JP5099537B2 - 表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は表示装置に関し、特に接触感知機能を有する表示装置に関する。
一般的に液晶表示装置(LCD)は、画素電極及び共通電極を備えた二つの表示板とその間に挟持された誘電率異方性を有する液晶層とを備える。画素電極は行列状に配列されており、薄膜トランジスタ(TFT)などスイッチング素子に接続されて一行ずつ順次にデータ電圧の印加を受ける。共通電極は表示板の全面に亘って形成され、共通電圧の印加を受ける。画素電極と共通電極及びその間の液晶層は回路的には液晶キャパシタを構成し、液晶キャパシタはこれに接続されたスイッチング素子と共に画素を構成する基本単位となる。
このような液晶表示装置は、二つの電極に電圧を印加して液晶層に電界を生成し、この電界の強さを調節して液晶層を通過する光の透過率を調節することによって所望の画像を得る。
タッチスクリーンパネルは、画面上に指先やタッチペン(touch pen、stylus)などで触れて文字や図形を描いたり、アイコンを実行させてコンピュータなどの機械に必要な命令を実行させる装置を言う。タッチスクリーンパネルが付着された液晶表示装置は、使用者の指先やタッチペンなどが画面に触れたかどうか、及び触れた位置情報を検出することができる。しかし、このような液晶表示装置は、タッチスクリーンパネルによるコスト上昇、タッチスクリーンパネルを液晶表示板上に接着する工程が追加されることによる収率減少、液晶表示板の輝度低下、製品幅の拡大などの問題点がある。
このような問題を解決するために、タッチスクリーンパネルの代りに薄膜トランジスタからなる感知素子を液晶表示装置の画像を表示する画素内部に内蔵する技術が開発されてきている。感知素子は、使用者の指先などによる画面に加えられた光の変化を感知することによって、液晶表示装置は、使用者の指先などが画面に触れたかどうか、及び触れた位置情報を検出する。
ところが、このような感知素子及びそのための配線が占める面積が広く、画素電極の間の光漏れを防ぐためのブラックマトリックスは、二つの表示板の許容整列誤差による光漏れを防止するために十分な大きさの幅を有する必要があるため、液晶表示装置の透過率が低下する。また、このような感知素子の出力信号である感知データ信号を送る感知データ線は、画素電極及び画像データ線と共に寄生容量を形成するので、画像データ信号が変化することによって感知データ信号が影響を受けて歪む可能性があるというような問題点があった。
そこで、本発明は上記従来の接触感知機能を有する表示装置における問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、透過率を向上させ、画像データ信号の変化による感知データ信号の歪みを最少化できる表示装置を提供することにある。
上記目的を達成するためになされた本発明による表示装置は、表示板と、前記表示板に形成される第1画素及び第2画素と、前記第1画素と第2画素との間に配置され、前記表示板に対する接触によって感知データ信号を生成する感知部と、前記第1画素に接続され、画像データ信号を伝達する第1画像データ線と、前記第2画素に接続され、画像データ信号を伝達する第2画像データ線と、前記第1及び第2画像データ線と平行し、前記感知部に接続されて前記感知データ信号を伝達する感知データ線と、前記第1及び第2画像データ線と平行し、前記感知部に感知入力電圧を伝達する入力電圧線と、を備え、前記第1画素と第2画素は、それぞれスイッチング素子及び画素電極を含み、且つ前記感知部の左側と右側に配置され、前記感知部は前記感知データ線と前記入力電圧線との間に配置され、前記第1画素は前記感知データ線と前記第1画像データ線との間に配置され、前記第2画素は前記入力電圧線と前記第2画像データ線との間に配置され、前記第1画素及び前記第2画素は、画像走査線と同一の層に配置される第1遮光部材、前記第1画像データ線及び前記第2画像データ線と同一の層に配置される第2遮光部材、また第1画像データ線及び前記第2画像データ線と同一の方向にのびて前記画素電極と同一の層に配置される第3遮光部材を含むことを特徴とする。
前記第1及び第2画素は、前記感知部を中心として実質的に対称であることを特徴とする。
前記第1画素の前記感知部側とは反対の一側に配置される第3画素と、前記第3画素に接続され、前記第3画素の一側及び他側のいずれか一方に配置される第3画像データ線と、を更に有することを特徴とする。
前記第2画素の前記感知部側とは反対の一側に配置される第4画素と、前記第4画素に接続され、前記第4画素の一側及び他側のいずれか一方に配置される第4画像データ線と、を更に有することを特徴とする。
前記感知部は、前記接触によって外部光の変化を感知して前記感知データ信号を生成する感知素子を有することを特徴とする。
前記感知部は、前記接触により圧力の変化を感知して前記感知データ信号を生成する感知素子を有することを特徴とする。
本発明に係る表示装置によれば、感知部を画素の間に配置し、従来のブラックマトリックスを用いないことで画素の透過領域を大きくして透過率を向上でき、感知素子の半導体チャンネル幅を縦方向に長く拡張できるので、感知データ信号を大きくすることができるという効果がある。また、画像データ線と感知データ線とを最大限に隔離して配置することによって画像データ信号と感知データ信号との間の干渉を減らすことができるという効果がある。
次に、本発明に係る表示装置を実施するための最良の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
図面は、各種層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示している。明細書全体を通じて類似した部分については同一の参照符号を付けている。層、膜、領域、板などの部分が、他の部分の“上に”あるとする時、これは他の部分の“すぐ上に”ある場合に限らず、その中間に更に他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の“すぐ上に”あるとする時、これは中間に他の部分がない場合を意味する。
