JP5142540B2 - X線装置の焦点‐検出器システム - Google Patents
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Description
"X-ray phase imaging with a grating interferometer, T. Weitkamp et al., 8. August 2005 / Vol. 12, No. 16 / OPTICS EXPRESS"
焦点とビーム路中に配置されかつビームごとにコヒーレントX線ビームの場を作成する焦点側線源格子とを備えたX線ビーム源と、
線源格子に対して平行に配置された格子線を備え干渉パターンを作成する位相格子と、位相格子の後方でX線強度を測定するための平面状に配置された多数の検出素子を備えた検出器とを有する格子‐検出器装置と
を備え、
検出素子が、位相格子の格子線に対して平行に向いた多数の縦長の検出条帯から形成されることによって解決される。
本発明の有利な実施態様は従属請求項に記載されている。
焦点とビーム路中に配置されかつビームごとにコヒーレントX線ビームの場を作成する焦点側線源格子とを備えたX線ビーム源と、
線源格子に対して平行に配置された格子線を備え干渉パターンを作成する位相格子と、位相格子の後方でX線強度を測定するための平面状に配置された多数の検出素子を備えた検出器とを有する格子‐検出器装置と
を備え、
検出素子が、位相格子の格子線に対して平行に向いた多数の縦長の検出条帯で形成される焦点‐検出器システムが提案される。
p2=k×pDS
p0=p2×(l/d)
p1=2×{(p0×p2)/(p0+p2)}
d’=(1/2)×{p1 2/(4λ)}としてd=(l×d’)/(l−d’)
h1=λ/{2(n−1)}
但し、
p0=線源格子G0の格子周期
p1=位相格子G1の格子周期
p2=検出条帯DSの大きな周期、分析格子後の干渉線の距離
pDS=検出条帯DSの小さな周期、隣接検出条帯の中心線間の距離
d=ファンビームジオメトリにおける位相格子G1と分析格子G2もしくは検出条帯DSxとの距離
d’=平行ジオメトリのもとでの位相格子G1と分析格子G2もしくは検出条帯DSxとの距離
k=2、3、4、5、…
l=線源格子G0と位相格子G1との距離
λ=選択されたX線波長
h1=ビーム方向における位相格子G1の突条部高さ
n=位相格子の格子材料の屈折率
検査対象がビーム束によって透過され、各ビームが空間内で、方向および広がりに関して、焦点‐検出素子の接続線と検出素子の広がりとによって定められ、
微細に構造化された検出条帯によって、グループごとに接続されかつ互いにずらして配置されたまたは相互にずらして位置決めされた検出条帯でのX線の強度をビームごとに測定することによって、各ビームの平均位相シフトが測定され、
ビームの測定された平均位相シフトから位相コントラスト画像が作成され、画像のピクセル値がビームごとの平均位相シフトを表す。
位相コントラスト測定の理解を助けるために、格子セットG0〜G2を有する焦点‐検出器システムが図1に概略的に示されている。第1格子G0の前にある焦点F1はその最大広がりに符号wを付されている。第1格子G0は格子線の周期p0と、格子の溝の間に形成された突条部の高さh0とを備えている。同様に格子G1,G2も、高さh1もしくはh2と周期p1もしくはp2とを備えている。位相測定が機能するには、格子G0,G1間の距離lと格子G1,G2間の距離dが特定の関係にあることが必要である。その際次式が成り立つ。
p0=p2×(l/d)
h1=λ/{2(n−1)}
但し、nは格子材料の屈折率、λは位相シフト(位相のずれ)を測定されねばならないX線ビームの波長である。この格子は使用されるアノードのX線スペクトル内の特性線に一致したエネルギーに調整され、少なくともこのエネルギー範囲内に十分な光子数が提供されると有利である。現在一般的なタングステンアノードの場合、例えばKα線を使用することができる。しかし、その横にあるKβ線を使用することも可能である。別のアノード材料を選択する場合、相応の別のエネルギー、従って位相格子の別の寸法設定が必要である。
