JP5106393B2 - 座標測定機を用いてワークピースを精査する方法及び座標測定機 - Google Patents

座標測定機を用いてワークピースを精査する方法及び座標測定機 Download PDF

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Description

本発明は、座標測定機を用いてワークピースの表面を精査する方法及び当該方法を実施するために適合された座標測定機に関する。
座標測定機は、ワークピースの表面上の複数点の座標を測定するために使用される。従来の座標測定機は、測定すべきワークピースを取り付けるためのワークピース・ホルダとワークピースの表面を精査するためのプローブとを含む。そのために、座標測定機は互いに対して移動可能ないくつかの構成要素を含み、その中の1つはワークピース・ホルダに固定連結され、他の要素はプローブを担持しており、プローブをワークピース・ホルダに対して移動させるために1つ又は複数の駆動装置が構成要素に対して設けられている。プローブはスタイラス軸に保持されたスタイラス・チップを備えたスタイラスを担持しており、スタイラス・チップはワークピース表面を精査するためにワークピースの表面に接触する。スタイラス・チップと表面が接触すれば、当該接触点の座標が座標測定機により測定される。スキャニングは測定点を連続的に検出する特定の精査モードを駆使して、測定すべき表面上のラインを特定する。これにより、スタイラス・チップと表面との接触を維持しながら、スタイラス・チップはスキャニング速度をもってスキャニング・パスに沿って案内されるため、スキャニング・パスに沿った複数の接触点においてそれらの座標値が測定される。
スタイラス・チップが表面に接触し、次いで、スタイラス・チップが表面に対してキャニング速度まで加速されたならば、測定値の誤差を生じる恐れのある振動がシステム全体において起こる。従って、表面に対するスタイラス・チップの速度がスキャニング・パスの終了点に向けて低下するときにも同様に振動が生じる。この場合にも、特に振動に基づく運動力学的関係の変化により、測定値の誤差が惹起される。
従来の測定作業が例えば閉じた円形線に沿って円筒表面を測定することであるならば、当該スキャニング・パスは当該円形線が90度の重複内で二重に測定されるように選択される。次に、スキャニング・パスの開始時及び終了時の初期振動現象により、誤差の生じた測定点が排除される。すなわち、これらの測定点は以後の解析において考慮されない。しかし、90度の重複は大半の場合において十分な大きさであるため、初期振動過程によって阻害されなかったスキャニング・パスの中央領域は完全な円周をカバーできる。
本発明の目的は、スキャニング・パスの開始時及び終了時に惹起される初期振動過程が十分に考慮された、座標測定機を用いてスキャニングにより測定すべきワークピースの表面を精査する方法を提案することである。
さらに、本発明の目的は、対応する座標測定機を提案することである。
本発明によれば、座標測定機を用いて測定すべきワークピースの表面を精査する方法が提案されるが、該方法において、表面はスキャニング開始点とスキャニング終了点との間で延びるスキャニング・パスに沿ってスタイラス・チップによりスキャニング速度をもってスキャンされる。但し、初期振動現象を考慮するために、スタイラス・チップはスキャニング開始点でワークピースの表面に接触しない状態でスキャニング動作が開始されるが、スタイラス・チップはスキャニング開始点から離れたプリスキャン・パス開始点ではワークピースの表面に接触する。次いで、スタイラス・チップはプリスキャン・パス開始点とスキャニング開始点との間で延びるプリスキャン・パスに沿って移動するが、スキャニング開始点を通過する際にスタイラス・チップは表面に対して既にスキャニング速度に達しており、初期振動現象が減衰するように、スキャニング速度まで加速される。
その際に、プリスキャン・パスの長さは固定的に予め決定されておらず、代わりに、具体的な測定条件に適合される。従って、プリスキャン・パスの長さ及びそれを通過するために要する時間を最適化できるため、特定の測定条件に対して、固定的に予め決定された過大なプリスキャン・パスの長さによるスループットが低減される。これにより、プリスキャン・パス及びポストスキャン・パスが特定の測定条件に対して過小に選択されることも回避される。
プリスキャン・パスの長さを具体的な測定作業に対して決定するための基準となるパラメータ例は、予め決定されたスキャニング速度、測定作業を実施するために使用されるスタイラスの剛性及び使用されるスタイラスの質量の数値である。
本発明の例示的な実施の形態によれば、ワークピースが例えば大きなスキャニング速度をもってスキャンされ、次いで、当該ワークピース又は別のワークピースが前記速度に比べて小さなスキャニング速度をもってスキャンされる際に、より大きなスキャニング速度をもってなされるスキャニングに対するプリスキャン・パスの長さは、より小さなスキャニング速度をもってなされるスキャニングに対する対応プリスキャン・パスよりも長く選択される。これは、比較的大きなスキャニング速度へのスタイラス・チップの加速は比較的強くかつ長い一般的な初期の振動現象を惹起するため、これらの振動現象はプリスキャン・パスのより大きな長さによってカバーされるという考慮に基づいている。
別の例示的な実施の形態によれば、ワークピースは比較的大きな剛性を持つスタイラス・チップによってスキャンされ、次いで、当該ワークピース又は別のワークピースが比較的小さな剛性を持つ別のスタイラス・チップによってスキャンされる。その際に、大きな剛性を持つスタイラス・チップによるスキャニングに対して、小さな剛性を持つスタイラス・チップによるスキャニングに対するものよりも短い長さのプリスキャン・パスが選択される。
さらに別の例示的な実施の形態によれば、ワークピースは、まず、比較的大きな質量のスタイラスによってスキャンされ、次いで、当該ワークピース又はそれとは別のワークピースが比較的小さな質量のスタイラスによってスキャンされる。その際に、大きな質量のスタイラスによるスキャニングに対するプリスキャン・パスの長さは、小さな質量を持つスタイラスによるスキャニングに対するものよりも大きく選択される。
プリスキャン・パスの長さを決定するための同じ考慮がポストスキャン・パスの長さを決定するためにも適用できる。すなわち、スタイラスはスキャニング・パスに沿ってスキャニング終了点まで移動するだけでなく、さらにスキャニング終了点とポストスキャン・パス終了点との間に延びるポストスキャン・パスに沿って、初期及び後期振動過程がスキャニング終了点までのスキャニング中の測定に影響を及ぼさないように、ワークピースの表面に沿って移動する。従って、ポストスキャン・パスの長さもスキャニング速度、スタイラスの剛性又はスタイラスの質量に応じて決定することができる。プリスキャン・パスに沿った移動に加えて、ポストスキャン・パスに沿ったスタイラスの移動を実施することができる。但し、ポストスキャン・パスに沿った移動は、スタイラスがスキャニング開始点の前でプリスキャン・パスを通過せずに実施されることも可能である。
