や恒温槽中の水の濁り等が生じる等、吸光度測定に於いて大きな誤差を生ずる原因となっていた。このため装置の使用に際しては、度々槽内を監視したり、また定期的に槽内の清掃を行う等、精度管理、保守管理に多大の労力を必要としているのが実情である。このように恒温槽への清浄剤の添加は必要且つ有効である反面、日常の保守管理を十分に行う必要があるため、この点の改善が強く要望されていた。

本発明者らは、藻の発生や微生物(細菌等)の発育の原因は、通常の清浄剤の使用濃度(0.05〜2.0 v/v％)では、その一成分として存在する防腐剤の恒温槽中での終濃度が有効濃度以下となって効果がなくなる為ではないかと考え、少量添加で効果のある、即ち有効濃度の低い防腐剤としてトリアジン誘導体に着目し、鋭意研究の結果、これと界面活性剤を成分として含む清浄剤を用いることにより、恒温槽中の藻の発生及び微生物(細菌等)の発育を防止できることを見出し、先に特許出願している（特許文献１）。

しかしながら、この組成の清浄剤を用いた場合、恒温槽中の藻の発生及び微生物(細菌等)の発育については長期間にわたり防止することは可能であったが、該清浄剤原液を高温下に保存した際には、この成分の一部が経時的に分解して、測定に使用される波長(300〜900nm)に吸収を有する物質を生じさせ、吸光度測定に於いて大きな誤差を生ずる原因となる可能性があることが判明した。

そこで本発明者等は更に鋭意研究の結果、有効濃度の低い防腐剤としてのトリアジン誘導体と界面活性剤とを組み合わせた清浄剤に、更に下記一般式[Ａ]

(式中、Ｒ_９、Ｒ_１０、Ｒ_１１及びＲ_１２は夫々独立して水素原子、メチル基又はヒドロキシメチル基を表わす。また、nは1〜5の整数を表わす。)で示される化合物を添加することにより、恒温槽中の藻の発生及び微生物(細菌等)の発育を防止できることのみならず、清浄剤自体を高温下に保存した際に、その構成成分の一部が分解して測定に使用される波長(300〜900nm)に吸収を有する物質を生じるのを抑制することが出来ることを見出し、これも先に特許出願している（特許文献２）。

一方、種々の細菌（例えば緑膿菌、黄色ブドウ球菌等）による院内感染防止のために様々な事前処置を求める声があり、このような感染原因が自動分析装置の恒温槽であった例は報告されたことはないものの、事前の予防も必要であるという考え方もあって、従来の清浄剤よりも殺菌効果がより強い清浄剤の開発を望む声もある。

特開平１−４０５９９号公報 特開平１−３１９４０７号公報

本発明は、上記した如き状況に鑑みなされたもので、科学機器に於ける、水を媒体とする反応恒温槽、特に自動分析装置に於ける恒温槽中に添加される清浄剤であって、防腐、防徽、防藻作用を長期間に亘って有し、且つその一部構成成分の分解等により測定に使用される波長(300〜900nm)に吸収を有する物質を生じることのない(或は少ない)、そして従来のものより更に殺菌効果が高く（短時間での殺菌効果を有する）、院内感染の予防・防止という要望にも応え得る、新規な清浄剤を提供することを目的とする。

本発明は、上記課題を解決する目的でなされたものであり、以下の構成よりなる。

（１）下記一般式［１］で示される第４級アンモニウム塩

（式中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立してアルキル基を示す。但し、Ｒ_１〜Ｒ_４のうち、少なくとも一つは炭素数８〜１８のアルキル基であり、且つ少なくとも一つは炭素数１〜３の低級アルキル基である。Ｘ^―は炭素数２以上のカルボン酸由来のアニオンを示す。）
又は／及び両性界面活性能を有する防腐剤と、界面活性剤を含む恒温槽用清浄剤。
（２）上記(1)記載の清浄剤を恒温槽に添加することを特徴とする、恒温槽の清浄方法。

即ち、従来の恒温槽用清浄剤は抗菌効果に優れていたが、上記した如き院内感染予防・防止の要望もあった。そこで本発明者等は、殺菌効果にも優れた新規な恒温槽用清浄剤を開発することを目的として、汎用されている抗菌剤、殺菌剤の中から、上記目的を達成出来るものを見出すため、鋭意研究を行った。

恒温槽を備えた自動分析装置では、試料と試薬を混合し、恒温槽で加温した後、反応容器を測定セルとしてそのまま吸光度測定を行う。そこで、恒温槽用清浄剤は自動分析装置の測定波長域（300〜900nm）に吸収を持たないことが必要である。そのため、例えば汎用されている抗菌剤、殺菌剤の中でもクロルへキシジン，グルコン酸クロルヘキシジン等は300〜400nmに吸収があり、セチルピリジニウムハライド等は、水溶液が淡黄色〜黄色でありこの着色がUVの吸収を阻害することから、いずれも恒温槽用清浄剤に用いるには相応しくなかった。

また、自動分析装置を用いた測定では、血清や酵素等が用いられるため、これら蛋白質が恒温槽の水を汚染する危険性もある。そのため、かりにこれらの蛋白質が恒温槽の水に混入したとしても、雑菌等の殺菌又はその繁殖を抑えられることが必要であり、この点に於いて、塩化ベンザルコニウムや塩化ベンゼントニウム等は、蛋白質存在下では抗菌力等の低下が認められ、恒温槽用清浄剤に用いるには不満が残った。

更に、前記したとおり院内感染等の予防・防止のためには、緑膿菌等に対しても殺菌力を有するものが望ましい。

そこで、本発明者等は、更に鋭意研究の結果、下記一般式［Ｉ］

（式中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立してアルキル基を示す。但し、Ｒ_１〜Ｒ_４のうち、少なくとも一つは炭素数８〜１８のアルキル基であり、且つ少なくとも一つは炭素数１〜３の低級アルキル基である。Ｘ^―は炭素数２以上のカルボン酸由来のアニオンを示す。）で示される第４級アンモニウム塩、及び両性界面活性能を有する防腐剤が、これらの点をすべて満足させ、これらを含有する恒温槽用清浄剤は、本願目的を全て達成することが出来ることを見出して、本発明を完成するに到った。

本発明は、水を媒体とする恒温水槽を有する科学機器、特に自動分析装置に於いて、恒温槽内の水に発生する微生物(細菌等)の発生、及びそれに伴う測定精度の低下を防止し、且つ、恒温槽内の反応容器外壁への気泡の発生,付着を防止し、しかもそれ自体は原液保存時にその構成成分の一部が分解して測定波長(300〜900nm)で吸収を有する物質を生じるというようなことのない(或は少ない)、しかも従来のものより更に殺菌効果の高い恒温槽用清浄剤を提供するものであり、本清浄剤を使用することにより、自動分析装置本来のメリットである迅速性、高能率、高精度、操作の簡便性を従来以上に生かし得る、優れた恒温槽用清浄剤を提供する。

本発明に係る恒温槽用清浄剤は、下記一般式［Ｉ］で示される第４級アンモニウム塩

（式中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立してアルキル基を示す。但し、Ｒ_１〜Ｒ_４のうち、少なくとも一つは炭素数８〜１８のアルキル基であり、且つ少なくとも一つは炭素数１〜３の低級アルキル基である。Ｘ^―は炭素数２以上のカルボン酸由来のアニオンを示す。）又は／及び両性界面活性能を有する防腐剤と、界面活性剤を含むものである。

本発明に係る恒温槽用清浄剤に於いて、上記一般式[１]で示される第４級アンモニウム塩又は／及び両性界面活性能を有する防腐剤、及び界面活性剤は通常適当な溶媒に溶解されるが、当該溶媒としては、水が、特に純水が好ましい。

