JP5102375B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
サポート構造は、例えば、必要に応じて固定または可動式にすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。サポート構造は、パターニングデバイスを、例えば、投影システムに対して所望の位置に確実に置くことができる。本明細書において使われる「レチクル」または「マスク」という用語はすべて、より一般的な「パターニングデバイス」という用語と同義であると考えるとよい。
基板Wの動きの方向は、線450で示され、その線上の液体が最初に、方向450の基板の継続的な動きによって、ガスナイフ410と会ったときに、液体がガスナイフ410に沿って移動することがわかる。なぜならば、液体は、ガスナイフ410を通り過ぎることはできないが、それぞれの弧の液体除去デバイスに向かって方向450に移動する基板の速度コンポーネントを依然として有しているからである。液体の移動方向は、矢印460によって示されている。明らかに当然のことながら、図8および図9の実施形態では、液体が複数の液体除去デバイスのうちの1つのみに移される場所である弧が、実際にはそれぞれ90°未満および45°未満である。なぜならば、方向450がガスナイフ410に垂直である場合は、液体は、ガスナイフ410に衝突したときに、液体除去デバイスの左右いずれに向かうコンポーネントを有しないからである。
る。図13に関して上述したように、複数の追加の開口部415が、管出口の半径方向外側にある。また上述のように、追加の開口部415の半径方向外側に、ガスナイフ410が設けられる。
Claims (10)
- パターニングデバイスから液体を通して基板にパターンを転写するように構成された投影システムと、
第1のガスナイフと、
前記第1のガスナイフの一の側に位置し、前記第1のガスナイフの半径方向内側における前記液体を除去する第1の液体エキストラクタと、
前記第1のガスナイフの他の側に位置する第2のガスナイフと、
前記第1及び第2のガスナイフの間に位置し、前記第1及び第2のガスナイフの間から前記液体を除去する第2の液体エキストラクタと、
を備える液浸リソグラフィ装置。 - 前記第2の液体エキストラクタは、前記第1のガスナイフを通じて流出した前記液体を除去する、請求項1に記載の装置。
- 前記第2の液体エキストラクタは、前記第1のガスナイフの先端に設けられた、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記第2のガスナイフは、前記第1のガスナイフの前記先端に隣接して設けられた、請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第2のガスナイフは、vノッチを備えた形状を有し、前記第2の液体エキストラクタは、前記第2のガスナイフの前記vノッチに位置する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第2のガスナイフは、真直なガスナイフであり、前記第2の液体エキストラクタは、前記第2のガスナイフの端部に位置する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第1のガスナイフは、その半径方向内側に凹部を備える、請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第1及び第2の液体エキストラクタは、低圧力に接続された、請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第1のガスナイフと前記第1の液体エキストラクタとの間に開口部を更に備えた、請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置。
- 前記開口部は、周囲圧力に接続される、請求項9に記載の装置。
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