φ=2πn(ν/λ)
但し、νは検査対象内のボクセルもしくはピクセルの大きさに一致し、nはその屈折率、λはX線の波長である。
2 第1X線管
3 第1検出器
4 第2X線管
5 第2検出器
6 ガントリハウジング
7 患者
8 患者寝台
9 システム軸線
10 制御兼演算ユニット
11 記憶装置
A,B,C,D グループ成化された検出条帯の測定バス
d ファンビームジオメトリにおける位相格子G1と分析格子G2もしくは検出条帯DSXとの距離
d’:平行ジオメトリのもとでの位相格子G1と分析格子G2もしくは検出条帯DSXとの距離
D1 検出器
DSX 検出条帯
Ei i番目の検出素子
F1 焦点
G0 線源格子
G1 位相格子
G2 分析格子
h0,h1,h2 格子突条部の高さ
I(Ei(xG)) 格子ずれxGにおいて検出素子Eiで測定された強度
Iph 測定された光子流強度
l 線源格子G0と位相格子G1との距離
n 位相格子の格子材料の屈折率
P 患者
p0 線源格子G0の格子周期
p1 位相格子G1の位相格子
p2 検出条帯DSの大きな周期、分析格子後の干渉線の距離
pDS 検出条帯DSの小さな周期、隣接する検出条帯の中心線間の距離
Prgn プログラム
S システム軸線
S1,S2 X線ビーム
w 焦点の広がり
xG 分析格子もしくは検出条帯のずれ
x,y,z 直角座標
ν ボクセルの広がり
φ 位相シフト
φEX 検出素子EXの位相シフト
Φph 光子流
Φph(x) 検出素子のx個所における光子流
λ 検討したX線の波長
γ X線
Claims (17)
- 投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成するためのX線装置の焦点‐検出器システム(2,3)において、
焦点(F1)とビーム路中に配置されかつビームごとにコヒーレントX線ビーム(Si)の場を作成する焦点側線源格子(G0)とを備えたX線ビーム源と、
線源格子(G0)に対して平行に配置された格子線を備え干渉パターンを作成する位相格子(G1)と、位相格子(G1)の後方でX線強度を測定するための平面状に配置された多数の検出素子(Ei)を備えた検出器(D1)とを有する格子‐検出器装置と
を備え、
検出素子(Ei)が、位相格子(G1)の格子線に対して平行に向いた多数の縦長の検出条帯(DSx)から形成される
ことを特徴とするX線装置の焦点‐検出器システム。 - 格子‐検出器装置が、次の幾何学的条件
p2=k×pDS
p0=p2×(l/d)
p1=2×{(p0×p2)/(p0+p2)}
d'=(1/2)×{p1 2/(4λ)}としてd=(l×d')/(l−d')
h1=λ/{2(n−1)}
(但し、
p0=線源格子G0の格子周期
p1=位相格子G1の格子周期
p2=検出条帯DSの大きな周期、分析格子後の干渉線の距離
pDS=検出条帯DSの小さな周期、隣接する検出条帯の中心線間の距離
d=ファンビームジオメトリにおける位相格子G1と分析格子G2もしくは検出条帯DSxとの距離
d'=平行ジオメトリのもとでの位相格子G1と分析格子G2もしくは検出条帯DSxとの距離
k=2、3、4、5、…
l=線源格子G0と位相格子G1との距離
λ=選択されたX線波長
h1=ビーム方向における位相格子G1の突条部高さ
n=位相格子の格子材料の屈折率)
を満足するように構成されかつ配置されていることを特徴とする請求項1記載の焦点‐検出器システム。 - 検出条帯(DSx)が、X線によって電荷を作成しこれらの電荷を印加された電位に基づいて検出する検出条帯として構成されていることを特徴とする請求項1または2記載の焦点‐検出システム。
- 少なくとも1つの検出素子(Ei)のn個の検出条帯(DSx)が、m回のステップでX線強度を読取るためにm個の電子装置バスで交互にかつまたグループごとに読取り電子装置に接続され、2≦m≪nであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1つに記載の焦点‐検出器システム。
