JP5146445B2 - 洗浄用組成物、半導体素子の製造方法 - Google Patents
洗浄用組成物、半導体素子の製造方法Info
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Description
さらに、上記特許文献中には、平坦化および反射防止膜や精密微細加工用薄膜(例えばオルガノシロキサン系薄膜)を用いたデュアルダマシンプロセス法に適した洗浄液およびその洗浄方法に関する記載や示唆はない。
本発明の洗浄用組成物は、低誘電率層間絶縁膜と、銅配線または銅合金(例えば、銅とアルミニウムとの合金)配線とを有する基板上に、オルガノシロキサン系薄膜、フォトレジスト層とをこの順に積層した後、このフォトレジスト層に選択的露光・現像処理を施してフォトレジストパターンを形成し、次いでこのレジストパターンをマスクとして、オルガノシロキサン系薄膜、低誘電率層間絶縁膜にドライエッチング処理を施した後、オルガノシロキサン系薄膜、エッチング残渣、変質フォトレジスト、および未変質フォトレジスト層を除去するものである。
本発明の半導体素子の製造方法は、低誘電率層間絶縁膜と、銅配線または銅合金配線とを有する基板上に、オルガノシロキサン系薄膜、フォトレジスト層とをこの順に積層する工程と、このフォトレジスト層に選択的露光・現像処理を施してフォトレジストパターンを形成する工程と、このレジストパターンをマスクとして、オルガノシロキサン系薄膜、低誘電率層間絶縁膜にドライエッチング処理を施す工程とを含み、ドライエッチング処理を施す工程の後に、本発明の洗浄用組成物で、オルガノシロキサン系薄膜、エッチング残渣、変質フォトレジスト、及び未変質フォトレジスト層を除去する洗浄工程を含むものである。
まず、SiOC系Low−k膜(5)に形成された配線溝に、銅配線の側面と底面用の銅拡散防止膜/バリア膜であるTaN膜(8)をスパッタリング法で成膜し、さらにTaN膜(8)上に銅メッキを行うために必要な銅シード膜もスパッタリング法で成膜した(不図示)。次いで、電解メッキ法により銅メッキ膜(7)を積層した後、余分な部分をCMP(Chemical Mechanical Polishing:化学的機械的研磨)法により除去・平坦化した。その平坦化した基板上に、エッチングストッパ膜/銅配線上部用拡散防止膜としてのSiC層(6)を、さらに、その上層にSiOC系Low−k膜(5)を各々CVDにより積層した。これらの層の上に、反射防止膜や精密微細加工用マスクとしてのオルガノシロキサン系薄膜(3)を堆積し、次いで、ポジ型フォトレジストをスピン塗布・加熱し、フォトレジスト層(1)を積層した。このフォトレジストに対して選択的に露光処理をし、ポストエクスポージャベーク処理を行い、現像液である水酸化テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて現像処理をし、フォトレジストパターンを形成した。そして、このレジストパターンをマスクとしてハロゲン系エッチングガスにてドライエッチング処理を施し、オルガノシロキサン系薄膜、Low−k膜を通して銅層までのビアホールを形成した。このドライエッチング処理の後のフォトレジスト層(1)の表層部はドライエッチング処理により変質し硬化して、変質フォトレジスト(1A)が形成された。変質フォトレジスト(1A)の下層には、ドライエッチング処理の影響を受けていないフォトレジスト部(未変質フォトレジスト層(1B))が残っていた。さらに、ビアホール側壁にはエッチング残渣(4)が堆積していた。
図1の半導体素子に対し、下記表1〜3で示した洗浄用組成物を用いて表中の処理条件で洗浄した後、超純水でリンスしてN2ブローにて乾燥して、半導体素子を完成した。
しかる後に、走査型電子顕微鏡(日立製電界放出形走査電子顕微鏡 S−4700)で断面を観察し、ドライエッチング後の変質フォトレジスト、未変質フォトレジスト層、オルガノシロキサン系薄膜、及びエッチング残渣の除去性、銅およびSiOC系Low−k膜の腐食性について下記の判断基準に従って評価した。その結果を下記表1(実施例1〜6)、及び表2(比較例1〜5)に示した。なお、洗浄用組成物のpHは、HORIBA製の「pH METER F−12」にて測定した。