以下、本発明の一実施形態に係る表示装置である液晶表示装置について図1乃至図4を参照して詳細に説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る液晶表示装置のブロック図であり、図2は本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の一つの画素に対する等価回路図であり、図3(a)及び(b)は本発明の実施形態に係る液晶表示装置の一つの感知部に対する等価回路図である。 図4は本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の画素及び感知部の配列を示した概略図である。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、液晶表示板組立体300及びこれに接続された画像走査部400、画像データ駆動部500、感知走査部700及び感知信号処理部800、画像データ駆動部500に接続された階調電圧生成部550、そしてこれらを制御する信号制御部600を備える。
図1〜図3(b)に示すように、液晶表示板組立体300は、複数の表示信号線(G、D)(i、jは自然数)と、これに接続されてほぼ行列状に配列された複数の画素(PX)、そして複数の感知信号線(Sα、Pβ、Psg、Psd)(α、βは自然数)と、これに接続され、ほぼ行列状に配列された複数の感知部(SU)を備える。一方、図2に示すように、液晶表示板組立体300は、互いに対向する薄膜トランジスタ表示板100及び共通電極表示板200とその間に挟持された液晶層3を備える。
表示信号線(G、D)は、画像走査信号(Vg)を伝達する複数の画像走査線(G)と、画像データ信号(Vd)を伝達する画像データ線(D)を有する。
感知信号線(Sα、Pβ、Psg、Psd)は、感知走査信号(Vs)を伝達する複数の感知走査線(Sα)、感知データ信号(Vp)を伝達する感知データ線(Pβ)、感知制御電圧を伝達する複数の制御電圧線(Psg)、そして感知入力電圧を伝達する複数の入力電圧線(Psd)を有する。
画像走査線(G)、感知走査線(Sα)及び制御電圧線(Psg)は、ほぼ行方向に延びて互いにほぼ平行であり、画像データ線(D)、感知データ線(Pβ)及び入力電圧線(Psd)はほぼ列方向に延びて互いにほぼ平行である。
各画素(PX)は、表示信号線(G、D)に接続されたスイッチング素子(Q)と、これに接続された液晶キャパシタ(CLC)及びストレージキャパシタ(Cst)を有する。ストレージキャパシタ(Cst)は必要によって省略してもよい。
スイッチング素子(Q)は、薄膜トランジスタ表示板100に備えられている薄膜トランジスタなどの三端子素子であって、その制御端子は画像走査線(G)に接続されており、入力端子は画像データ線(D)に接続されており、出力端子は液晶キャパシタ(CLC)及びストレージキャパシタ(Cst)に接続されている。
液晶キャパシタ(CLC)は、薄膜トランジスタ表示板100の画素電極191と共通電極表示板200の共通電極270を二つの端子とし、二つの電極(191、270)の間の液晶層3は誘電体として機能する。画素電極191はスイッチング素子(Q)に接続され、共通電極270は共通電極表示板200の全面に形成されて共通電圧(Vcom)の印加を受ける。図2とは異なり、共通電極270が薄膜トランジスタ表示板100に具備されることもあり、その場合には、二つの電極(191、270)のうち少なくとも一つが線形または棒形に形成できる。
液晶キャパシタ(CLC)の補助的な役割を果たすストレージキャパシタ(CST)は、薄膜トランジスタ表示板100に備えられた別個の信号線(図示せず)と、画素電極191が絶縁体を介在して重なってなり、この別個の信号線には共通電圧(Vcom)などの定められた電圧が印加される。しかし、ストレージキャパシタ(CST)は、画素電極191が絶縁体を媒介にしてすぐ上の前段画像走査線と重なってなることもできる。
一方、色表示を実現するためには各画素(PX)が基本色のうちの一つを固有に表示したり(空間分割)、各画素(PX)が時間によって交互に基本色を表示するように(時間分割)して、基本色の空間的、時間的作用で所望の色相が認識されるようにする。基本色の例としては赤色、緑色、青色など三原色がある。図2は空間分割の一例であり、各画素(PX)が画素電極191に対応する共通電極表示板200の領域に基本色のうちの一つを示すカラーフィルタ230を備えている。図2とは異なり、カラーフィルタ230は薄膜トランジスタ表示板100の画素電極191の上または下に形成することもできる。
液晶表示板組立体300の外側面には光を偏光させる少なくとも一つの偏光子(図示せず)が付着されている。
感知部(SU)は、図3(a)に示す構造、または図3(b)示す構造を有することができる。
図3(a)に示す感知部(SU1)は、信号線(Psg、Psd)に接続された感知素子(Qp1)及び感知素子(Qp1)と信号線(Sα、Pβ)に接続されたスイッチング素子(Qs)を有する。
感知素子(Qp1)は、薄膜トランジスタなどの三端子素子であって、その制御端子は制御電圧線(Psg)に接続されており、その入力端子は入力電圧線(Psd)に接続されており、出力端子はスイッチング素子(Qs)に接続されている。感知素子(Qp1)は光が照射されれば、光電流を生成する光電(photoelectric)物質を含む。
感知素子(Qp1)の例としては、光電流を生成することができる非晶質シリコンまたは多結晶シリコンチャンネルを有する薄膜トランジスタがある。感知素子(Qp1)の制御端子に印加される感知制御電圧は、照射される光のない状態で感知素子(Qp1)がオフ状態を維持できるように十分に低いか高い値を維持する。感知素子(Qp1)の入力端子に印加される感知入力電圧は十分高い値を維持して、光電流がスイッチング素子(Qs)方向に流れるようにする。
スイッチング素子(Qs)もまた薄膜トランジスタなどの三端子素子であってその制御端子、出力端子及び入力端子は各々感知走査線(Sα)、感知データ線(Pβ)及び感知素子(Qp1)に接続されている。スイッチング素子(Qs)は、感知走査線(Sα)からの感知走査信号(Vs)に応答して素子出力信号を当該感知データ線(Pβ)に出力する。素子出力信号は感知素子(Qp1)からの光電流であることができる。
図3(b)に示す感知部(SU2)は、感知信号線(Sα、Pβ、Psd)に接続されている感知素子(Qp2)のみを有する。