本発明に係る恒温槽用清浄剤に於いて使用される一般式［１］で示される第４級アンモニウム塩のＲ_１〜Ｒ_４で示されるアルキル基は、直鎖状でも分枝状でも或いは環状でもよく、通常炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２のものが挙げられ、具体的には、例えばメチル基、エチル基、ｎ-プロピル基、イソプロピル基、ｎ-ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ-ブチル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ｎ-ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ-ペンチル基、ｔｅｒｔ-ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ-ヘキシル基、イソヘキシル基、sec-ヘキシル基、tert-ヘキシル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1,2-ジメチルブチル基、n-ヘプチル基、イソヘプチル基、sec-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、n-イコシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロテトラデシル基、シクロオクタデシル基、シクロイコシル基、ビシクロ[2.1.0]ペンチル基、ビシクロ[3.2.1]オクチル基、ビシクロ[5.2.0]ノニル基、トリシクロ[5.3.1.1]ドデシル基、パーハイドロアントリル基、スピロ[3.4]オクチル基、スピロ[4.5]デシル基等が挙げられるが、中でも直鎖状のものが好ましい。 但しＲ_１〜Ｒ_４のうち、少なくとも一つは炭素数８〜１８のアルキル基であり、且つ少なくとも一つは炭素数１〜３の低級アルキル基である。夫々の基の具体例は、上記で例示したアルキル基から適宜選択されるが、炭素数８〜１８のアルキル基の好ましい具体例としては、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基等が挙げられ、中でもデシル基が好ましい。炭素数１〜３の低級アルキル基の好ましい具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でもメチル基が好ましい。

一般式［１］に於いて、Ｘ^-で表される炭素数２以上のカルボン酸由来のアニオンは、一般式［２］

（式中、Ｒ_５は水素原子又は置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表す。）で示されるカルボン酸又は一般式[３]

（式中、Ｒ_６は結合手又は置換基を有していてもよい二価の炭化水素基を表す。）で示されるジカルボン酸から誘導されるものである。

一般式［２］に於いて、Ｒ_５で表される置換基を有していてもよい一価の炭化水素基の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基及び芳香脂肪族炭化水素基が挙げられ、それらの基の鎖中に硫黄原子を有していてもよい。

脂肪族炭化水素基としては、例えばアルキル基、アルケニル基等が挙げられる。

アルキル基としては、直鎖状でも分枝状でも或いは環状でもよく、通常炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２のものが挙げられ、具体的には、例えばメチル基、エチル基、ｎ-プロピル基、イソプロピル基、ｎ-ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ-ブチル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ｎ-ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ-ペンチル基、ｔｅｒｔ-ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ-ヘキシル基、イソヘキシル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1,2-ジメチルブチル基、n-ヘプチル基、イソヘプチル基、sec-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、n-イコシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロテトラデシル基、シクロオクタデシル基、シクロイコシル基等が挙げられる。

アルケニル基としては、直鎖状でも分枝状でも或いは環状でもよく、通常炭素数２〜２０、好ましくは２〜１２のものが挙げられ、具体的には、例えばビニル基、アリル基、1-プロペニル基、イソプロペニル基、3-ブテニル基、2-ブテニル基、1-ブテニル基、1,3-ブタジエニル基、4-ペンテニル基、3-ペンテニル基、2-ペンテニル基、1-ペンテニル基、1,3-ペンタジエニル基、2,4-ペンタジエニル基、1,1-ジメチル-2-プロペニル基、1-エチル-2-プロペニル基、1,2-ジメチル-1-プロペニル基、1-メチル-1-ブテニル基、5-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、1-ヘキセニル基、1-メチル-1-ヘキセニル基、2-メチル-2-ヘキセニル基、3-メチル-1,3-ヘキサジエニル基、1-ヘプテニル基、2-オクテニル基、3-ノネニル基、4-デセニル基、1-ウンデセニル基、2-ドデセニル基、3-トリデセニル基、4-テトラデセニル基、5-ペンタデセニル基、6-ヘキサデセニル基、7-ヘプタデセニル基、3-オクタデセニル基、1-ノナデセニル基、2-イコセニル基、1-シクロプロペニル基、2-シクロペンテニル基、2,4-シクロペンタンジエニル基、1-シクロヘキセニル基、2-シクロヘキセニル基、3-シクロヘキセニル基、2-シクロヘプテニル基、2-シクロノネニル基、3-シクロドデセニル基、3-シクロペンタデセニル基、2-シクロオクタデセニル基、2-シクロイコセニル基等が挙げられる。

芳香族炭化水素基としてはアリール基が好ましく、具体的には、通常炭素数６〜２０、好ましくは６〜１４のものが挙げられ、具体的には、例えばフェニル基、ナフチル基、アントリル基、1-ピレニル基、ペリレニル基等が挙げられる。

芳香脂肪族炭化水素基としてはアラルキル基が好ましく、具体的には、上記アルキル基の水素原子が芳香環に置換したものであり、通常炭素数７〜１３、好ましくは７〜１０のものが挙げられ、具体的には、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシル基、フェニル-1-メチルヘキシル基、フェニル-3-シクロペンチル基等が挙げられる。

Ｒ_５で示される置換基を有していてもよい一価の炭化水素基が有する置換基としては、例えば塩素原子，フッ素原子，臭素原子，ヨウ素原子等のハロゲン原子、例えばメチル基，エチル基，ｎ-プロピル基，イソプロピル基，ｎ-ブチル基，イソブチル基，ｓｅｃ-ブチル基，ｔｅｒｔ-ブチル基等の低級アルキル基、例えばフルオロメチル基，ジフルオロメチル基，トリフルオロメチル基，ブロモメチル基，トリブロモメチル基，クロロメチル基，ジクロロメチル基，トリクロロメチル基，トリフルオロエチル基，トリブロモエチル基，トリクロロエチル基，ペンタフルオロエチル基，ペンタブロモエチル基，ペンタクロロエチル基，ヘプタフルオロプロピル基，ヘプタブロモプロピル基，ヘプタクロロプロピル基等のハロ低級アルキル基、例えばメトキシ基，エトキシ基，プロポキシ基，ブトキシ基等の低級アルコキシル基、アミノ基、ニトロ基、オキソ基、ヒドロキシル基、複素環基、アルデヒド基等が挙げられ、中でも電子求引性を有するハロゲン原子、ハロ低級アルキル基、アルキル基及びニトロ基が好ましい。

複素環基としては、異性原子として窒素原子、硫黄原子又は／及び酸素原子を１〜３個有する５〜６員のものが挙げられ、具体的には、例えば2-テトラヒドロフリル基，2-テトラヒドロチエニル基，1-ピロリジニル基，2-ピロリジニル基，4-ピペリジニル基，2-モルホリニル基等の複素環式脂肪族基、例えば2-フリル基，2-チエニル基，1-ピロリル基，2-ピリジル基，3-ピリジル基，イソベンゾフラニル基，クロメニル基，2H-ピロリル基，イミダゾリル基，ピラゾリル基，5-ピラゾリル基，インドリジニル基，イソインドリル基，3H-インドリル基，インドリル基，3-インドリル基，1H-インダゾリル基，プリニル基等の複素環式芳香族基等が挙げられる。

一般式［２］で示される化合物の具体例としては、例えば酢酸，プロピオン酸，酪酸，イソ酪酸，吉草酸，イソ吉草酸，ピバル酸，ペンタン酸，ヘキサン酸，ヘプタン酸，オクタン酸，ノナン酸，デカン酸，ウンデカン酸，ラウリル酸，ミリスチン酸，ペンタデカン酸，パルミチン酸，ヘプタデカン酸，ステアリン酸，ノナデカン酸，エイコサン酸等の脂肪族飽和モノカルボン酸、例えばシクロヘキシルカルボン酸等の脂肪族環状モノカルボン酸、例えばフルオロ酢酸，トリフルオロ酢酸，クロロ酢酸，ジクロロ酢酸，トリクロロ酢酸，ブロモ酢酸，ヨード酢酸，パーフルオロプロピオン酸，パークロロヘプタン酸，パーフルオロヘプタン酸，パーフルオロオクタン酸，パーフルオロデカン酸，パーフルオロドデカン酸，パーフルオロエイコサン酸，パーフルオロテトラコサン酸等のハロゲン化アルキルモノカルボン酸、例えばアクリル酸，プロピオル酸，メタクリル酸，クロトン酸，イソクロトン酸，4-ヘキセン酸，オレイン酸，エライジン酸等の脂肪族不飽和モノカルボン酸、例えば樟脳酸，アダマンタン酸等の脂環式モノカルボン酸、例えば安息香酸，ナフトエ酸，アントラセンカルボン酸等の芳香族モノカルボン酸、例えばトルイル酸等のアルキル芳香族モノカルボン酸、例えばフルオロ安息香酸，クロロ安息香酸，ブロモ安息香酸，ジフルオロ安息香酸，ジクロロ安息香酸，ジブロモ安息香酸，トリフルオロ安息香酸，トリクロロ安息香酸，トリブロモ安息香酸，テトラフルオロ安息香酸，テトラクロロ安息香酸，テトラブロモ安息香酸，ペンタフルオロ安息香酸，ペンタクロロ安息香酸，ペンタブロモ安息香酸等のハロゲン化芳香族モノカルボン酸、例えばトリフルオロメチル安息香酸，トリクロロメチル安息香酸，ビス（トリフルオロメチル）安息香酸等のハロゲン化アルキル芳香族モノカルボン酸、例えばトリフルオロメトキシ安息香酸，トリクロロメトキシ安息香酸等のハロゲン化アルコキシ芳香族モノカルボン酸、例えばトリニトロ安息香酸等のニトロ芳香族モノカルボン酸、例えば2-フェニルプロパン酸等のアラルキルモノカルボン酸、例えばヒドロアトロパ酸等のアラルキル酸、例えばけい皮酸，アトロパ酸等のアリールアルケニル酸、例えばグリコール酸，乳酸，グリセリン酸等のヒドロキシ脂肪族モノカルボン酸、例えばベンジル酸，トロパ酸等の芳香族ヒドロキシアルキルモノカルボン酸、例えばサリチル酸，プロトカテク酸，没食子酸，アニス酸，バニリン酸等のヒドロキシ芳香族モノカルボン酸、例えばピルビン酸，アセト酢酸等の脂肪族ケトンモノカルボン酸、例えばアラニン，アルギニン，アスパラギン，システイン，グルタミン，グリシン，ヒスチジン，イソロイシン，ロイシン，リシン，メチオニン，フェニルアラニン，プロリン，セリン，スレオニン，トリプトファン，チロシン，バリン等のアミノ酸、例えばニコチン酸，イソニコチン酸，フランカルボン酸，チオフェンカルボン酸，1-ピロールカルボン酸等の複素環式モノカルボン酸等、ｐ-ホルミルフェニル酢酸、6-(2-ナフチル)ヘキサン酸等が挙げられる。