- 正確に2つの電子装置バス(A,B)が設けられていることを特徴とする請求項4記載の焦点‐検出器システム。
- 正確に3つ(A,B,C)または4つ(A,B,C,D)の電子装置バスが設けられていることを特徴とする請求項4記載の焦点‐検出器システム。
- 投影による位相コントラスト画像を作成するためのX線システムにおいて、請求項1乃至6のいずれか1つに記載の少なくとも1つの焦点‐検出器システム(2,3)を有することを特徴とするX線システム。
- 投影および断層撮影による位相コントラスト画像を作成するためのX線Cアームシステムにおいて、検査対象の周りを回転可能なCアーム上に配置される請求項1乃至6のいずれか1つに記載の焦点‐検出器システムを有することを特徴とするX線Cアームシステム。
- 断層撮影による位相コントラスト画像を作成するためのX線CTシステム(1)において、検査対象の周りを回転可能なガントリ上に配置される請求項1乃至6のいずれか1つに記載の少なくとも1つの焦点‐検出器システム(2,3)を有することを特徴とするX線CTシステム。
- 同じビームの複数回の強度測定を、各回毎に検出条帯を異なる位置にずらして行うことにより、位相シフトを計算するための演算ユニット(10)が設けられていることを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1つに記載のX線システム。
- 請求項1乃至6のいずれか1つに記載の焦点‐検出器システム(2,3)を用いて検査対象の投影によるX線画像を作成する方法において、
検査対象(7)がビーム束によって透過され、各ビームが空間内で、方向および広がりに関して、焦点‐検出素子の接続線と検出素子(Ei)の広がりとによって定められ、
微細に構造化された検出条帯(DSx)によって、グループごとに接続されかつ互いにずらして配置されたまたは相互にずらして位置決めされた検出条帯(DSx)でのX線の強度(I(Ei(xG)))をビームごとに測定することによって、各ビームの平均位相シフト(φ)が測定され、
ビームの測定された平均位相シフト(φ)から位相コントラスト画像が作成され、画像のピクセル値がビームごとの平均位相シフト(φ)を表す
ことを特徴とする検査対象の投影によるX線画像の作成方法。 - 検出素子(Ei)の検出条帯(DSx)が交互に2つの測定バス(A,B)に接続され、検出素子(Ei)の両測定バス(A,B)を介して2つのグループの検出条帯(DSx)での少なくとも2回の強度測定が、その測定中に検出器をずらすことなく実行され、引き続き少なくとも1回、これらのグループの検出条帯(DSx)の位置の空間的ずれ(x G )が生ぜしめられ、同じ空間ビームについてさらに2回の測定が実行されることを特徴とする請求項11記載の方法。
- グループの検出条帯(DS x )の位置の空間的ずれ(xG)が回路技術的に生ぜしめられることを特徴とする請求項11記載の方法。
- グループの検出条帯(DS x )の位置の空間的ずれ(xG)が物理的に生ぜしめられることを特徴とする請求項11記載の方法。
- 検出素子(Ei)の検出条帯(DSx)が交互に少なくとも3つの測定バス(A,B,C)に接続され、1つのビームについて検出素子の3つの測定バス(A,B,C)を介して3つのグループの検出条帯での少なくとも3回の強度測定が、その測定中に検出器をずらすことなく実行されることを特徴とする請求項11記載の方法。
- X線システムが演算および制御ユニット(10)を有し、このユニットに含まれたプログラムコード(PrgX)が作動時に請求項11乃至15のいずれか1つに記載の方法を実行することを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1つに記載のX線システム。
- X線システムの記憶媒体またはX線システム用の記憶媒体において、記憶媒体(11)がプログラムコード(PrgX)を含み、このプログラムコードがX線システムの作動時に請求項11乃至15のいずれか1つに記載の方法を実行することを特徴とする記憶媒体。
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