感知素子(Qp2)もまた、薄膜トランジスタなどの三端子素子であって、その制御端子、出力端子及び入力端子は各々感知走査線(Sα)、感知データ線(Pβ)及び入力電圧線(Psd)に接続されている。感知素子(Qp2)もまた光が照射されれば光電流を生成する光電物質を含み、光が照射された状態で感知走査線(Sα)からの感知走査信号(Vs)に応答して素子出力信号を感知データ線(Pβ)に送出する。
感知素子(Qp2)は、感知走査信号(Vs)が所定電圧以上であるときに素子出力信号を出力することができ、この時、所定電圧は感知素子(Qp2)の動作領域を考慮して決定されることができる。このような感知部(SU2)を適用すれば、図3(a)に示した制御電圧線(Psg)を省略することができる。
ここでスイッチング素子(Q、Qs)及び感知素子(Qp1、Qp2)は、非晶質シリコンまたは多結晶シリコン薄膜トランジスタからなることができる。
感知部(SU)は、外部光を感知することに限らず、外部から加えられた圧力を感知することもできる。圧力を感知するために感知部(SU)は、加わった圧力の大きさによって静電容量が変わる可変キャパシタ(図示せず)を有することができる。可変キャパシタは、二つの表示板100、200にそれぞれ形成される二つの感知電極(図示せず)と、二つの電極の間に挟持された液晶層3を有することででき、共通電極表示板200に圧力が加われば、二つの感知電極の間の距離が変化して可変キャパシタの静電容量が変わる。静電容量が変われば静電容量の大きさに依存する感知データ信号の大きさが変わり、これに基づいて接触位置を判断することができる。
感知部(SU)は、隣接した二つの画素(PX)の間に配置され、感知部(SU)の密度は、例えばドット密度の約1/4であることができる。ここで一つのドットは、例えば並んで配列されており、赤色、緑色、青色など三原色を表示する3つの画素(PX)を有し、一つの色相を表示し、液晶表示装置の解像度を示す基本単位となる。しかし、一つのドットは4つ以上の画素(PX)からなることができ、この場合、各画素(PX)は三原色と白色(white)のうちの一つを表示することができる。
感知部(SU)の密度がドット密度の1/4である例には、感知部(SU)の横及び縦解像度が各々液晶表示装置の横及び縦解像度の1/2である場合がある。この場合、図1で液晶表示板組立体300の内部に点線の“×”印で示したように、感知部(SU)のない画素行もあり得る。
感知部(SU)の密度とドット密度を上記程度にすれば、文字認識のように精密度の高い応用分野にもこのような液晶表示装置を適用することができる。もちろん感知部(SU)の解像度は必要に応じて高くしたり低くすることもできる。
次に、図4に示すように、感知データ線(Pβ)及び入力電圧線(Psd)と、これに隣接した画像データ線(Dj+2、Dj+3)は、画素(PX)を間に置いて離れている。
図4に示した例を具体的に説明する。
感知データ線(Pβ)に接続されている感知部(SU)を基準にしてその左側に隣接した一つのドット、つまり、3個の画素(PX)に接続されている画像データ線(D、Dj+1、Dj+2)は、当該画素(PX)の左側に配置されており、感知部(SU)の右側に隣接した一つのドット、つまり3個の画素(PX)に接続されている画像データ線(Dj+3、Dj+4、Dj+5)は、当該画素(PX)の右側に配置されている。しかし、感知部(SU)に最も隣接した画像データ線(Dj+2、Dj+3)を除いた残りの画像データ線(D、Dj+1、Dj+4、Dj+5)、つまり感知部(SU)から二番目及び三番目に隣接した画像データ線(D、Dj+1、Dj+4、Dj+5)の位置は、図4に示したものと逆にすることもできる。感知部(SU)の右側及び左側に配置された画素(PX)の構造的な形態は実質的に互いに対称である。
このように一つの感知部(SU)とそれに隣接した二つのドットを1単位とする配置構造は、一つの画素行に反復的に配置されている。図4に示した反復配列構造において、隣接した単位配置構造の隣接した二つの画像データ線(Dj−1、D/Dj+5、Dj+6)の間に画素(PX)は配置されない。しかし、上述したように、感知部(SU)で二番目及び三番目に隣接した画像データ線(D、Dj+1、Dj+4、Dj+5)の位置が図4に示したものと逆である場合には、単位配置構造内で隣接した二つのデータ線の間に画素が配置されない。
このように配列することで、感知データ線(Pβ)とこれに隣接した画像データ線(Dj+2、Dj+3)とがその間に画素(PX)を置いて遠く離れ、画像データ信号(Vd)の変化による感知データ信号(Vp)の歪みを減少できる。
このような配置構造は、ドットが4つ以上の画素(PX)からなる場合に対しても同様に適用することができる。
縦に隣接した二つの画素行に二つの感知部(SU)をそれぞれ配置し、二つの感知部(SU)にそれぞれ接続されている二つの感知走査線(Sα)を接続することによって、二つの感知部(SU)の素子出力信号を一つの感知データ線(Pβ)に重畳(superposition)して、感知データ信号(Vd)として送出することができる。このように素子出力信号を重畳した感知データ信号(Vp)に基づいて制御を行えば、各感知部(SU)の特性偏差を減らすことができるとともに信号対雑音比も2倍になり、より正確な接触情報を抽出することができる。この時、一つの感知データ線(Pβ)に接続された感知部(SU)の個数が二倍に増加しても、実際に出力される感知データ信号(Vp)は一つであるので、感知部(SU)の解像度は感知データ信号(Vp)の個数によって決定される。
再び図1を参照すれば、階調電圧生成部550は、画素の透過率に関連する二組の階調電圧群(または基準階調電圧群)を生成する。そのうちの一組は共通電圧(Vcom)に対して正の値を有し、もう一組は負の値を有する。
画像走査部400は、液晶表示板組立体300の画像走査線(G)に接続されてスイッチング素子(Q)を導通させるゲートオン電圧と、非導通させるゲートオフ電圧との組み合わせからなる画像走査信号(Vg)を画像走査線(G)に印加する。
画像データ駆動部500は、液晶表示板組立体300の画像データ線(D)に接続されており、階調電圧生成部550からの階調電圧を選択し、これを画像データ信号(Vd)として画像データ線(D)に印加する。しかし、階調電圧生成部550が全階調に対する電圧を全て提供するのでなく、決められた数の基準階調電圧のみを提供する場合、画像データ駆動部500は、基準階調電圧を分圧して全階調に対する階調電圧を生成し、その中から画像データ信号(Vd)を選択する。