一般式［３］に於いて、Ｒ_６で表される置換基を有していてもよい二価の炭化水素基の二価の炭化水素基としては、二価の脂肪族炭化水素基、二価の芳香族炭化水素基及び二価の芳香脂肪族炭化水素基が挙げられる。

二価の脂肪族炭化水素基としては、例えばアルキレン基、アルケニレン基等が挙げられる。

アルキレン基としては、直鎖状でも分枝状でも或いは環状でもよく、通常炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のものが挙げられ、具体的には、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ブチレン基、２−メチルプロピレン基、ペンタメチレン基、ペンチレン基、２−メチルテトラメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、２−エチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘキシレン基、２−メチルペンタメチレン基、３−メチルペンタメチレン基、ヘプタメチレン基、ヘプチレン基、オクタメチレン基、オクチレン基、２−エチルへキシレン基、ノナメチレン基、ノニレン基、デカメチレン基、デシレン基、シクロプロピレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基等が挙げられる。

アルケニレン基としては、直鎖状でも分枝状でも或いは環状でもよく、通常炭素数２〜１０、好ましくは２〜６のものが挙げられ、具体的には、例えばビニレン基、プロペニレン基、１−ブテニレン基、２−ブテニレン基、１−ペンテニレン基、２−ペンテニレン基、２−メチル−１−プロペニレン基、２−メチル−１−ブテニレン基、１−メチル−１−ブテニレン基、１−ヘキセニレン基、２−ヘキセニレン基、３−ヘキセニレン基、１−ヘプテニレン基、２−ヘプテニレン基、３−ヘプテニレン基、１−オクテニレン基、２−オクテニレン基、３−オクテニレン基、４−プロピル−２−ペンテニレン基、１−ノネニレン基、２−ノネニレン基、１−デセニレン基、４−シクロペンテン−１，３−イレン基、３−シクロヘキセン−１，２−イレン基等が挙げられる。

二価の芳香族炭化水素基としては、アリーレン基が挙げられる。

アリーレン基としては、通常炭素数６〜１０のものが挙げられ、具体的には、例えばｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，５−ナフチレン基、１，８−ナフチレン基、２，７−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基等が挙げられる。

二価の芳香脂肪族基としては、通常炭素数７〜１２のものが挙げられ、具体的には、例えば-CH₂-C₆H₄-、-C₂H₄-C₆H₄-、-CH(CH₃)-C₆H₄-、-CH₂-C₆H₄-CH₂-、-CH(CH₃)-C₆H₄-C₂H₄-、-C₃H₆-C₆H₄-CH₂-、-C₃H₆-C₆H₄-C₂H₄-、-C₃H₆-C₆H₄-C₃H₆-、-CH₂CH(CH₃)-C₆H₄-C₂H₄-等が挙げられる。

Ｒ_６で示される置換基を有していてもよい二価の炭化水素基が有する置換基としては、上記Ｒ_５の置換基を有していてもよい一価の炭化水素基における置換基と同様の基が挙げられる。

一般式［３］で示される化合物の具体例としては、例えばシュウ酸，マロン酸，コハク酸，グルタル酸，アジピン酸，ピメリン酸，スベリン酸，アゼライン酸，セバシン酸等の脂肪族飽和ジカルボン酸、例えば4-プロピル-2-ペンテン二酸，マレイン酸，フマル酸，シトラコン酸，メサコン酸等の脂肪族不飽和ジカルボン酸、例えばフタル酸，イソフタル酸，テレフタル酸，1,5-ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、例えばタルトロン酸，りんご酸，酒石酸等のヒドロキシ脂肪族ジカルボン酸、例えばアスパラギン酸、シスチン、グルタミン酸等のアミノ酸、例えば2,3-キノリン二酢酸等の複素環式ジカルボン酸等が挙げられる。

尚、本発明の目的に使用し得る第４級アンモニウム塩は、使用濃度で測定波長(300〜900nm)に殆ど吸収をもたないこと、水又は／及び界面活性剤と相溶性があること、清浄剤中の他の成分と沈殿、濁りを生じないこと、ガラス、プラスチック、金属等を腐食しないこと、長期間品質が安定していること、及び低い有効濃度で藻の発生、微生物(細菌等)の発育を防止できる等の性質を有するものである。

その具体例としては、ジアルキルジメチルアンモニウムアジペート、ジアルキルジメチルアンモニウムプロピオネート等が挙げられ、特にジアルキルジメチルアンモニウムアジペートが好ましく、その中でもジデシルジメチルアンモニウムアジペートが好ましい。

これらは市販されているものをそのまま用いてもよい。例えば、ジデシルジメチルアンモニウムアジペートは、オスモリンDA-50（三洋化成工業(株)商品名）等の名称で市販されている。

また、一般式［１］で示される第４級アンモニウム塩は、単独で用いても、２種以上併用して用いても構わない。また、その使用量としては、藻の発生や微生物(細菌等)の発育を防止し、かつ測定に影響し難い濃度であればよく、通常恒温槽中での濃度が合計で0.001〜0.1w/w%程度、好ましくは0.005〜0.05w/w%になるように、清浄剤中に添加される。清浄剤中の濃度としては、恒温槽中の水に添加した場合に、何倍に希釈されるかを考慮して決定すればよいが、通常は1〜10w/w%程度、好ましくは3〜8w/w%程度となるように、単独で若しくは２種以上併用して用いられる。

本発明に係る恒温槽用清浄剤に於いて使用される両性界面活性能を有する防腐剤は、本発明に於いて用いられる第４級アンモニウム塩と同様、使用濃度で測定波長(300〜900nm)に殆ど吸収をもたないこと、水又は／及び界面活性剤と相溶性があること、清浄剤中の他の成分と沈殿、濁りを生じないこと、ガラス・プラスチック・金属等を腐食しないこと、長期間品質が安定していること、及び低い有効濃度で藻の発生、微生物(細菌等)の発育を防止できること等の性質を有することが望ましい。

その具体例としては、例えばN−ビス(3−アミノプロピル)ドデシルアミン、3−アミノプロピル−ドデシルプロパンジアミン、1,3−プロパンジアミン−N−3−アミノプロピル―N−ドデシル、アルキルアミノグリシン、アルキルジアミノエチルグリシン塩酸塩、アルキルアミノエチルアミノエチルグリシン、アルキルアミノプロピルアミノ酢酸、アルキルポリアミノエチルグリシン等が挙げられるが、中でも

の構造を持つN−ビス(3−アミノプロピル)ドデシルアミン、3−アミノプロピル−ドデシルプロパンジアミン、1,3−プロパンジアミン−3−アミノプロピル−N−ドデシルが、特にN-ビス（３−アミノプロピル）ドデシルアミンが好ましい。