=除去性評価=
A:完全に除去された。
B:変質フォトレジストおよび未変質フォトレジスト層、並びにオルガノシロキサン系薄膜は除去されたが、エッチング残渣の取れ残りがあった。
C:一部、オルガノシロキサン系薄膜が取れ残り、エッチング残渣も残っていた。
D:変質フォトレジストおよび未変質フォトレジスト層、並びにオルガノシロキサン系薄膜とエッチング残渣が残存していた。
A:腐食が全く認められなかった。
B:銅およびSiOC系Low−k膜のうち少なくとも一つの材質に若干の腐食が認められた。
C:銅およびSiOC系Low−k膜のうち少なくとも一つの材質に大きな腐食が認められた。
比較例1では、エッチング残渣の除去が不完全であり、比較例2では、変質フォトレジスト及び未変質フォトレジスト層、オルガノシロキサン系薄膜やエッチング残渣の除去が不完全であった。
比較例3,4は、除去性は良好であったが、銅およびSiOC系Low−k膜のうち少なくとも一つの材質に腐食が生じていた。
比較例5においては、オルガノシロキサン系薄膜をほとんど除去できず、取れ残りが多かった。これは、水酸化カリウムではなく、リン酸カリウムを使用したことが1つの要因と考えられる。
表3に示した洗浄用組成物を70℃の恒温水槽にて24時間加熱し、洗浄液中の過酸化水素の安定性評価を実施した。具体的には、加熱前後の過酸化水素濃度を電位差滴定法(過マンガン酸カリウム使用)で測定し、その値から各々の洗浄用組成物の過酸化水素分解率を算出し、下記の判断基準に従って評価を行った。なお、過酸化水素分解率は、下記式により求めた。
A:過酸化水素分解率が0〜5%未満
B:過酸化水素分解率が5〜10%未満
C:過酸化水素分解率が10〜20%未満
D:過酸化水素分解率が20%以上
Claims (5)
- 低誘電率層間絶縁膜と、銅配線または銅合金配線とを有する基板上に、オルガノシロキサン系薄膜、フォトレジスト層とをこの順に積層した後、該フォトレジスト層に選択的露光・現像処理を施してフォトレジストパターンを形成し、次いでこのレジストパターンをマスクとして、前記オルガノシロキサン系薄膜、前記低誘電率層間絶縁膜にドライエッチング処理を施した後、前記オルガノシロキサン系薄膜、ドライエッチング処理で生じた残渣、ドライエッチング処理により変質した変質フォトレジスト、及び前記変質フォトレジストより下層にある未変質フォトレジスト層を除去する半導体素子の洗浄用組成物であって、
過酸化水素15〜20質量%、アミノポリメチレンホスホン酸類0.0001〜0.003質量%、水酸化カリウム0.02〜0.5質量%および水を含み、pHが7.5〜8.5である洗浄用組成物。 - 前記アミノポリメチレンホスホン酸類が、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)および1,2−プロピレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)のいずれかである請求項1に記載の洗浄用組成物。
- ナトリウム含有量が0.001〜0.1ppmである請求項1に記載の洗浄用組成物。
- 前記銅合金が銅とアルミニウムとの合金である請求項1に記載の洗浄用組成物。
- 低誘電率層間絶縁膜と、銅配線または銅合金配線とを有する基板上に、オルガノシロキサン系薄膜、フォトレジスト層とをこの順に積層した後、該フォトレジスト層に選択的露光・現像処理を施してフォトレジストパターンを形成し、次いでこのレジストパターンをマスクとして、前記オルガノシロキサン系薄膜、前記低誘電率層間絶縁膜にドライエッチング処理を施した後、
過酸化水素15〜20質量%、アミノポリメチレンホスホン酸類0.0001〜0.003質量%、水酸化カリウム0.02〜0.5質量%および水を含み、pHが7.5〜8.5である洗浄用組成物で洗浄することを特徴とする半導体素子の製造方法。
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