感知走査部700は、液晶表示板組立体300の感知走査線(Sα)に接続されてゲートオン電圧とゲートオフ電圧との組み合わせからなる感知走査信号(Vs)を感知走査線(Sα)に印加する。感知走査部700はこれと異なり、感知素子(Qp2)の動作領域に応じて光電流を生成できる高電圧と、生成できない低電圧とからなる感知走査信号(Vs)を感知走査線(Sα)に印加することもできる。
感知信号処理部800は、液晶表示板組立体300の感知データ線(Pβ)に接続されて感知データ線(Pβ)を介して出力される感知データ信号(Vp)を受信し、増幅、フィルタリングなどの信号処理を行った後、アナログ−デジタル変換を行なってデジタル感知信号(DSN)を生成する。特定時点に一つの感知データ線(Pβ)に流れる一つの感知データ信号(Vp)は、一つの感知素子(Qp1、Qp2)から出力された素子出力信号のみを含むか、二つ以上の感知素子(Qp1、Qp2)から出力された素子出力信号を含むことができる。
信号制御部600は、画像走査部400、画像データ駆動部500、感知走査部700、及び感知信号処理部800などの動作を制御する。
このような駆動装置(400、500、550、600、700、800)のそれぞれは、少なくとも一つの集積回路チップの形態に液晶表示板組立体300上に直接装着されたり、フレキシブル印刷回路膜(図示せず)上に装着されてTCP(tape carrier package)の形態に液晶表示板組立体300に付着されたり、別途の印刷回路基板(図示せず)上に装着されることもできる。これと異なり、駆動装置(400、500、550、600、700、800)が信号線(G、D、Sα、Pβ、Psg、Psd)及び薄膜トランジスタ(Q、Qs、Qp1、Qp2)などと共に液晶表示板組立体300に集積されることもできる。また、駆動装置(400、500、550、600、700、800)は単一チップに集積でき、この場合、これらの少なくとも一つ、またはこれらをなす少なくとも一つの回路素子が単一チップの外側に位置し得る。
次に、このような液晶表示装置の表示動作及び感知動作についてより詳細に説明する。
信号制御部600は、外部のグラフィック制御部(図示せず)から入力画像信号(R、G、B)及びその表示を制御する入力制御信号を受信する。入力画像信号(R、G、B)は、各画素(PX)の輝度情報を含み、輝度は定められた数、例えば、1024(=210)、256(=2)、または64(=2)個の階調(gray)を有する。入力制御信号の例としては、垂直同期信号(Vsync)と水平同期信号(Hsync)、メインクロック(MCLK)、データイネーブル信号(DE)などがある。
信号制御部600は、入力画像信号(R、G、B)と入力制御信号に基づいて入力画像信号(R、G、B)を液晶表示板組立体300及び画像データ駆動部500の動作条件に合うように適切に処理し、画像走査制御信号(CONT1)、画像データ制御信号(CONT2)、感知走査制御信号(CONT3)及び感知データ制御信号(CONT4)などを生成した後、画像走査制御信号(CONT1)を画像走査部400に送出し、画像データ制御信号(CONT2)と処理した画像信号(DAT)を画像データ駆動部500に送出し、感知走査制御信号(CONT3)を感知走査部700に送出し、感知データ制御信号(CONT4)を感知信号処理部800に送出する。
画像走査制御信号(CONT1)は、走査開始を指示する走査開始信号(STV)とゲートオン電圧の出力を制御する少なくとも一つのクロック信号を含む。画像走査制御信号(CONT1)はまた、ゲートオン電圧の持続時間を限定する出力イネーブル信号(OE)をさらに含むことができる。
画像データ制御信号(CONT2)は、一つの画素行の画像データ(DAT)の伝送開始を知らせる水平同期開始信号(STH)と、画像データ線(D)に画像データ信号(Vd)の印加を指示するロード信号(LOAD)及びデータクロック信号(HCLK)を含む。画像データ制御信号(CONT2)はまた、共通電圧(Vcom)に対する画像データ信号(Vd)の電圧極性(以下、“共通電圧に対する画像データ信号の電圧極性”を略して“画像データ信号の極性”とする)を反転させる反転信号(RVS)をさらに含むことができる。
信号制御部600からの画像データ制御信号(CONT2)に従って、画像データ駆動部500は、一つの画素行の画素(PX)に対するデジタル画像信号(DAT)を受信し、各デジタル画像信号(DAT)に対応する階調電圧を選択することによって、デジタル画像信号(DAT)をアナログ画像データ信号(Vd)に変換した後、これを当該画像データ線(D)に印加する。
画像走査部400は、信号制御部600からの画像走査制御信号(CONT1)に従ってゲートオン電圧を画像走査線(G)に印加して、この画像走査線(G)に接続されたスイッチング素子(Q)を導通させる。すると、画像データ線(D)に印加された画像データ信号(Vd)が導通したスイッチング素子(Q)を介して当該画素(PX)に印加される。
画素(PX)に印加された画像データ信号(Vd)の電圧と共通電圧(Vcom)との差は、液晶キャパシタ(CLC)の充電電圧、つまり画素電圧として現れる。液晶分子は、画素電圧の大きさによってその配列が異なっており、このために液晶層3を通過する光の偏光が変化する。このような偏光の変化は、液晶表示板組立体300に付着された偏光子により光透過率の変化として現れ、これによって所望の画像を表示することができる。
1水平周期(1Hともいう。水平同期信号Hsync及びデータイネーブル信号DEの一周期と同一である。)を単位として上記過程を繰り返すことによって、全画像走査線(G)に対して順次にゲートオン電圧を印加し、全画素(PX)に画像データ信号(Vd)を印加して1フレームの画像を表示する。
1フレームが終了すれば次のフレームが開始され、各画素(PX)に印加される画像データ信号(Vd)の極性が直前フレームでの極性と逆になるように、画像データ駆動部500に印加される反転信号(RVS)の状態が制御される(フレーム反転)。この時、1フレーム期間内でも反転信号(RVS)の特性によって一つの画像データ線を通じて流れる画像データ信号(Vd)の極性が変わったり(行反転、ドット反転)、一つの画素行に印加される画像データ信号(Vd)の極性も互いに異なることができる(列反転、ドット反転)。