例示的な実施の形態によれば、プリスキャン・パスの長さはポストスキャン・パスの長さよりも大きい。
別の例示的な実施の形態によれば、スキャニング・パスに沿ったスキャニング中のスキャニング速度は、スキャニング速度の値の変更によって付加的な初期振動現象が生じないように実質的に一定である。
本発明のさらに別の局面によれば、ワークピース・ホルダ、プローブ、プローブをワークピース・ホルダに対して移動させるための少なくとも1つの駆動装置及びコントローラを含む座標測定機が提供され、前記コントローラは前述の方法、つまり、スキャニング・パスに沿ったワークピースの表面のスキャニング前にスタイラス・チップをプリスキャン・パスに沿って移動させる、かつ/又は、そのスキャニング後にスタイラス・チップをポストスキャン・パスに沿って移動させる方法を実施するために、座標測定機を制御すべく適合されており、プリスキャン・パスの長さ及びポストスキャン・パスの長さは具体的な測定状況の各パラメータに応じて選択される。
本発明のさらに別の局面において、制御プログラムを表す情報を担持したコンピュータ読み取り可能な担体が提供され、当該プログラムは座標測定機を制御して前記の方法を実施すべく適合されている。上記コンピュータ読み取り可能な担体は、固体記憶装置、磁気記憶装置又は光記憶装置などの任意の適切な担体であればよく、あるいは、変調波及びインターネットなどのネットワークによる伝送に適した信号を含んでいてもよい。
以下に、本発明の実施の形態をいくつかの図面によって詳細に説明する。図中、
図1は、本発明における座標測定機の実施の形態を示し、
図2は、測定すべきワークピースの表面を精査するための本発明における方法の実施の形態の説明図を示し、
図3は、図2による方法において使用されるスタイラスの剛性の補正因子の相関関係を示し、
図4は、図2による方法において使用されるスタイラスの質量の補正因子の相関関係を示し、
図5は、円筒内面の閉じたスキャニング・パスに沿ったスキャニングの方法の実施の形態の説明図を示し、
図6は、円筒外面の閉じたスキャニング・パスに沿ったスキャニングの方法の実施の形態の説明図を示す。
図1は、例として可動式ブリッジ構造(moving bridge construction)の座標測定機23を用いる本発明における座標測定機の一実施の形態を示している。本願において、当該座標測定機の各要素及びそれによって実施される方法は、実用的であるかぎり、ヨーロッパ規格EN ISO 10360−1:2000年に準拠して表示される。
座標測定機は脚部27を備えた基盤25を含む。基盤25は、測定すべきワークピースを搭載するワークピース・ホルダ又はワークピース支持部材29をその中央に有する。ワークピース・ホルダ29の両側には支柱33、34が基盤25から上方へ延びており、ワークピース・ホルダ29の両側に配置されて互いに平行に水平y方向に延びる縦方向案内部材35、36を支持する。横方向案内部材37は縦方向案内部材35、36に直交してx方向に延びており、縦方向案内部材35,36においてy方向に直線的に移動可能に保持される。このために、横方向案内部材37の一端には案内部材39が設けられており、それは上方からU形状で縦方向案内部材36と係合すると共に、縦方向案内部材において例えばエアクッションを用いて案内される。横方向案内部材37の他端は縦方向案内部材35の上面で支持されており、また、それに対してy方向に移動可能に保持されている。コントローラ31によって制御されるモータ駆動装置により、横方向案内部材37は縦方向案内部材36に沿って移動でき、y方向の当該移動位置は基盤上に設置された目盛り41及び当該目盛り41を読み取るためにU型部材39上に設置された対応するセンサ43を含む測定システムによって検出される。
横方向案内部材37において、案内部材45はx方向に直線状に移動可能に保持されており、x方向の移動位置も横方向案内部材37上に設置された目盛り49及び案内部材45上に設置された対応するセンサ51を含む測定システムによって検出される。図1に示されていない駆動装置はコントローラ31によって制御されるが、当該駆動装置は横方向案内部材37に沿った案内部材45の移動位置を変更する。
案内部材45には互いに離れて配置されたさらなる2つの案内部材53が設けられており、それらは同じくコントローラ31によって制御されるモータ57を介してz方向に延びるバー55を移動可能に保持する。バー55のz方向の移動位置は垂直案内部材53に設けられたセンサ59を介して検出されるが、当該センサはバー55に設置された目盛り61において位置を読み取る。プローブ・システム63は、バー55の下端に設置されたラムによって支持されている。このプローブ・システムは、実際のプローブをラムに連結するために、プローブ拡張及び/又はプローブ交換システムを含むことができる。プローブ・システムは次にプローブに連結され、プローブ・システムはプローブに固定することができる。種々の交換式プローブ・システムをプローブに連結するために、スタイラス交換システムも設けることができる。スタイラス・システムはスタイラス軸に移行するスタイラス延長部を含み、その端部にはスタイラス・チップ64が取り付けられるが、それはワークピースを測定するためにワークピース表面に接触する。スタイラス・チップ64は、例えば、ルビー球とすることができる。スタイラス・システムは、種々の方向に向けられたワークピースの表面を精査するために、例えば、スタイラス延張部において互いに交差して延びる複数のスタイラスを含むこともできる。ラムにおいて、またプローブにおいて、又はプローブ交換システムもしくは挿入されたプローブ拡張部において、ラムに対するプローブの方向を変更するために旋回システムを設けることができる。すなわち、種々の方向に向けられたワークピースの表面を精査するために、空間におけるスタイラスの方向も変更可能である。
コントローラ31は駆動装置を介してワークピース・ホルダ29に対するスタイラス・チップ64の位置を制御し、スタイラス・チップとワークピースの表面との間の接触を検出し、さらに、座標測定機23の測定システムを読み出して、ワークピース・ホルダ29に対するスタイラス・チップ64の位置の座標をできるかぎり正確に測定する。コントローラ31は、図1において概略的にしか示されていない。それは、ユーザからのコマンドの受け取り、駆動装置の制御、測定システムの読み出し等を行なうためのインタフェースを含む一種のコンピュータとして実施することができる。コンピュータは、種々の方法でコンピュータにロードできるプログラムにしたがって所定の作業を実施する。図1には、コンピュータが読み出しできる形式でのプログラム情報を備えたコンパクトディスクROM32が概略的に示されているが、それはコントローラ31のスロット30に挿入して、当該プログラムをコンピュータへロードすることができる。但し、プログラム情報は別の方法、例えば、コンピュータ・ネットワークを介してコントローラ31へロードすることもできる。
図2は、ワークピース・ホルダ29に装着された円筒体71の外側面70を精査するための方法の実施の形態を例示している。
想定される測定作業は半径rの円筒体の外側面70をスキャニング・パス73に沿って精査することを含み、当該スキャニング・パスは円筒体71の主軸zの周囲にピッチhをもって2旋回でスキャニング開始点75とスキャニング終了点77との間に螺旋状に延びる。