これらは市販されているものをそのまま用いてもよい。例えば、N-ビス（３−アミノプロピル）ドデシルアミン、ロンザバック12.100（Lonzabac 12.100、ロンザジャパン(株)商品名）等の名称で販売されている。

当該防腐剤は単独で用いても、また、２種以上併用して用いても構わない。また、その使用量としては、藻の発生や微生物(細菌等)の発育を防止し、かつ測定に影響し難い濃度であればよく、通常恒温槽中での濃度が合計で0.0005〜0.02w/w%程度、好ましくは0.001〜0.01w/w%になるように、清浄剤中に添加される。清浄剤中の濃度としては、恒温槽中の水に添加した場合に、何倍に希釈されるかを考慮して決定すればよいが、通常は0.05〜10w/w%程度、好ましくは1〜5w/w%程度となるように、単独で若しくは２種以上併用して用いられる。

本発明に係る恒温槽用清浄剤に於いて使用される界面活性剤としては、測定に影響がなく、反応容器への気泡付着を防止できるものであれば大略良いが、より厳密に言えば、水不溶性物質の混在がないこと、低起泡性であること、曇点が高く反応温度(37℃)でも澄明であること、本発明に係わる一般式[１]で示される第４級アンモニウム塩或は両性界面活性能を有する防腐剤と反応及び沈殿等を起こさないこと、300〜900nmの範囲に吸収が殆どないこと、自動分析装置の恒温槽及び反応容器を構成するガラス、金属、プラスチック等に影響がないこと、常に品質が安定し危険性がなく取扱が容易であること等の性質を有するものであれば特に限定されることなく用いることができる。

例えば、非イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、両性界面活性剤の何れも用いることが出来るが、非イオン性界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールアミド、ショ糖脂肪酸エステル等が挙げられ、陽イオン性界面活性剤としては、例えば脂肪族アミン塩、脂肪族４級アンモニウム塩等が挙げられ、陰イオン性界面活性剤としてはカルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩等が挙げられ、両性界面活性剤としては、例えばカルボキシベタイン類、スルホベタイン類、グリシン類、アラニン類、2-アルキルイミダゾリンの誘導体類、アミンオキサイド類等が挙げられる。

さらに、非イオン性界面活性剤である、ポリオキシエチレンアルキルエーテルの具体例としては、例えばポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等が挙げられ、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの具体例としては、例えばポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられ、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルの具体例としては、例えばポリオキシエチレングリコールモノラウレート、ポリオキシエチレングリコールモノステアレート、ポリオキシエチレングリコールジステアレート、ポリオキシエチレングリコールモノオレエート等が挙げられ、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルの具体例としては、例えばポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート等が挙げられ、ソルビタン脂肪酸エステルの具体例としては、例えばソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタンセスキオレエート等が挙げられ、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステルの具体例としては、例えばテトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビトール等が挙げられ、ポリオキシエチレンアルキルアミンの具体例としては、例えばポリオキシエチレンラウリルアミン、ポリオキシエチレンステアリルアミン等が挙げられ、グリセリン脂肪酸エステルの具体例としては、例えばステアリン酸モノグリセライド、オレイン酸モノグリセライド等が挙げられ、脂肪酸アルカノールアミドの具体例としては、例えばラウリン酸ジエタノールアミド等が挙げられ、ショ糖脂肪酸エステルの具体例としては、例えばショ糖パルミチン酸エステル、ショ糖ステアリン酸エステル等が挙げられる。

陽イオン性界面活性剤である、脂肪族アミン塩としては、モノラウリルアミン、モノステアリルアミン、ジステアリルアミン、トリステアリルアミン等の高級脂肪族アミン等と、塩酸、硫酸等の無機酸或いは酢酸、乳酸、クエン酸等の低級カルボン酸等との塩等が挙げられ、具体的には例えばラウリルアミン酢酸塩、ステアリルアミン酢酸塩等が挙げられ、脂肪族４級アンモニウム塩としては、ラウリルトリメチルアンモニウム、ステアリルトリメチルアンモニウム、セチルトリメチルアンモニウム、ジデシルジメチルアンモニウム、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウム等の高級脂肪族アンモニウム等と塩素、臭素等との塩等が挙げられ、具体的には例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロライド等が挙げられる。

陰イオン性界面活性剤である、カルボン酸塩としては、ラウリン酸，ミリスチン酸，パルミチン酸，ステアリン酸，オレイン酸等の高級脂肪酸等と、ナトリウム，カリウム等のアルカリ金属等との塩等が挙げられ、具体的には例えばオレイン酸カリウム、ラウロイルサルコシンナトリウム、N-ミリストイル-N-メチル-β-アラニンナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム等が挙げられ、スルホン酸塩としては、ラウリルベンゼンスルホン酸等のアルキルベンゼンスルホン酸、ジプロピルナフタレンスルホン酸，ジブチルナフタレンスルホン酸等のナフタレンスルホン酸、ジオクチルスルホコハク酸等のスルホコハク酸等と、ナトリウム等との塩等が挙げられ、具体的には例えばラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム等が挙げられ、硫酸エステル塩としては、ラウリル硫酸エステル等の高級アルコール硫酸エステル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸等エステルのポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸等エステルと、ナトリウム、アンモニウム等との塩等が挙げられ、具体的には例えばラウリル硫酸ナトリウム，ラウリル硫酸アンモニウム等の高級アルコール硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩エステル等が挙げられ、リン酸エステル塩としては、モノステアリルリン酸エステル、モノラウリルリン酸エステル、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸等と、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属等との塩等が挙げられ、具体的には例えばモノステアリルリン酸ナトリウム、モノラウリルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸カリウム等が挙げられる。

両性界面活性剤である、カルボキシベタイン類の具体例としては、ラウリン酸アミドプロピルベタイン、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、N-ラウロイル-N'-カルボキシメチル-N'-ヒドロキシエチルエチレンジアミンナトリウム等が挙げられ、スルホベタイン類の具体例としては、ラウリン酸アミドプロピルヒドロキシスルホベタイン等が挙げられ、グリシン類の具体例としては、ラウリルジアミノエチルグリシンナトリウム等が挙げられ、2-アルキルイミダゾリンの誘導体類の具体例としては、２-ラウロイル-N-カルボキシメチル-N-ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン等の２-アルキル-N-カルボキシメチル-N-ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン等が挙げられ、アミンオキサイド類の具体例としては、ラウリルジメチルアミンオキサイド等が挙げられる。

これら界面活性剤の好ましい具体例としてはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ラウロイルサルコシンナトリウムが挙げられ、これらを併用することが更に好ましい。

また、これら界面活性剤は市販されているものをそのまま用いてもよい。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテルは、BT-9（日光ケミカルズ(株)商品名）等の名称で、ラウロイルサルコシンナトリウムは、サルコシネートLN(日光ケミカルズ(株)商品名)等の名称で販売されている。

これらの界面活性剤はそれぞれ単独で用いても、２種以上併用して用いても構わない。また、その使用量としては、測定に影響し難い濃度であればよく、通常恒温槽中での濃度が合計で0.005〜1.0w/w%程度、好ましくは0.01〜0.5w/w%になるように、清浄剤中に添加される。清浄剤中の濃度としては、恒温槽中の水に添加した場合に、何倍に希釈されるかを考慮して決定すればよいが、通常は1〜20w/w%程度、好ましくは5〜10w/w%程度となるように、単独で若しくは２種以上併用して用いられる。

本発明に係る恒温槽用洗浄剤は、本発明に係る第４級アンモニウム塩又は両性界面活性能を有する防腐剤、及び本発明に係る界面活性剤を所定濃度含有していればよいが、第４級アンモニウム塩は抗菌力に優れ、また両性界面活性能を有する防腐剤はより殺菌力が高いことから、これらを共存させることがより好ましい。

尚、本発明に係る恒温槽用清浄剤は、主に自動分析機の恒温水槽中に添加されるものであり、通常小口径のプラスチックチューブを介して水槽中に添加される。このため、清浄剤自身の粘度が高くなり過ぎたり、白濁する等していた場合には、恒温水槽中に所定量の清浄剤を添加することができなかったり、移送用のプラスチックチューブが目詰まりする等、実用上問題が生じる可能性が高い。従って、清浄剤自身の性質として、粘度が6センチストークス(cSt、SI単位系で表すとmm ² /s)未満であって、且つ澄明であることが望ましい。

また、本発明に係る恒温槽用清浄剤は、本発明の目的を阻害しないものであれば、必要に応じてキレート剤、pH調整剤、例えばβ-チオジグリコール等の安定化剤等を添加することも任意である。