感知走査部700は、信号制御部600からの感知走査制御信号(CONT3)に従ってゲートオン電圧を感知走査線(Sα)に印加し、この感知走査線(Sα)に接続されたスイッチング素子(Qs)を導通させる。これにより、感知素子(Qp1)からの感知データ信号(Vp)が導通したスイッチング素子(Qs)を介して当該感知データ線(Pβ)に印加される。これと異なり感知走査部700は、高電圧を感知走査線(Sα)に印加することもでき、これによって該感知走査線(Sα)に接続された感知素子(Qp2)が光電流を感知データ信号(Vp)として当該感知データ線(Pβ)に送ることもできる。
感知信号処理部800は、感知データ制御信号(CONT4)に従って感知データ線(Pβ)に沿って流れる感知データ信号(Vp)を読み取る。感知信号処理部800は、読み取ったアナログ感知データ信号(Vp)を増幅及びフィルタリングなど信号処理を行なった後、デジタル感知信号(DSN)に変換して信号制御部600に送る。
感知部(SU)の縦解像度に応じて1以上の水平周期を単位として上記過程を繰り返すことによって、全感知走査線(Sα)に対して順次にゲートオン電圧/高電圧を印加し、全感知部(SU)からの感知データ信号(Vp)を処理してデジタル感知信号(DSN)を生成する。
信号制御部600は、1フレームのデジタル感知信号(DSN)を受信し、適切な演算処理を行って接触位置を感知して、これを外部装置で伝送し、外部装置はこれに基づいた画像信号(R、G、B)を液晶表示装置に伝送する。これと異なり、外部装置がデジタル感知信号(DSN)を直接受信して接触の有無及び位置を感知できる。
このような感知動作は、既に説明した表示動作と別に行われ、互いに影響を受けない。感知動作は必ずしも1フレームごとに行われる必要はなく、必要に応じて複数のフレームごとに1回ずつ行なってもよい。
次に、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の構造について、図5乃至図12を参照して詳細に説明する。
図5は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板の配置図で、図4の「RA」で示した部分の配置図であり、図6は、図5に示した液晶表示装置のVI−VI線に沿った断面図である。図7は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板の配置図で、図4の「RB」で示した部分の配置図であり、図8は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置用共通電極表示板の配置図で、図4の「RB」で示した部分の配置図であり、図9は、図7に示した薄膜トランジスタ表示板と、図8に示した共通電極表示板を備える液晶表示装置の配置図である。図10乃至図12は、それぞれ図9に示した液晶表示装置のX−X線、XI−XI線、及びXII−XII線に沿った断面図である。
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、薄膜トランジスタ表示板100と、これと対向する共通電極表示板200、及び薄膜トランジスタ表示板100と、共通電極表示板200の間に挟持された液晶層3からなる。
まず、薄膜トランジスタ表示板100について図5乃至7、及び図9乃至12を参照して説明する。
薄膜トランジスタ表示板100には透明なガラスまたはプラスチックなどからなる絶縁基板110上に、複数の画像走査線121a、複数の感知走査線121b、複数の制御電圧線122、複数の維持電極線131、及び複数の島状遮光部材139を有するゲート導電体が形成されている。
画像走査線121aは、画像走査信号(Vg)を伝達し、主に横方向に延びている。各画像走査線121aは上方に突出した複数の第1制御電極124aを有する。
感知走査線121bは感知走査信号(Vs)を伝達し、画像走査線121aと平行して延びている。各感知走査線121bは上方に突出した複数の第2制御電極124bを有する。第2制御電極124bは広い面積を占めており、光漏れを防ぐ。
制御電圧線122は感知制御電圧の印加を受け、感知走査線121bと並んで延びている。各制御電圧線122は、感知走査線121bに隣接して位置しており、下方に突出した複数の第3制御電極124cを有する。第3制御電極124cもまた、広い面積を占めており光漏れを防ぐ。
維持電極線131は共通電圧(Vcom)など予め定められた電圧の印加を受け、画像走査線121aとほぼ並んで延びている。各維持電極線131は画像走査線121aに隣接して位置しており、ストレージキャパシタ(CST)用維持電極137と、上方に延びて光漏れを防止する遮光部138を有する。遮光部138は、その幅が広いものと狭いものがある。
島状遮光部材139もまた、光漏れを防止し、維持電極線131の遮光部138の延長線上に位置し、前段画像走査線121aと感知走査線121bとの間に位置する。島状遮光部材139もまた、その幅が広いものと狭いものがある。
ゲート導電体(121a、121b、122、131、139)は、アルミニウム(Al)やアルミニウム合金などアルミニウム系金属、銀(Ag)や銀合金など銀系金属、銅(Cu)や銅合金など銅系金属、モリブデン(Mo)やモリブデン合金などモリブデン系金属、クロム(Cr)、タンタル(Ta)及びチタニウム(Ti)などからなることができる。しかし、これらは物理的性質が異なる二つの導電膜(図示せず)を含む多重膜構造を有してもよい。このうちの一つの導電膜は、信号遅延や電圧降下を減らすことができるように比抵抗が低い金属、例えば、アルミニウム系金属、銀系金属、銅系金属などからなる。
これとは異なり、もう一つの導電膜は、他の物質、特にITO(indium tin oxide)及びIZO(indium zinc oxide)との物理的、化学的、電気的接触特性に優れた物質、例えばモリブデン系金属、クロム、タンタル、チタニウムなどからなる。このような組み合わせの好適な例としては、クロム下部膜とアルミニウム(合金)上部膜、及びアルミニウム(合金)下部膜とモリブデン(合金)上部膜がある。しかし、ゲート導電体(121a、121b、122、131、139)はこれ以外にも様々な金属または導電体からなることができる。
ゲート導電体(121a、121b、122、131、139)の側面は絶縁基板110面に対して傾斜しており、その傾斜角は約30゜乃至約80゜であることが好ましい。