このために、スタイラス・チップ64はスキャニング開始点75において円筒体表面70と直接的に接触しない。その代わりに、想定された中間点79から始まり、スタイラス・チップは表面70方向へ移動して、プリスキャン・パス開始点81において表面70に接触する。スタイラス・チップがプリスキャン・パス開始点81において表面70に接触するとすぐに、スタイラス・チップはプリスキャン・パス83に沿ってスキャニング開始点75の方向へ移動する。このプリスキャン・パス83は、円筒体の外側面70において一定高さ(z=一定)をもって円筒体の主軸の周りの角度αに沿って延びる円形線の形状を有する。円筒体表面70において長さLvを有するプリスキャン・パス83を通過する間に、スタイラス・チップ64は表面70に対してスキャニング速度まで加速されるため、スタイラス・チップは既にプリスキャン・パス83の通過開始時点でスキャニング速度に達しており、比較的に長さLvの最大部分を通過して、既にスキャニング速度を持ってスキャニング開始点75に向かう。スタイラス・チップがスキャニング開始点75を通過する時点までに、上記加速及びスタイラス・チップの表面との接触によって惹起される初期振動現象が実質的に減衰する。
スキャニング開始点75を通過した後に、スタイラス・チップはスキャニング・パス73に沿ってスキャニング終了点77まで螺旋状にスキャンするが、表面に対するスキャニング速度は維持される。スキャニング中の表面70とのスタイラス・チップの接触点の座標値は、測定システムによって連続的に検出され、また、コントローラ31により記録される。その際に、コントローラ31は検出された測定値を種々の障害要因に関して補正し、さらにそれらを所望の座標系へ換算する。前記の障害要因として挙げられるのは、例えば、案内部材45の縦方向案内部材35、36とバー55に対する予め決定された相互の不完全な直交アライメント、重力による座標測定機の各要素の撓み、例えば熱膨張による測定システムの誤差などである。
スタイラス・チップを表面に接触させること、及びスタイラス・チップを表面に対して加速させることによる初期振動現象はプリスキャン・パス83の通過後に実質的に既に減衰するため、スキャニング・パス73に沿ったスキャニング中の測定は、そのような初期振動過程によって実質的に影響されない。
スキャニング・パス73がポストスキャン・パス終了点87まで延びるポストスキャン・パス85によりスキャニング終了点77を越えて継続されるように、スキャニング終了点77もスタイラス・チップ64によりスキャニング速度をもって通過される。ポストスキャン・パス終了点87ではスタイラス・チップ64と表面70との接触が解除され、スタイラス・チップは円筒体71から離れた中間点89まで移動する。ポストスキャン・パス85は円筒体軸の周りの円周角γを越える一定ピッチを有する螺旋パス73を継続し、また、長さLnを有する。しかし、ポストスキャン・パス85が外側面70でのスキャニング終了点77の高さ(z=一定)で延びる円形線として形成されることも可能である。同様に、プリスキャン・パス83が外側面70でのスキャニング・パス73のピッチをもって延びる螺旋パスであることも可能である。
プリスキャン・パス83及びポストスキャン・パス85の長さLv及びLn、並びに、対応する円周角α,γは、座標測定機及び当該方法における一定かつ固定されたプリセット値ではなく、所与の測定状況に適合される。実験に使用された質量150グラム及び剛性60N/mmを有するスタイラスは、以下において基準スタイラスとして表示される。実験では、図2に示された25mmの半径rを有する円筒体がワークピースとして使用された。
プリスキャン・パス中の初期振動現象は0.065秒後に減衰し、また、ポストスキャン・パス中には0.016秒後に減衰することが判明した。下記の表1には、基準スタイラスに対して得られたプリスキャン・パス角α及びポストスキャン・パス角γが、異なるスキャニング速度vについて記載されている。
Figure 0005106393
実験において質量150グラム及び剛性10N/mmを有する基準スタイラスとは異なる柔らかいスタイラスについては、25mmの半径rを有する同じ円筒体を精査する際に、プリスキャン・パス中の調整時間は0.650秒、また、ポストスキャン・パス中のそれは0.160秒を要した。下記の表2には、異なるスキャニング速度に対して生じるプリスキャン・パス角α及びポストスキャン・パス角γが記載されている。
Figure 0005106393
基準スタイラスのほかに異なる剛性を有する他のスタイラスを使用する場合には、これらのスタイラスについても対応する角度α及びγを決定すべきである。実験によるこれらの角度の決定のほかに、当初任意形式の関数式を利用することもできる。一次式は、実用においては十分であることが判明している。
プリスキャン・パス角αは下記式にしたがって決定される:
Figure 0005106393
ここで、α0は基準スタイラスによるプリスキャン・パス角であり、また、fは補正因子である。同様に、ポストスキャン・パス角γについては下記式が成り立つ。
Figure 0005106393
ここで、γ0は基準スタイラスに対するポストスキャン・パス角であり、fはプリスキャン・パス角αに対する場合と同じ補正因子である。補正因子fについては、図3に示された下記の一次式が選択される:
Figure 0005106393
ここで、xはスタイラスの剛性を、mは線のピッチを、また、bはオフセットを表わしている。表1及び表2に示された数値により、次式が成り立つ:
Figure 0005106393
スタイラスの剛性と同様に、スタイラスの質量もプリスキャン・パス角α及びポストスキャン・パス角γの決定に影響を及ぼす。実験から判明したのは、600グラムの異なる質量を有する基準スタイラスの剛性を持つスタイラスは、基準スタイラスに比べてプリスキャン・パス及びポストスキャン・パスに対する2倍の調整時間を要することである。実験による角度α及びγの決定は他の質量のスタイラスについても可能であるが、以下のような当初任意の関数式を利用することもできる。
Figure 0005106393
及び
Figure 0005106393
ここで、α0及びγ0は基準スタイラスに対して決定される角度であり、また、uはスタイラスの質量に対する補正因子を表わしている。この補正因子uについても、図4に示された次の一次式を適用することができる。
Figure 0005106393
ここで、xはスタイラスの質量を、mは直線のピッチを、また、bはオフセットを表わしている。
与えられた例において、スタイラスの質量に対する補正因子uについて次式が成り立つ。
Figure 0005106393
スタイラスの剛性及び質量の任意の組み合わせに対する角度α及びγ を決定するために、以下の組み合わせ式が用いられる:
Figure 0005106393
スタイラスの種々の剛性及び質量の数値に対する以下の表3において、2種類の速度における補正因子fとu、及びプリスキャン・パス角αが記載されている。
Figure 0005106393