本発明に係る恒温槽用清浄剤に必要に応じて含有されるキレート剤としては、金属不純物と錯化合物を形成するものであればよく、特に限定されないが、例えば分子中に１以上のカルボキシル基を有する化合物、分子中に１以上のホスホン酸基を有する化合物、N-置換アミノ酸類、縮合リン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩等が挙げられる。

分子中に１以上のカルボキシル基を有する化合物としては、分子中に１〜４個の窒素原子と２〜６個のカルボキシル基を有する含窒素ポリカルボン酸類が好ましく、具体的には、例えばヒドロキシエチルイミノ二酢酸〔ＨＩＤＡ〕，イミノ二酢酸〔ＩＤＡ〕等のヒドロキシ基を有していてもよいアルキルイミノポリカルボン酸、例えばニトリロ三酢酸〔ＮＴＡ〕，ニトリロ三プロピオン酸〔ＮＴＰ〕等のニトリロポリカルボン酸、例えばエチレンジアミン四酢酸〔ＥＤＴＡ〕，エチレンジアミン二酢酸〔ＥＤＤＡ〕，エチレンジアミン二プロピオン酸二塩酸塩〔ＥＤＤＰ〕，ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸〔ＥＤＴＡ−ＯＨ〕，1,6-ヘキサメチレンジアミン-N,N,N',N'-四酢酸〔ＨＤＴＡ〕，トリエチレンテトラミン六酢酸〔ＴＴＨＡ〕，ジエチレントリアミン-N,N,N',N'',N''-五酢酸〔ＤＴＰＡ〕，N,N-ビス（2-ヒドロキシベンジル）エチレンジアミン-N,N-二酢酸〔ＨＢＥＤ〕等のヒドロキシアルキル基，ヒドロキシアリール基又はヒドロキシアラルキル基を有していてもよいモノ又はポリアルキレンポリアミンポリカルボン酸、例えばジアミノプロパン四酢酸〔Ｍｅｔｈｙｌ−ＥＤＴＡ〕，trans-1,2-ジアミノシクロヘキサン-N,N,N',N'-四酢酸〔ＣｙＤＴＡ〕等のポリアミノアルカンポリカルボン酸、例えばジアミノプロパノール四酢酸〔ＤＰＴＡ−ＯＨ〕等のポリアミノアルカノールポリカルボン酸、例えばグリコールエーテルジアミン四酢酸〔ＧＥＤＴＡ〕等のヒドロキシアルキルエーテルポリアミンポリカルボン酸等が挙げられる。

分子中に１以上のホスホン酸基を有する化合物としては、例えばアルキルアミノポリ（アルキルホスホン酸），モノ又はポリアルキレンポリアミンポリ（アルキルホスホン酸）、ニトリロポリ（アルキルホスホン酸）等の分子中に１〜６個の窒素原子と１〜８個のホスホン酸基を有する含窒素ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸、アルキレンポリホスホン酸、ヒドロキシ基を有していてもよいアルカンポリホスホン酸等が挙げられる。

分子中に１以上のホスホン酸基を有する化合物の具体例としては、例えばエチルアミノビス（メチレンホスホン酸），ドデシルアミノビス（メチレンホスホン酸）等のアルキルアミノポリ（アルキルホスホン酸）、例えばエチレンジアミンビス（メチレンホスホン酸）〔ＥＤＤＰＯ〕，エチレンジアミンテトラキス（エチレンホスホン酸），エチレンジアミンテトラキス（メチレンホスホン酸）〔ＥＤＴＰＯ〕，ヘキサメチレンジアミンテトラキス（メチレンホスホン酸），イソプロピレンジアミンビス（メチレンホスホン酸），イソプロピレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸），プロパンジアミンテトラ（エチレンホスホン酸）〔ＰＤＴＭＰ〕，ジアミノプロパンテトラ（メチレンホスホン酸）〔ＰＤＴＰＯ〕，ジエチレントリアミンペンタ（エチレンホスホン酸）〔ＤＥＰＰＯ〕，ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）〔ＤＥＴＰＰＯ〕，トリエチレンテトラミンヘキサ（エチレンホスホン酸）〔ＴＥＴＨＰ〕，トリエチレンテトラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）〔ＴＴＨＰＯ〕等のモノ又はポリアルキレンポリアミンポリ（アルキルホスホン酸）、例えばニトリロトリス（メチレンホスホン酸）〔ＮＴＰＯ〕等のニトリロポリ（アルキルホスホン酸）、例えばフェニルホスホン酸等のアリールホスホン酸、例えばアルキレンジホスホン酸（メチレンジホスホン酸等）等のアルキレンポリホスホン酸、例えばヒドロキシ基を有していてもよいアルカンジホスホン酸（エチリデンジホスホン酸、1-ヒドロキシエチリデン-1,1'-ジホスホン酸〔ＨＥＤＰＯ〕，1-ヒドロキシプロピリデン-1,1'-ジホスホン酸，1-ヒドロキシブチリデン-1,1'-ジホスホン酸等）等のアルカンポリホスホン酸等が挙げられる。

N-置換アミノ酸類としては、例えばジヒドロキシエチルグリシン〔ＤＨＥＧ〕、N-アセチルグリシン等が、縮合リン酸類としては、例えばトリポリリン酸、ヘキサメタリン酸等がそれぞれ挙げられる。

これらのキレート剤の中でもＥＤＴＡが、特にそのアルカリ金属塩が、中でも四ナトリウム塩（エチレンジアミン四酢酸・四ナトリウム、ＥＤＴＡ４Ｎａ）が好ましい。

キレート剤は、単独で用いても、また、２種以上併用して用いても構わない。また、その使用量としては、測定に影響し難い濃度であればよく、通常恒温槽中での濃度が合計で0.00001〜0.0001w/w%程度、好ましくは0.00002〜0.00005w/w%になるように、清浄剤中に添加される。清浄剤中の濃度としては、恒温槽中の水に添加した場合に、何倍に希釈されるかを考慮して決定すればよいが、通常は0.001〜0.1w/w%程度、好ましくは0.01〜0.05w/w%程度となるように、単独で若しくは２種以上併用して用いられる。

尚、本発明に係る恒温槽用清浄剤を加えた使用時の恒温槽中の水の液性は、水のヌメリ防止及びミズカビの発生防止のためにアルカリ性になっていることが好ましい。例えばｐＨ８〜１４，特に９〜１２であることが好ましい。

そのため、本発明に係る恒温槽用清浄剤に、液性をアルカリ性にする試薬、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の試薬を、恒温槽用清浄剤に加えておくことが好ましい。その際、恒温槽用清浄剤に加えるアルカリ試薬の量は、恒温槽用清浄剤自体の液性がｐＨ８〜１４，好ましくは９〜１２になる程でよい。

本発明に係る恒温槽の清浄方法としては、本発明に係る恒温槽用清浄剤を、恒温槽の水に、藻の発生や微生物(細菌等)の発育を防止し、かつ測定に影響難い濃度になるように添加すればよい。

例えば、通常恒温槽中での第４級アンモニウム塩の濃度が合計で0.001〜0.1w/w%程度、好ましくは0.005〜0.05w/w%程度、両性界面活性能を有する防腐剤の濃度が合計で0.0005〜0.02w/w%程度、好ましくは0.001〜0.01w/w%程度、界面活性剤の濃度が合計で0.005〜1.0w/w%程度、好ましくは0.01〜0.5w/w%程度、必要に応じて含有されるキレート剤の濃度が合計で0.00001〜0.0001w/w%程度、好ましくは0.00002〜0.00005w/w%程度になるように、本発明に係る恒温槽用清浄剤を希釈して用いればよい。

その方法としては、例えば第４級アンモニウム塩の濃度が合計で通常は1〜10w/w%程度、好ましくは3〜8w/w%程度、両性界面活性能を有する防腐剤の濃度が合計で0.05〜10w/w%程度、好ましくは１〜５w/w%程度、界面活性剤の濃度が合計で１〜20w/w%程度、好ましくは５〜10w/w%程度、必要に応じて含有されるキレート剤の濃度が合計で0.001〜0.1w/w%程度、好ましくは0.01〜0.05w/w%程度になるように調製された本発明の恒温槽用清浄剤を、恒温槽の水に100〜1,000倍希釈になるように添加して用いればよい。