ゲート導電体(121a、121b、122、131、139)上には、窒化シリコン(SiNx)または酸化シリコン(SiOx)などからなるゲート絶縁膜140が形成されている。
ゲート絶縁膜140上には、水素化非晶質シリコン(非晶質シリコンはa−Siと略称する。)または多結晶シリコンなどからなる複数の線状半導体151a、151b、152及び複数の島状半導体153、154b、154cが形成されている。
線状半導体151aは主に縦方向に延びており、第1制御電極124aに向かって延び出た複数の突出部154aを有する。線状半導体151aは、走査線121a、121b、制御電圧線122及び維持電極線131と出会う近傍で幅が広くなってこれらを幅広く覆う。
線状半導体151b、152も主に縦方向に延びており、走査線121a、121b、制御電圧線122及び維持電極線131と出会う近傍で幅が広くなってこれらを幅広く覆う。しかし、線状半導体151b、152は、それぞれ第2及び第3制御電極124b、124c部分上には存在しない。
島状半導体153は、感知走査線121bと制御電圧線122上にかかっている。島状半導体154b、154cはそれぞれ第2及び第3制御電極124b、124c上に位置しており、線状半導体151b、152の無い部分にそれぞれ配置されている。
半導体(151a、151b、152、153、154b、154c)上には、複数の線状及び島状オーミック接触部材(161a、161b、162、163b、163c、165a、165b、165c)が形成されている。オーミック接触部材(161a、161b、162、163b、163c、165a、165b、165c)は、リンなどのn型不純物が高濃度にドーピングされているn+水素化非晶質シリコンなどの物質からなるか、シリサイドからなることができる。
線状オーミック接触部材161aは、複数の突出部163aを有しており、この突出部163aと島状オーミック接触部材165aは対をなして線状半導体151aの突出部154a上に配置されている。また、島状オーミック接触部材163b、165bは対をなして島状半導体154b上に配置されており、島状オーミック接触部材163c、165cも対をなして島状半導体154c上に配置されている。
半導体(151a、151b、152、153、154b、154c)とオーミック接触部材(161a、161b、162、163b、163c、165a、165b、165c)の側面も絶縁基板110面に対して傾斜しており、傾斜角は約30゜乃至約80゜である。
オーミック接触部材(161a、161b、162、163b、163c、165a、165b、165c)及びゲート絶縁膜140上には、複数の画像データ線171a、複数の感知データ線171b、複数の入力電圧線172、複数の第2入力電極173b、並びに複数の第1及び第3出力電極175a、175cを有するデータ導電体が形成されている。
画像データ線171aは、画像データ信号(Vd)を伝達し、主に縦方向に延びて走査線121a、121b、制御電圧線122、及び維持電極線131と交差する。各画像データ線171aは、これらと交差する近傍で幅が広くなってこれらを幅広く覆う遮光用拡張部178aと、第1制御電極124aに向かって延びた複数の第1入力電極173aを有する。
第1出力電極175aは、画像データ線171aと分離されており、第1制御電極124aを中心にして第1入力電極173aと対向する。各第1出力電極175aは、広い一端部177と棒状の他端部を有する。広い端部177は維持電極137と重畳されており、棒状端部は屈曲された第1入力電極173aで一部囲まれている。
一つの第1制御電極124a、一つの第1入力電極173a、及び一つの第1出力電極175aは、線状半導体151aの突出部154aと共に一つの薄膜トランジスタ(TFT)を構成し、薄膜トランジスタのチャンネルは、第1入力電極173aと第1出力電極175aとの間の突出部154aに形成される。この薄膜トランジスタがスイッチング素子(Q)として機能する。
感知データ線171bは、感知データ信号(Vp)を伝達し、主に縦方向に延びて走査線121a、121b、制御電圧線122及び維持電極線131と交差し、各感知データ線171bは、これらと交差する近傍で幅が広くなってこれらを幅広く覆う遮光用拡張部178bと、島状半導体154b上に位置している複数の第2出力電極175bを有する。
第2入力電極173bは感知データ線171bと分離されており、島状半導体154bを中心に第2出力電極175bと対向する。
一つの第2制御電極124b、一つの第2入力電極173b及び一つの第2出力電極175bは、島状半導体154bと共に一つの薄膜トランジスタ(TFT)を構成し、薄膜トランジスタのチャンネルは、第2入力電極173bと第2出力電極175bとの間の島状半導体154bに形成される。この薄膜トランジスタがスイッチング素子(Qs)として機能する。
入力電圧線172は感知入力電圧の印加を受け、主に縦方向に延びて走査線121a、121b、制御電圧線122及び維持電極線131と交差し、各入力電圧線172は、これらと交差する近傍で幅が広くなってこれらを幅広く覆う遮光用拡張部178cと、半導体154c上に位置している複数の第3入力電極173cを有する。
第3出力電極175cは入力電圧線172と分離されており、島状半導体154cを中心にして第3入力電極173cと対向する。第3出力電極175cは第2入力電極173bに接続されている。
一つの第3制御電極124c、一つの第3入力電極173c及び一つの第3出力電極175cは、島状半導体154cと共に一つの薄膜トランジスタ(TFT)を構成し、薄膜トランジスタのチャンネルは、第3入力電極173cと第3出力電極175cとの間の島状半導体154cに形成される。このように縦方向に長い形状を有する島状半導体154cにチャンネルが形成されるため、チャンネル幅が増加し、チャンネルを通過する電流量が増加する。この薄膜トランジスタが感知素子(Qp1)として機能する。
遮光用拡張部178a、178b、178cは既に説明したように、走査線121a、121b、制御電圧線122及び維持電極線131と出会う部分で幅が広くなって維持電極線131の遮光部138、島状遮光部材139、第2及び第3制御電極124b、124cによって覆われない部分の光漏れを防止する。