上記のプリスキャン・パス角α及びポストスキャン・パス角γは、25mmの半径rを有する円筒体を精査する例に対して適用される。他の半径を有する円筒体については、他のプリスキャン・パスびポストスキャン・パス角度が成り立つ。
一般に、それぞれの角度は以下の公式にしたがって計算することができる:
Figure 0005106393
ここで、sはプリスキャン・パス角αあるいはポストスキャン・パス角γを、νはスキャニング速度を、dは円筒体の直径を、そして、tはプリスキャン・パス及びポストスキャン・パス中の初期振動過程時間(秒単位)を表わしている。
円筒形状とは異なる形状を持つワークピースを精査する場合、プリスキャン・パス及びポストスキャン・パスの長さは、プリスキャン・パス及びポストスキャン・パスの間の調整時間から同様に決定することができる。
図5は、閉じた円形パス上の中空円筒体71のスキャニング方法を説明する。内部円筒面70は、例えば、ワークピースにおける穴として定義することができる。スタイラス・チップ64は、まず、穴内の中間点79まで移動し、次いで、プリスキャン・パス開始点81で表面70に接触する。そこから、穴の中心軸の周りの円周角αを越えて延びるプリスキャン・パス83が始まり、スタイラス・チップ64も表面70に対してスキャニング速度νまで加速される。次に、スキャニング開始点75がスキャニング速度をもって通過され、スキャニング・パス73はスキャニング開始点75と合致するスキャニング終了点77まで穴の内面に沿って穴の全円周を越えて延びる。スタイラス・チップはさらにポストスキャン・パス85を経てポストスキャン・パス終了点87まで案内されるが、当該終了点からはスタイラス・チップ64と内面との接触が解除され、スタイラス・チップはさらなる中間点89まで移動する。図5において、破線91は球形のスタイラス・チップの中心のパスを表わしている。
図6は、例えば円筒シャフト71によって定義された外側面70における閉じた円形線のスキャニングを示す図である。図6に示された要素の名称は、同じ参照符号を有する図5の要素と同様に表示されている。
図6の実施の形態において、中間点79はスタイラス・チップ64が中間点79からプリスキャン・パス開始点81までの移動中に表面70に対して接線的に接近すべく選択されているため、スタイラス・チップ64と表面70との間の接触はソフトに行われ、また、スタイラス・チップの移動はプリスキャン・パスに沿った移動に円滑に移行する。
前述の例示的な各実施の形態において、精査すべき表面は円筒体表面である。しかし、種々の形状表面、例えば、球形表面、それらからなる部品、平面又は任意の形状の面などを精査することも可能である。スキャニング・パスは定格スキャニング線としてプリセットすることができ、例えば、ワークピースの設計データから導き出すことができる。スキャニング・パスは、スキャニング方法によって精査されたプリセットされているスキャニング・パスとすることもでき、その場合、プローブ・システムの移動は定格スキャニング線上の2つの定義された終点の間で実施される。スキャニング・パスは、スキャニング方法によって精査されたプリセットされていないスキャニング・パスとすることもでき、その場合、2つの定義された境界間におけるプローブ・システムの移動はプローブ・システムからのフィードバックによって制御される。
要約すると、本発明は、座標測定機を用いて測定すべきワークピースをスキャニングにより精査するための方法及び座標測定機を提供し、スタイラス・チップはスキャニング・パスに沿ったスキャニング前にプリスキャン・パスに沿って移動し、及び/又は、スタイラス・チップはスキャニング・パス後にポストスキャン・パスに沿って移動する。プリスキャン・パス及びポストスキャン・パスの長さは、具体的な測定作業の各パラメータに応じて、特に、予め決定されたスキャニング速度、スタイラスの剛性及び/又はスタイラスの質量に応じて選択される。
図1は、本発明における座標測定機の実施の形態を示す。 図2は、測定すべきワークピースの表面を精査するための本発明における方法の実施の形態の説明図を示す。 図3は、図2による方法において使用されるスタイラスの剛性の補正因子の相関関係を示す。 図4は、図2による方法において使用されるスタイラスの質量の補正因子の相関関係を示す。 図5は、円筒内面の閉じたスキャニング・パスに沿ったスキャニングの方法の実施の形態の説明図を示す。 図6は、円筒外面の閉じたスキャニング・パスに沿ったスキャニングの方法の実施の形態の説明図を示す。

Claims (31)

  1. 座標測定機を用いて測定すべきワークピースの面を精査する方法であって、
    前記表面上のプリスキャン・パス開始点において前記座標測定機のスタイラスのスタイラス・チップを前記ワークピースの前記表面に接触させる工程と、
    前記スタイラス・チップと前記表面との接触を維持しながら、前記表面上の前記プリスキャン・パス開始点とスキャニング開始点との間で延びるプリスキャン・パスに沿って前記スタイラス・チップを移動させる工程であって、前記スタイラス・チップは前記スキャニング開始点において実質的に前記表面に対する予め決定されたスキャニング速度を有する工程と、
    前記スキャニング開始点と前記スキャニング終了点との間で延びるスキャニング・パスに沿って前記スキャニング速度をもって前記表面を前記スタイラス・チップによりスキャンする工程とを含み、
    記プリスキャン・パスのさが前記予め決定されたスキャニング速度、前記スタイラスの剛性及び前記スタイラスの質量のうちの少なくとも1つに応じて決定されることを特徴とする方法。
  2. 第1のワークピースは第1のスタイラス・チップを用いて第1のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のワークピース及び前記第1のワークピースとは異なる第2のワークピースのうちの1つが前記第1のスタイラス・チップとは異なる第2のスタイラス・チップを用いて第2のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性は前記第2のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性よりも大きく、前記第1のスキャニングの前の前記プリスキャン・パスの長さは前記第2のスキャニングの前の前記プリスキャン・パスの長さよりも短い、請求項1に記載の方法。
  3. 前記第1のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性と前記第2のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性との相対差は0.1よりも大きく、前記第1のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きい、請求項2に記載の方法。