また、恒温槽の水に、各試薬を夫々上記した如き濃度になるように添加してもよい。

尚、調製された恒温槽中の水のpHは８〜１４のアルカリ性に、好ましくはpH９〜12のアルカリ性になっていることが好ましく、そのためには本発明に係る恒温槽用清浄剤に、予め液性をアルカリ性にする試薬を含有させておき、該恒温槽用清浄剤を該恒温槽中の水に添加したときに、恒温槽中の水の液性が目的のpHに調整されるようにすればよい。また、恒温槽の水に第４級アンモニウム塩又は／及び両性界面活性能を有する防腐剤、界面活性剤、必要に応じて含有されるキレート剤を上記濃度になるように添加した後、液性をアルカリ性にする試薬を恒温槽の水に添加して、恒温槽中の水の液性を目的のpHに調整してもよい。
以下に実施例を挙げて、本発明を更に詳細に説明するが、本発明は、これにより何等限定されるものではない。

実験例１．抗菌力の検討
（１）薬剤及び試験菌
１）薬剤
ジデシルジメチルアンモニウムアジペート（DDAA）、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミン（TAA）及び塩化ベンザルコニウム（BC）を用いた。
２）試験菌
Bacillus subtilis（枯草菌、NBRC13719）、Escherichia coli（大腸菌、NBRC3972）、Pseudonas aeruginosa（緑膿菌、NBRC12689）、Staphylococcus aureus（黄色ブドウ球菌、NBRC12732）、Aspergillus niger（黒コウジカビ、NBRC6341）、Chaetomium globosum（クロカワカビ、NBRC6347）、Cladosporium cladosporioides（NBRC6348）、Penicillium citrinum（青カビ属、NBRC6352）及びTrichoderma viride（ツチアオカビ属、NBRC31831）を用いた。

（２）培地の調製
直径90mmの滅菌シャーレに、各薬剤を蒸留水で希釈した水溶液を、全量20mLに調製した場合の薬剤濃度が所定の濃度となるように取り、次いで、シャーレに滅菌水を、滅菌水と薬剤水溶液の合計が2mLとなるように入れた。更に、シャーレに、高圧蒸気滅菌して50℃±2℃に保存しておいた普通寒天培地を18mL入れ、固化させて、寒天平板培地を得た。
（３）抗菌力評価方法
予めブイヨン培地で１×10^８個／mLになるまで培養した各種試験菌を、滅菌生理食塩水で100倍に希釈した（１×10^６個／mL）。次いで白金耳を用いて、調製した試験菌溶液を(2)の寒天平板培地表面に塗抹し、35℃±2℃で24時間培養した。
培養後、培地表面における菌の生育の有無を確認し、菌の生育が認められない最小の薬剤濃度を、その薬剤の最小発育阻止濃度（MIC、μg／mL）とした。

（４）結果
結果を表１に示す。
また、表１に示した各菌体の略称は、夫々下記の通りである。
B.s＝Bacillus subtilis＝枯草菌(NBRC13719)
E.c＝Escherichia coli＝大腸菌(NBRC3972)
P.a＝Pseudonas aeruginosa＝緑膿菌(NBRC12689)
S.a＝Staphylococcus aureus＝黄色ブドウ球菌(NBRC12732)
A.n＝Aspergillus niger＝黒コウジカビ(NBRC6341)
C.g＝Chaetomium globosum＝クロカワカビ(NBRC6347)
Cl.cl＝Cladosporium cladosporioides(NBRC6348)
P.c＝Penicillium citrinum＝青カビ属(NBRC6352)
T.v＝Trichoderma viride＝ツチアオカビ属(NBRC31831)

表１の結果から明らかな如く、DDAA及びTAAは、試験した全ての菌種について、BCよりも抗菌力が高ことが判った。

実験例２．蛋白質存在下での抗菌力の検討
（１）薬剤及び試験菌
１）薬剤
ジデシルジメチルアンモニウムアジペート（DDAA）、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミン（TAA）及び塩化ベンザルコニウム（BC）を用いた。
２）試薬溶液
・GOT(グルタミン酸オキサロ酢酸トランスアミナーゼ)溶液：LタイプワコーGOT ・J2キット（和光純薬工業（株）製）のGOT基質酵素液及びGOT・L2α-KG溶液を、蒸留水で0.2w/w%水溶液になるように調製した。
・GPT(グルタミン酸ピルビン酸トランスアミナーゼ)溶液：LタイプワコーGPT ・J2キット（和光純薬工業（株）製）のGPT基質酵素液及びGPT・L2α-KG溶液を、蒸留水で0.2w/w%水溶液になるように調製した。
・血清：コントロール血清IIワコー（和光純薬工業（株）製）を蒸留水で0.2w/w%水溶液になるように調製した。
３）試験菌
Bacillus subtilis（枯草菌、NBRC13719）、Escherichia coli（大腸菌、NBRC3972）、Pseudonas aeruginosa（緑膿菌、NBRC12689）及びStaphylococcus aureus（黄色ブドウ球菌、NBRC12732）を用いた。

（２）培地の調製
直径90mmの滅菌シャーレに、各薬剤を蒸留水で希釈した水溶液を、全量20mLに調製した場合の薬剤濃度が所定の濃度となるように、また試薬中の各成分（GOT、GPT、血清）の終濃度が、全量20mLに調製した場合に100μg/mLとなるように、薬剤水溶液と試薬溶液を夫々シャーレに取り、次いで、シャーレに滅菌水を、滅菌水と薬剤水溶液と試薬溶液との合計が2mLとなるように入れた。更に、シャーレに、高圧蒸気滅菌して50℃±2℃に保存しておいた普通寒天培地を18mL入れ、固化させて、寒天平板培地を得た。また、対照として薬剤溶液の代わりに純水を入れた寒天平板培地も調製した。
（３）抗菌力評価方法
予めブイヨン培地で１×10^８個／mLになるまで培養した各種試験菌を、滅菌生理食塩水で100倍に希釈した（１×10^６個／mL）。次いで白金耳を用いて、調製した試験菌溶液を(2)の寒天平板培地表面に塗抹し、35℃±2℃で24時間培養した。
培養後、培地表面における菌の生育の有無を確認し、菌の生育が認められない最小の薬剤濃度を、その薬剤の最小発育阻止濃度（MIC、μg／mL）とした。

（４）結果
結果を表２に示す。
また、表２に示した各菌体の略称は、夫々下記の通りである。
B.s＝Bacillus subtilis＝枯草菌(NBRC13719)
E.c＝Escherichia coli＝大腸菌(NBRC3972)
P.a＝Pseudonas aeruginosa＝緑膿菌(NBRC12689)
S.a＝Staphylococcus aureus＝黄色ブドウ球菌(NBRC12732)

表２から明らかな如く、DDAA及びTAAは、酵素や血清等の蛋白質が存在する条件下でも、各種菌に対する抗菌力は変化せず、恒温槽用清浄剤に用いるのに好ましいことが判った。
一方、BCは、蛋白質が共存すると抗菌力が低下し、恒温槽用清浄剤に用いるのには好ましいものとはいえないことが判った。

実験例３．殺菌力の検討
（１）薬剤及び試験菌等
１）薬剤
ジデシルジメチルアンモニウムアジペート(DDAA)、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミン（TAA）及び塩化ベンザルコニウム（BC）を、夫々蒸留水で１w/w%となるように調製した。
２）試薬溶液
・GOT溶液：LタイプワコーGOT ・J2キット（和光純薬工業（株）製）のGOT基質酵素液及びGOT・L2α-KG溶液を、蒸留水で0.1w/w%水溶液になるように調製した。
・GPT溶液：LタイプワコーGPT ・J2キット（和光純薬工業（株）製）のGPT基質酵素液及びGPT・L2α-KG溶液を、蒸留水で0.1w/w%水溶液になるように調製した。
・血清：コントロール血清IIワコー（和光純薬工業（株）製）を蒸留水で0.1w/w%水溶液になるように調製した。
３）試験菌
Bacillus subtilis（枯草菌、NBRC13719）、Escherichia coli（大腸菌、NBRC3972）、Pseudonas aeruginosa（緑膿菌、NBRC12689）及びStaphylococcus aureus（黄色ブドウ球菌、NBRC12732）を用いた。