データ導電体(171a、171b、172、173b、175a、175c)は、モリブデン、クロム、タンタル及びチタニウムなどの耐火性金属、またはこれらの合金からなることが好ましく、耐火性金属膜(図示せず)と低抵抗導電膜(図示せず)を含む多重膜構造を有することができる。多重膜構造の例としては、クロムまたはモリブデン(合金)下部膜とアルミニウム(合金)上部膜の二重膜、モリブデン(合金)下部膜とアルミニウム(合金)中間膜とモリブデン(合金)上部膜の三重膜がある。しかし、データ導電体(171a、171b、172、173b、175a、175c)はこれ以外にも様々な金属または導電体からなることができる。
データ導電体(171a、171b、172、173b、175a、175c)もまた、その側面が絶縁基板110面に対して30゜乃至80゜程度の傾斜角で傾斜していることが好ましい。
オーミック接触部材(161a、161b、162、163b、163c、165a、165b、165c)は、その下部の半導体(151a、151b、152、153、154b、154c)とその上部のデータ導電体(171a、171b、172、173b、175a、175c)との間にのみ存在し、接触抵抗を低くする役割を果たす。半導体(151a、151b、152、153)は、画像データ線171a、感知データ線171b及び入力電圧線172より狭い部分があるが、既に述べたように画像走査線121a、感知走査線121b、制御電圧線122及び維持電極線131と出会う部分で幅が広くなって表面のプロファイルを滑らかにすることによって画像データ線171a、感知データ線171b及び入力電圧線172が断線するのを防止する。半導体(151a、151b、152、153、154b、154c)には入力電極(173a、173b、173c)と出力電極(175a、175b、175c)との間を始めとしてデータ導電体(171a、171b、172、173b、175a、175c)で覆われず露出した部分がある。
データ導電体(171a、171b、172、173b、175a、175c)及び露出した半導体(151a、151b、152、153、154b、154c)部分上には保護膜180が形成されている。保護膜180は、窒化シリコンや酸化シリコンなどの無機絶縁物からなる下部膜180pと有機絶縁物からなる上部膜180qを含む。上部保護膜180qは4.0以下の誘電定数を有することが好ましく、感光性を有することもでき、平坦面を提供することもできる。また、保護膜180は無機絶縁物または有機絶縁物などからなる単一膜構造を有することもできる。
保護膜180には第1出力電極175aを露出させる複数のコンタクトホール185が形成されている。
保護膜180上には複数の画素電極191及び複数の第1及び第2遮光用縦線194、195が形成されている。
画素電極191はITOまたはIZOなどの透明な導電物質からなり、コンタクトホール185を介して第1出力電極175aと物理的・電気的に接続されており、第1出力電極175aから画像データ電圧(Vd)の印加を受ける。画像データ電圧(Vd)が印加された画素電極191は、共通電圧(Vcom)の印加を受ける共通電極表示板200の共通電極270と共に電場を生成することによって、二つの電極(191、270)の間の液晶層3の液晶分子の方向を決定する。このように決定された液晶分子の方向によって液晶層3を通過する光の偏光が変わる。画素電極191と共通電極270は液晶キャパシタ(CLC)を構成し、薄膜トランジスタが非導通した後にも印加された電圧を維持する。
画素電極191及びこれに接続された第1出力電極175aの広い端部177は、維持電極137と重なってストレージキャパシタ(CST)を構成し、ストレージキャパシタ(Cst)は液晶キャパシタ(CLC)の電圧維持能力を強化する。
画素電極191は、画像走査線121a、画像データ線171a、感知データ線171b及び入力電圧線172と重なって開口率を向上させているが、重ならないこともある。
隣接する画素電極191の間に二つの画像データ線171aが配置された領域に位置する維持電極線131の遮光部138及び島状遮光部材139はその幅が広く、隣接する画素電極191の間に一つの画像データ線171aが配置された領域に位置する維持電極線131の遮光部138及び島状遮光部材139はその幅が狭い。
第1及び第2遮光用縦線194、195は光漏れを防止し、主に縦方向に延びている。第1遮光用縦線194は隣接した二つの画像データ線171a上に配置されている。第2遮光用縦線195は、島状半導体154bを覆う拡張部196を有し、感知データ線171bと入力電圧線172上に配置されているが島状半導体154c上には配置されない。
第1及び第2遮光用縦線194、195は、維持電極線131の遮光部138、島状遮光部材139、第2及び第3制御電極124b、124c、並びに遮光用拡張部178a、178b、178cによって覆われない部分の光漏れを防止する。特に第2遮光用縦線195の拡張部196は、上部からの外部光を遮断して島状半導体154bに流入しないようにする。しかし、島状半導体154cは、その上に第2遮光用縦線195が存在しないので外部光に露出される。
第1及び第2遮光用縦線194、195はアルミニウム、銀、クロムまたはその合金などの不透明な金属からなる。しかし、第1及び第2遮光用縦線194、195は、アルミニウム、銀またはその合金などの上部膜(図示せず)と、ITOまたはIZOなどの下部膜(図示せず)の二重膜構造を有することができる。または、第1及び第2遮光用縦線194、195は、上部膜及び下部膜と共にモリブデン系金属、クロム、タンタル及びチタニウムなどのITOまたはIZOと、接触特性が良い中間膜(図示せず)の三重膜構造を有することもできる。
次に、共通電極表示板200について説明する。
透明なガラスまたはプラスチックなどからなる絶縁基板210上に光漏れを防止する複数の遮光用横線220が形成されている。遮光用横線220は、画像走査線121a及び維持電極線131と主に対向し、画像データ線171a及び第1出力電極175aに向かって突出した部分を有する。遮光用横線220は、維持電極線131の遮光部138、島状遮光部材139、第2及び第3制御電極124b、124c、遮光用拡張部178a、178b、178c、並びに第1及び第2遮光用縦線194、195によって覆われない部分の光漏れを防止し、これらと共に画素電極191の間の光漏れを完全に防止することができる。