  4. 第1のワークピースは第1のスタイラス・チップを用いて第1のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のワークピース及び前記第1のワークピースとは異なる第2のワークピースのうちの1つが前記第1のスタイラス・チップとは異なる第2のスタイラス・チップを用いて第2のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量は前記第2のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量よりも大きく、前記第1のスキャニングの前の前記プリスキャン・パスの長さは前記第2のスキャニングの前の前記プリスキャン・パスの長さよりも大きい、請求項1に記載の方法。
  5. 前記第1のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量と前記第2のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量との相対差は0.1よりも大きく、前記第1のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きい、請求項4に記載の方法。
  6. 第1のワークピースは第1のスキャニング速度をもって第1のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のワークピース及び前記第1のワークピースとは異なる第2のワークピースのうちの1つは前記第1のスキャニング速度とは異なる第2のスキャニング速度をもって第2のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のスキャニング速度は前記第2のスキャニング速度よりも大きく、前記第1のスキャニングの前の前記プリスキャン・パスの長さは前記第2のスキャニングの前の前記プリスキャン・パスの長さよりも大きい、請求項1に記載の方法。
  7. 前記第1のスキャニング速度と前記第2のスキャニング速度との相対差は0.1よりも大きく、前記第1のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きい、請求項6に記載の方法。
  8. 前記プリスキャン・パスに沿って前記スタイラス・チップを移動させる工程は、前記表面に対する前記スタイラス・チップの速度を実質的に予め決定されたスキャニング速度まで増大させる工程を含む、請求項1に記載の方法。
  9. 座標測定機を用いて測定すべきワークピースの表面を精査する方法であって、
    前記表面上のスキャニング開始点において前記座標測定機のスタイラスのスタイラス・チップを前記ワークピースの前記表面に接触させる工程と、
    前記スキャニング開始点と前記スキャニング終了点との間で延びるスキャニング・パスに沿って予め決定されたスキャニング速度をもって前記表面を前記スタイラス・チップによりスキャンする工程と、
    前記スタイラス・チップと前記表面との接触を維持しながら、前記スキャニング終了点とポストスキャン・パス終了点との間で延びるポストスキャン・パスに沿って前記スタイラス・チップを移動させる工程とを含み、
    前記ポストスキャン・パスの長さが前記予め決定されたスキャニング速度、前記スタイラスの剛性及び前記スタイラスの質量のうちの少なくとも1つに応じて決定されることを特徴とする方法。
  10. 第1のワークピースは第1のスタイラス・チップを用いて第1のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のワークピース及び前記第1のワークピースとは異なる第2のワークピースのうちの1つが前記第1のスタイラス・チップとは異なる第2のスタイラス・チップを用いて第2のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性は前記第2のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性よりも大きく、前記第1のスキャニングの後の前記ポストスキャン・パスの長さは前記第2のスキャニングの後の前記ポストスキャン・パスの長さよりも短い、請求項9に記載の方法。
  11. 前記第1のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性と前記第2のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性との相対差は0.1よりも大きく、前記第1のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きい、請求項10に記載の方法。
  12. 第1のワークピースは第1のスタイラス・チップを用いて第1のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のワークピース及び前記第1のワークピースとは異なる第2のワークピースのうちの1つが前記第1のスタイラス・チップとは異なる第2のスタイラス・チップを用いて第2のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量は前記第2のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量よりも大きく、前記第1のスキャニングの後の前記ポストスキャン・パスの長さは前記第2のスキャニングの後の前記ポストスキャン・パスの長さよりも大きい、請求項9に記載の方法。
  13. 前記第1のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量と前記第2のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量との相対差は0.1よりも大きく、前記第1のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きい、請求項12に記載の方法。
  14. 第1のワークピースは第1のスキャニング速度をもって第1のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のワークピース及び前記第1のワークピースとは異なる第2のワークピースのうちの1つは前記第1のスキャニング速度とは異なる第2のスキャニング速度をもって第2のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のスキャニング速度は前記第2のスキャニング速度よりも大きく、前記第1のスキャニングの後の前記ポストスキャン・パスの長さは前記第2のスキャニングの後の前記ポストスキャン・パスの長さよりも大きい、請求項9に記載の方法。
  15. 前記第1のスキャニング速度と前記第2のスキャニング速度との相対差は0.1よりも大きく、前記第1のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きい、請求項14に記載の方法。
  16. 座標測定機を用いて測定すべきワークピースの表面を精査する請求項1に記載の方法であって、
    前記スタイラス・チップと前記表面との接触を維持しながら、前記スキャニング終了点とポストスキャン・パス終了点との間で延びるポストスキャン・パスに沿って前記スタイラス・チップを移動させる工程をさらに含み、