（２）殺菌力評価方法
i）予めブイヨン培地で１×10^８個／mLになるまで培養した各種試験菌を、滅菌生理食塩水で100倍に希釈して試験菌溶液とした（１×10^６個／mL）。
ii）予め乾熱滅菌しておいた20mLのガラス製試験管に、薬剤水溶液、試薬溶液、及び上記i)で調製した試験菌溶液を、全量10mLに調製した場合に、薬剤の終濃度が50μg/mLに、試薬の終濃度が100μg/mLに、試験菌が１×10^５個／mLになるように入れ、十分に攪拌した。
iii)一定時間（５分、10分、15分）経過後、上記ii)で得られた溶液を、予め調製しておいた普通寒天平板培地表面に、白金耳を用いて塗抹し、35℃±2℃で24時間培養した。
iv)培養後、培地表面における菌の生育の有無を確認した。

（３）結果
結果を表３に示す。
表３に於いて、培地表面に菌の生育が認められた場合を＋、培地表面に菌の生育が認められなかった場合を−で夫々示す。
表３に示した各菌体の略称は、実験例２で記載した通りである。

表３より明らかな如く、DDAA及びTAAは、BCと比較して、酵素や血清等の蛋白質が存在する条件下でも、緑膿菌（P.a）や黄色ブドウ球菌（S.a）等の、院内感染に関与する菌に対する殺菌力が高いことが判った。また、データは示していないが、両性界面活性能を有する防腐剤であるTAAは、10μg/mLの低濃度でも緑膿菌及び黄色ブドウ球菌に対して高い殺菌力を示し、且つその効果は、酵素や血清等の蛋白質が存在する条件下でも変わらなかった。

実施例１．本発明の恒温槽用清浄剤の殺菌力の検討
実験例１〜３の結果より、ジデシルジメチルアンモニウムアジペート及びN-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミンが抗菌力、殺菌力共に優れていることが判ったので、これを含有する本発明の恒温槽用清浄剤を調製した。そして、本発明の恒温槽用清浄剤と、従来の恒温槽用清浄剤について、各種菌に対する殺菌力の比較を行った。

（１）本発明の恒温槽用清浄剤の調製
ジデシルジメチルアンモニウムアジペート 5.6w/w%、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミン 2.4w/w%、EDTA４Na 0.02w/w%、ポリオキシエチレンアルキルエーテル 4.5w/w%、ラウロイルサルコシンナトリウム 0.5w/w%となるように純水に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液でpH11.4に調製し、本発明の恒温槽用清浄剤とした。
（２）従来の恒温槽用清浄剤の調製
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル：モノエテノールアミン：蒸留水＝20：５：５：70の重量比となるように混合したものを調製し、従来の恒温槽用清浄剤とした。
（３）試験菌
Bacillus subtilis（枯草菌、NBRC13719）、Escherichia coli（大腸菌、NBRC3972）、Pseudonas aeruginosa（緑膿菌、NBRC12689）、Staphylococcus aureus（黄色ブドウ球菌、NBRC12732）を用いた。

（４）殺菌力評価方法
i）予めブイヨン培地で１×10^８個／mLになるまで培養した各種試験菌を、滅菌生理食塩水で100倍に希釈して試験菌溶液とした（１×10^６個／mL）。
ii）予め乾熱滅菌しておいた20mLのガラス製試験管に、本発明の恒温槽用清浄剤又は従来の恒温槽用清浄剤を、全量10mLに調製した場合の濃度が所定の濃度（0.05w/w%、0.1w/w%、0.2w/w%）となるように入れた。次いで該試験管に、上記i)で得られた試験菌溶液を、恒温槽用清浄剤と試験菌溶液の合計が10μlとなるように入れた。
iii) 一定時間（５分、10分、15分）経過後、上記ii)で得られた試験菌溶液を、予め調製しておいた普通寒天平板培地表面に、白金耳を用いて塗抹し、35℃±2℃で24時間培養した。
iv)培養後、培地表面における菌の生育の有無を確認し、菌の生育が認められない最小の恒温槽用清浄剤の濃度を求めた。

（５）結果
結果を表４示す。
表４に於いて、培地表面に菌の発育が認められた場合を＋、培地表面に菌の発育が認められなかった場合を−で夫々示す。
表４に示した各菌体の略称は、実験例２で記載した通りである。
尚、表４に於いて、各濃度の本発明の恒温槽用清浄剤中の、各成分の終濃度は夫々以下の通りである。

恒温槽用清浄剤の濃度が0.05w/w%の場合、ジデシルジメチルアンモニウムアジペートは0.0028w/w%、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミンは0.0012w/w%、EDTA4Naは0.00001w/w%、ポリオキシエチレンアルキルエーテルは0.00225w/w%、ラウロイルサルコシンナトリウムは0.00025w/w%である。
恒温槽用清浄剤の濃度が0.1w/w%の場合、ジデシルジメチルアンモニウムアジペートは0.0056w/w%、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミンは0.0024w/w%、EDTA4Naは0.00002w/w%、ポリオキシエチレンアルキルエーテルは0.0045w/w%、ラウロイルサルコシンナトリウムは0.0005w/w%である。
恒温槽用清浄剤の濃度が0.2w/w%の場合、ジデシルジメチルアンモニウムアジペートは0.0112w/w%、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミンは0.0048w/w%、EDTA4Naは0.00004w/w%、ポリオキシエチレンアルキルエーテルは0.009w/w%、ラウロイルサルコシンナトリウムは0.001w/w%である。

表４から明らかな如く、本発明の恒温槽用清浄剤は、従来の恒温槽用清浄剤に比較して殺菌力が高く、特に緑膿菌（P.a）や黄色ブドウ球菌（S.a）に対する殺菌力も高いことから、院内感染予防・防止のための要望にも十分応え得るものであることが判った。

実施例２．経時安定性試験１
（１）本発明の恒温槽用清浄剤の調製
ジデシルジメチルアンモニウムアジペート 5.6w/w%、EDTA4Na 0.02w/w%、ポリオキシエチレンアルキルエーテル 4.5w/w%、ラウロイルサルコシンナトリウム 0.5w/w%となるように純水に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液でpH11.4に調製し、本発明の恒温槽用清浄剤とした。

（２）経時安定性試験
上記（１）で調製した本発明の清浄剤の原液またはこれを純水で0.2w/w%に希釈したものを、室温又は40℃の恒温水槽に入れ、上部を透明フィルムで覆った後、放置した。所定期間放置後、恒温水槽の水の、外観、比重(20℃)、粘度(mm ² /s, 25℃)、pH、及び800〜400nm，340nm，300nmでの吸光度を測定した。また、実験例１と同様の方法で抗菌力を、実施例１と同様の方法で５分間処理に於ける殺菌力を試験した。室温で保存した場合の結果を表５に、40℃で保存した場合の結果を表６に夫々示す。

尚、0.2w/w%に希釈した恒温槽用清浄剤中の各薬剤の濃度は、ジデシルジメチルアンモニウムアジペートが0.0112w/w%、EDTA4Naが0.00004w/w%、ポリオキシエチレンアルキルエーテルが0.009w/w%、ラウロイルサルコシンナトリウムが0.001w/w%である。
また、各表に示した各菌体の略称は、実験例２で記載した通りである。

表５及び表６から明らかな如く、ジデシルジメチルアンモニウムアジペート（本発明に係る第４級アンモニウム塩）を含有する本発明の恒温槽用清浄剤は、原液でも、使用態様の0.2w/w%溶液でも、室温で６ヶ月という長期間保存しても、比重及び粘度に殆ど変化は見られなかった。また、抗菌力、殺菌力共に調製直後の効果を維持していた。更に、ジデシルジメチルアンモニウムアジペートを含有する本発明の恒温槽用清浄剤は、40℃で６ヶ月間放置するという条件下でも、比重及び粘度については、実用上の問題となるような変化は殆ど見られず、また、抗菌力、殺菌力共に調製直後の効果を維持していた。
以上のことから、本発明の恒温槽用清浄剤は、長期間の保存安定性に優れていることが判った。

実施例３．経時安定性試験２
（１）本発明の恒温槽用清浄剤の調製
N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミン 2.4w/w%、EDTA4Na 0.02w/w%、ポリオキシエチレンアルキルエーテル 4.5w/w%、ラウロイルサルコシンナトリウム 0.5w/w%となるように純水に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液でpH11.4に調製し、本発明の恒温槽用清浄剤とした。

（２）経時安定性試験
上記（１）で調製した本発明の清浄剤の原液またはこれを純水で0.2w/w%に希釈したものを、室温又は40℃の恒温水槽に入れ、上部を透明フィルムで覆った後、放置した。所定期間放置後、恒温水槽の水の、外観、比重(20℃)、粘度(mm ² /s, 25℃)、pH、及び800〜400nm，340nm，300nmでの吸光度を測定した。また、実験例１と同様の方法で抗菌力を、実施例１と同様の方法で５分間処理に於ける殺菌力を試験した。室温で保存した場合の結果を表７に、40℃で保存した場合の結果を表８に夫々示す。