    前記プリスキャン・パスの長さ及び前記ポストスキャン・パスの長さのうちの少なくとも1つが前記予め決定されたスキャニング速度、前記スタイラスの剛性及び前記スタイラスの質量のうちの少なくとも1つに応じて決定されることを特徴とする方法。
  17. 第1のワークピースは第1のスタイラス・チップを用いて第1のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のワークピース及び前記第1のワークピースとは異なる第2のワークピースのうちの1つが前記第1のスタイラス・チップとは異なる第2のスタイラス・チップを用いて第2のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性は前記第2のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性よりも大きく、前記第1のスキャニングの前及び後の前記プリスキャン・パスの長さ及び前記ポストスキャン・パスの長さのうちの少なくとも1つは前記第2のスキャニングの前及び後の前記プリスキャン・パスの長さ及び前記ポストスキャン・パスの長さのうちの少なくとも1つよりも短い、請求項16に記載の方法。
  18. 前記第1のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性と前記第2のスタイラス・チップに関する前記スタイラスの剛性との相対差は0.1よりも大きく、
    前記第1のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きいこと、及び
    前記第1のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きいことのうちの少なくとも1つが成り立つ、請求項17に記載の方法。
  19. 第1のワークピースは第1のスタイラス・チップを用いて第1のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のワークピース及び前記第1のワークピースとは異なる第2のワークピースのうちの1つが前記第1のスタイラス・チップとは異なる第2のスタイラス・チップを用いて第2のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量は前記第2のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量よりも大きく、
    前記第1のスキャニングの前及び後の前記プリスキャン・パスの長さ及び前記ポストスキャン・パスの長さのうちの少なくとも1つは前記第2のスキャニングの前及び後の前記プリスキャン・パスの長さ及び前記ポストスキャン・パスの長さのうちの少なくとも1つよりも大きい、請求項16に記載の方法。
  20. 前記第1のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量と前記第2のスタイラス・チップの前記スタイラスの質量との相対差は0.1よりも大きく、
    前記第1のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きいこと、及び
    前記第1のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きいことのうちの少なくとも1つが成り立つ、請求項19に記載の方法。
  21. 第1のワークピースは第1のスキャニング速度をもって第1のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のワークピース及び前記第1のワークピースとは異なる第2のワークピースのうちの1つは前記第1のスキャニング速度とは異なる第2のスキャニング速度をもって第2のスキャニングにおいてスキャンされ、前記第1のスキャニング速度は前記第2のスキャニング速度よりも大きく、
    前記第1のスキャニングの前及び後の前記プリスキャン・パスの長さ及び前記ポストスキャン・パスの長さのうちの少なくとも1つは前記第2のスキャニングの前及び後の前記プリスキャン・パスの長さ及び前記ポストスキャン・パスの長さのうちの少なくとも1つよりも大きい、請求項16に記載の方法。
  22. 前記第1のスキャニング速度と前記第2のスキャニング速度との相対差は0.1よりも大きく、
    前記第1のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング前の前記プリスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きいこと、及び
    前記第1のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さと前記第2のスキャニング後の前記ポストスキャン・パスの長さとの相対差は0.1よりも大きいことのうちの少なくとも1つが成り立つ、請求項21に記載の方法。
  23. 前記プリスキャン・パスのさは前記ポストスキャン・パスのさよりも大きい、請求項16に記載の方法。
  24. 前記ポストスキャン・パスに沿って前記スタイラス・チップを移動させる工程は、前記表面に対する前記スタイラス・チップの速度を実質的にゼロまで低減させる工程を含む、請求項9に記載の方法。
  25. 前記スキャニング速度は前記スキャニング・パスに沿ったスキャニング中に実質的に一定である、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  26. 前記表面は円筒体の外側面である、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  27. 前記スキャニング・パスは前記円筒体の周方向において前記外側面と少なくとも一回係合する、請求項26に記載の方法。
  28. 前記スキャニング・パスの高さzは前記円筒体の軸方向に連続的に増大する、請求項27に記載の方法。
  29. 前記スキャニング・パスは前記円筒体の周方向において前記外側面と一回係合する閉じたパスである、請求項27に記載の方法。
  30. 測定すべきワークピースの面を精査する座標測定機であって、
    前記測定すべきワークピースを保持するためのワークピース・ホルダと
    前記ワークピースの前記表面を精査するためのスタイラスを備えた測定システムと
    互いに移動可能な複数の構成要素であって、それらのうちの1つは前記ワークピース・ホルダに固定連結されており、別の1つは前記測定システムが前記ワークピース・ホルダに対して空間的に移動できるように前記測定システムを支持している複数の構成要素と
    前記複数の構成要素を互いに移動させるための少なくとも1つの駆動装置と
    前記少なくとも1つの駆動装置を制御するための、請求項1〜のいずれか1項に記載の方法を実施すべく構成されるコントローラとを含むことを特徴とする座標測定機。
  31. 座標測定機のコントローラに請求項1〜のいずれか1項に記載の方法を実施させるべく適合された制御プログラムを具現する情報を含むことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な担体。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006019382A1 (de) 2006-04-24 2007-10-25 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Scanning einer Oberfläche mit einem Koordinatenmessgerät
EP2037211B1 (en) * 2007-06-29 2017-05-10 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. Surface shape measuring device, and surface shape measuring method
JP5192283B2 (ja) * 2008-05-13 2013-05-08 株式会社ミツトヨ 三次元測定機
EP2124116B1 (de) 2008-05-21 2013-11-20 Hexagon Metrology GmbH Verfahren zur Steuerung eines CNC-gesteuerten Koordinatenmessgerätes sowie Koordinatenmessgerät
GB0900878D0 (en) * 2009-01-20 2009-03-04 Renishaw Plc Method for optimising a measurement cycle
AT508438B1 (de) * 2009-04-16 2013-10-15 Isiqiri Interface Tech Gmbh Anzeigefläche und eine damit kombinierte steuervorrichtung für eine datenverarbeitungsanlage
KR101426360B1 (ko) * 2010-09-13 2014-08-13 헥사곤 테크놀로지 센터 게엠베하 표면 스캐닝 좌표 측정 기계를 제어하기 위한 방법 및 장치
JP5763419B2 (ja) * 2011-05-27 2015-08-12 株式会社ミツトヨ 断面形状測定方法
US8742774B2 (en) * 2011-09-19 2014-06-03 United Technologies Corporation Apparatus for measuring a radius of a workpiece
US9176099B2 (en) 2012-05-08 2015-11-03 The Boeing Company Variable radius inspection using sweeping linear array
JP2014074648A (ja) * 2012-10-04 2014-04-24 Canon Inc 接触式形状測定装置および方法
US8881611B2 (en) 2013-02-26 2014-11-11 The Boeing Company Automated inspection system
GB201311600D0 (en) * 2013-06-28 2013-08-14 Renishaw Plc Calibration of a contact probe
GB201417771D0 (en) 2014-10-08 2014-11-19 Delcam Ltd Measuring device and related methods
GB201505999D0 (en) * 2015-04-09 2015-05-27 Renishaw Plc Measurement method and apparatus
US10545019B2 (en) * 2015-04-14 2020-01-28 Hexagon Metrology, Inc. CMM probe path controller and method
US11015315B2 (en) * 2015-10-12 2021-05-25 Yeow Thium Chin Pile set measurement apparatus
GB201809631D0 (en) * 2018-06-12 2018-07-25 Renishaw Plc Measurement method and apparatus
DE102019008821A1 (de) * 2019-12-18 2021-06-24 Mitutoyo Corporation Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Zweipunktgröße eines Werkstücks
EP3901563B1 (de) * 2020-04-21 2022-12-14 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH Verfahren und vorrichtung zur bestimmung einer messstrategie zur vermessung eines messobjekts und programm
US11644294B2 (en) 2021-01-29 2023-05-09 Autodesk, Inc. Automatic generation of probe path for surface inspection and part alignment
DE102021132660A1 (de) * 2021-12-10 2023-06-15 Hexagon Metrology Gmbh Koordinatenmessgerät

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3633011A (en) * 1968-08-29 1972-01-04 Ibm Method and apparatus for precisely contouring a workpiece imprecisely positioned on a supporting fixture
US4167066A (en) * 1978-04-14 1979-09-11 The Boeing Company Automatic inspection apparatus
US4222238A (en) * 1978-08-14 1980-09-16 Mcculloch Gary E Apparatus for obtaining energy from wave motion
DE3141350C2 (de) 1981-10-17 1985-11-28 Höfler, Willy, Prof. Dr.-Ing., 7500 Karlsruhe Verfahren zum Synchronisieren der Tasterbewegung eines Teilungs- und/oder Rundlaufmeßgerätes für Zahnräder