尚、0.2w/w%に希釈した恒温槽用清浄剤中の各薬剤の濃度は、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミンが0.0048 w/w%、EDTA4Naが0.00004w/w%、ポリオキシエチレンアルキルエーテルが0.009w/w%、ラウロイルサルコシンナトリウムが0.001w/w%である。
また、各表に示した各菌体の略称は、実験例２で記載した通りである。

表７及び表８から明らかな如く、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミン（本発明に係る両性界面活性能を有する防腐剤）を含有する本発明の恒温槽用清浄剤は、原液でも、使用態様の0.2w/w%溶液でも、室温で６ヶ月という長期間保存しても、比重、粘度及びpHに殆ど変化は見られなかった。また、抗菌力、殺菌力共に調製直後の効果を維持していた。更に、本発明の恒温槽用清浄剤は、40℃で６ヶ月間放置するという条件下でも、比重、粘度及びpHについて実用上の問題となるような変化は殆ど見られず、また、抗菌力、殺菌力共に調製直後の効果を維持していた。
以上のことから、本発明の恒温槽用清浄剤は、長期間の保存安定性に優れていることが判った。

また、実施例２の結果（表５及び表６）と比較すると明らかな如く、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミンを含有する本発明の恒温槽用清浄剤は、長期保存下でもpHの変動が殆どない。また、緑膿菌に対する抗菌力にもより優れていることがわかる。

実施例４．経時安定性試験３
実施例１で調製した本発明の清浄剤の原液またはこれを純水で0.2w/w%に希釈したものを、室温又は40℃の恒温水槽に入れ、上部を透明フィルムで覆った後、放置した。所定期間放置後、恒温水槽の水の、外観、比重(20℃)、粘度(mm ² /s, 25℃)、pH、及び800〜400nm，340nm，300nmでの吸光度を測定した。また、実験例１と同様の方法で抗菌力を、実施例１と同様の方法で５分間処理に於ける殺菌力を試験した。室温で保存した場合の結果を表９に、40℃で保存した場合の結果を表１０に夫々示す。

尚、0.2w/w%に希釈した恒温槽用清浄剤中の各薬剤の濃度は、ジデシルジメチルアンモニウムアジペートが0.0112w/w%、N-ビス(3-アミノプロピル)ドデシルアミンが0.0048 w/w%、EDTA4Naが0.00004w/w%、ポリオキシエチレンアルキルエーテルが0.009w/w%、ラウロイルサルコシンナトリウムが0.001w/w%である。

表９及び表１０中、―とあるのは、測定をしなかった場合を示す。
また、各表に示した各菌体の略称は、実験例２で記載した通りである。

表９及び表１０から明らかな如く、本発明の恒温槽用清浄剤は、原液でも、使用態様の0.2w/w%溶液でも、室温で６ヶ月という長期間保存しても、外観、比重、粘度、pH及び吸光度に殆ど変化は見られなかった。また、抗菌力、殺菌力共に調製直後の効果を維持していた。更に、本発明の恒温槽用清浄剤は、40℃で６ヶ月間放置するという条件下でも、外観、比重、粘度、pH及び吸光度について実用上の問題となるような変化は殆ど見られず、また、抗菌力、殺菌力共に調製直後の効果を維持していた。
以上のことから、本発明の恒温槽用清浄剤は、長期間の保存安定性に優れていることが判った。

更に、実施例２の結果（表５及び６）及び実施例３の結果（表７及び表８）と比較すると明らかな如く、本発明に係る第４級アンモニウム塩と両性界面活性能を有する防腐剤の両方を含有する本発明の恒温槽用清浄剤は、長期保存でも外観、比重、pH、吸光度の変化も殆どなく、また長期間保存しても大腸菌（E.c.）及び緑膿菌（P.a.）に対する高い抗菌力も保持し得ることから、それぞれを単独で含有する本発明の恒温槽用清浄剤よりも、更に優れていることがわかる。

本発明は、水を媒体とする恒温水槽を有する科学機器、特に自動分析装置に於いて、恒温槽内の水に発生する微生物(細菌等)の発生、及びそれに伴う測定精度の低下を防止し、且つ、恒温槽内の反応容器外壁への気泡の発生,付着を防止し、しかもそれ自体は原液保存時にその構成成分の一部が分解して測定波長(300〜900nm)で吸収を有する物質を生じるというようなことのない(或は少ない)、しかも従来のものより更に殺菌効果の高い恒温槽用清浄剤を提供するものであり、本清浄剤を使用することにより、自動分析装置本来のメリットである迅速性、高能率、高精度、操作の簡便性を従来以上に生かし得る、優れた恒温槽用清浄剤を提供する。

Claims (14)

1. （１）下記一般式［Ｉ］で示される第４級アンモニウム塩
   

   

   （式中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立してアルキル基を示す。但し、Ｒ_１〜Ｒ_４のうち、少なくとも一つは炭素数８〜１８のアルキル基であり、且つ少なくとも一つは炭素数１〜３の低級アルキル基である。Ｘ^―は炭素数２以上のカルボン酸由来のアニオンを示す。）又は／及び
   （２）N−ビス(3−アミノプロピル)ドデシルアミン、3−アミノプロピル−ドデシルプロパンジアミン、1,3−プロパンジアミン−N−3−アミノプロピル―N−ドデシル、アルキルアミノグリシン、アルキルジアミノエチルグリシン塩酸塩、アルキルアミノエチルアミノエチルグリシン、アルキルアミノプロピルアミノ酢酸、及びアルキルポリアミノエチルグリシンから選択される両性界面活性能を有する防腐剤と、
   （３）界面活性剤（但し、上記(１)及び(２)に含まれるものを除く。）
   を含む恒温槽用清浄剤。
2. 一般式［Ｉ］で示される第４級アンモニウム塩がジアルキルジメチルアンモニウムアジペート又はジアルキルジメチルアンモニウムプロピオネートである、請求項１に記載の清浄剤。
3. 第４級アンモニウム塩がジデシルジメチルアンモニウムアジペートである、請求項１に記載の清浄剤。
4. 両性界面活性能を有する防腐剤がＮ−ビス（３−アミノプロピル）ドデシルアミンである、請求項１〜３の何れかに記載の清浄剤。
5. 界面活性剤が非イオン性界面活性剤又は陰イオン性界面活性剤である、請求項１〜４の何れかに記載の清浄剤。
6. 界面活性剤がポリオキシエチレンアルキルエーテル又は／及びラウロイルサルコシンナトリウムである、請求項１〜５の何れかに記載の清浄剤。
7. （１）一般式[Ｉ]で示される第４級アンモニウム塩と、（２）N−ビス(3−アミノプロピル)ドデシルアミン、3−アミノプロピル−ドデシルプロパンジアミン、1,3−プロパンジアミン−N−3−アミノプロピル―N−ドデシル、アルキルアミノグリシン、アルキルジアミノエチルグリシン塩酸塩、アルキルアミノエチルアミノエチルグリシン、アルキルアミノプロピルアミノ酢酸、及びアルキルポリアミノエチルグリシンから選択される両性界面活性能を有する防腐剤と、（３）界面活性剤（但し、上記(１)及び(２)に含まれるものを除く。）を含む、請求項１に記載の恒温槽用清浄剤。
8. 一般式［Ｉ］で示される第４級アンモニウム塩がジデシルジメチルアンモニウムアジペートで、両性界面活性能を有する防腐剤がＮ−ビス（３−アミノプロピル）ドデシルアミンで、界面活性剤がポリオキシエチレンアルキルエーテル又は／及びラウロイルサルコシンナトリウムである請求項７に記載の清浄剤。
9. 更に、キレート剤を含有する請求項１〜８の何れかに記載の清浄剤。
10. キレート剤がエチレンジアミン四酢酸塩である、請求項９記載の清浄剤。
11. 更に、液性をアルカリ性にする試薬を含有する、請求項１〜１０の何れかに記載の清浄剤。
12. 液性をアルカリ性にする試薬が水酸化ナトリウムである、請求項１１に記載の清浄剤。
13. 液性がｐＨ１０〜１２のアルカリ性である、請求項１〜１２の何れかに記載の清浄剤。
14. 請求項１に記載の清浄剤を恒温槽に添加することを特徴とする、恒温槽の清浄方法。