GB8605324D0 (en) * 1986-03-04 1986-04-09 Rank Taylor Hobson Ltd Metrological apparatus
US5189806A (en) 1988-12-19 1993-03-02 Renishaw Plc Method of and apparatus for scanning the surface of a workpiece
DE4245012B4 (de) * 1992-04-14 2004-09-23 Carl Zeiss Verfahren zur Messung von Formelementen auf einem Koordinatenmeßgerät
DE4326551C2 (de) * 1993-08-07 1997-04-17 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Kalibrier-Verfahren zum Ermitteln und Kompensieren unterschiedlicher Antastkraft-Verhältnisse bei Mehrkoordinaten-Tastsystemen
DE19529547A1 (de) * 1995-08-11 1997-02-13 Zeiss Carl Fa Verfahren zur Steuerung von Koordinatenmeßgeräten
DE29612861U1 (de) 1996-07-24 1996-09-12 Fa. Carl Zeiss, 89518 Heidenheim Koordinatenmeßgerät mit Meßzeitoptimierung
DE59711570D1 (de) * 1996-12-21 2004-06-03 Zeiss Carl Verfahren zur Steuerung eines Koordinatenmessgerätes und Koordinatenmessgerät
DE59711571D1 (de) 1996-12-21 2004-06-03 Zeiss Carl Verfahren zur Steuerung von Koordinatenmessgeräten und Koordinatenmessgerät
JP3081174B2 (ja) * 1997-07-08 2000-08-28 株式会社東京精密 真円度測定機及びその検出器感度校正方法
DE19730471C5 (de) * 1997-07-16 2009-02-19 Hexagon Metrology Gmbh Verfahren zum Scannen mit einem Koordinatenmeßgerät
GB9815830D0 (en) * 1998-07-22 1998-09-16 Renishaw Plc Method of and apparatus for reducing vibrations on probes carried by coordinate measuring machines
DE19900737C2 (de) 1999-01-12 2001-05-23 Zeiss Carl Verfahren zur Korrektur der Meßergebnisse eines Koordinatenmeßgerätes und Koordinatenmeßgerät
DE10050795C2 (de) * 1999-12-23 2002-11-07 Klingelnberg Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Scannen auf einem Koordinatenmessgerät
DE50106760D1 (de) 2000-05-23 2005-08-25 Zeiss Ind Messtechnik Gmbh Korrekturverfahren für Koordinatenmessgeräte
US6457251B1 (en) * 2000-08-31 2002-10-01 Xilinx Inc. Method and apparatus for calibrating device pick-up heads used in integrated circuit handler systems
GB0106245D0 (en) * 2001-03-14 2001-05-02 Renishaw Plc Calibration of an analogue probe
GB0126232D0 (en) * 2001-11-01 2002-01-02 Renishaw Plc Calibration of an analogue probe
DE10214490B4 (de) * 2002-03-26 2010-12-02 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Verfahren zur Korrektur von Führungsfehlern bei einem Koordinatenmeßgerät
DE10229821B4 (de) * 2002-06-28 2004-11-11 Carl Zeiss Koordinatenmeßgerät und Verfahren zur Steuerung eines Koordinatenmeßgerätes mit variabler Tastkopfmasse
GB0215152D0 (en) * 2002-07-01 2002-08-07 Renishaw Plc Probe or stylus orientation
GB0215478D0 (en) * 2002-07-04 2002-08-14 Renishaw Plc Method of scanning a calibrating system
GB0220158D0 (en) 2002-08-30 2002-10-09 Renishaw Plc Method of scanning
JP4028415B2 (ja) * 2003-03-10 2007-12-26 株式会社ミツトヨ 空間経路生成方法及び空間経路生成装置
US7543393B2 (en) * 2003-12-16 2009-06-09 Renishaw Plc Method of calibrating a scanning system
GB0329098D0 (en) * 2003-12-16 2004-01-21 Renishaw Plc Method of calibrating a scanning system
DE102006019382A1 (de) * 2006-04-24 2007-10-25 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Scanning einer Oberfläche mit einem Koordinatenmessgerät

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