従来の液晶表示装置は、画素電極の間の光漏れを防止するために横及び縦方向に延びたブラックマトリックスを共通電極表示板に形成した。ところが、薄膜トランジスタ表示板と共通電極表示板の整列誤差のためブラックマトリックスの幅を広くする必要があり、この結果、画素の開口率が低下してしまう。しかし、本発明の実施形態のように遮光用横線220などを用いることで画素間の光漏れを防止することができ、従来のブラックマトリックスを使用することによって発生する画素開口率の低下を防止することができる。
それぞれ三原色のうちの一つを示す複数のカラーフィルタ231、232、233が基板210と遮光用横線220上に形成されている。各カラーフィルタ231、232、233は、画素電極191に対応する領域に配置されている。縦方向に配列されたカラーフィルタ231、232、233は互いに連結されて一つの帯をなすことができる。
隣接する画素電極191の間に一つの画像データ線171aが配置された領域には、カラーフィルタ231、232、233が重なっており、隣接する画素電極191の間に二つの画像データ線171aが配置された領域と感知データ線171b及び入力電圧線172が配置された領域にはカラーフィルタ231、233が離れている。
カラーフィルタ231、232、233及び遮光用横線220上にはITOまたはIZOなどの透明な導電物質からなる共通電極270が形成されている。
液晶表示板組立体300の二つの表示板(100、200)のうちの少なくとも一つの外側面には光を偏光させる偏光子(図示せず)が付着されている。
また、本発明の実施形態では、表示装置として液晶表示装置を例に挙げて説明したが、これに限定されるわけではなく、プラズマ表示装置、有機発光表示装置などのような平板表示装置にも同様に適用することができる。
尚、本発明は、上述の実施形態に限られるものではない。本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
本発明の一実施形態に係る液晶表示装置のブロック図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の一つの画素に対する等価回路図である。 本発明の実施形態に係る液晶表示装置の一つの感知部に対する等価回路図であり、(a)は感知素子とスイッチング素子を有するもの、(b)は感知素子だけを有するものである。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の画素及び感知部の配列を示した概略図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板の配置図であり、図4の「RA」で示した部分の配置図である。 図5に示す液晶表示装置のVI−VI線に沿った断面図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板の図4の「RB」で示した部分の配置図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置用共通電極表示板の図4の「RB」で示した部分の配置図である。 図7に示した薄膜トランジスタ表示板と、図8に示した共通電極表示板を備える液晶表示装置の配置図である。 図9に示す液晶表示装置のX−X線に沿った断面図である。 図9に示す液晶表示装置のXI−XI線に沿った断面図である。 図9に示す液晶表示装置のXII−XII線に沿った断面図である。
符号の説明
3 液晶層
100 薄膜トランジスタ表示板
110、120 絶縁基板
121a 画像走査線
121b 感知走査線
122 制御電圧線
124a、124b、124c (第1、第2、第3)制御電極
131 維持電極線
138 遮光部(第1遮光部材)
139 島状遮光部材(第1遮光部材)
140 ゲート絶縁膜
151a、151b、152、153、154b、154c (線状、島状)半導体
161a、161b、162、163b、163c、165a、165b、165c (線状、島状)オーミック接触部材
171a、171b データ線
172 入力電圧線
173a、173b、173c (第1、第2、第3)入力電極
175a、175b、175c (第1、第2、第3)出力電極
178a、178b、178c 遮光用拡張部(第2遮光部材)
180 保護膜
185 コンタクトホール
191 画素電極
194、195、196 遮光用縦線(第3遮光部材)
200 共通電極表示板
230、231、232、233 カラーフィルタ
270 共通電極
220 遮光用横線
300 液晶表示板組立体
400 画像走査部
500 画像データ駆動部
550 階調電圧生成部
600 信号制御部
700 感知走査部
800 感知信号処理部

Claims (6)

  1. 表示板と、
    前記表示板に形成される第1画素及び第2画素と、
    前記第1画素と第2画素との間に配置され、前記表示板に対する接触によって感知データ信号を生成する感知部と、
    前記第1画素に接続され、画像データ信号を伝達する第1画像データ線と、
    前記第2画素に接続され、画像データ信号を伝達する第2画像データ線と、
    前記第1及び第2画像データ線と平行し、前記感知部に接続されて前記感知データ信号を伝達する感知データ線と、
    前記第1及び第2画像データ線と平行し、前記感知部に感知入力電圧を伝達する入力電圧線と、を備え、
    前記第1画素と第2画素は、それぞれスイッチング素子及び画素電極を含み、且つ前記感知部の左側と右側に配置され、
    前記感知部は前記感知データ線と前記入力電圧線との間に配置され、
    前記第1画素は前記感知データ線と前記第1画像データ線との間に配置され、
    前記第2画素は前記入力電圧線と前記第2画像データ線との間に配置され
    前記第1画素及び前記第2画素は、画像走査線と同一の層に配置される第1遮光部材、前記第1画像データ線及び前記第2画像データ線と同一の層に配置される第2遮光部材、また第1画像データ線及び前記第2画像データ線と同一の方向にのびて前記画素電極と同一の層に配置される第3遮光部材を含むことを特徴とする表示装置。
  2. 前記第1及び第2画素は、前記感知部を中心として実質的に対称であることを特徴とする請求項に記載の表示装置。
  3. 前記第1画素の前記感知部側とは反対の一側に配置される第3画素
    前記第3画素に接続され、前記第3画素の一側及び他側のいずれか一方に配置される第3画像データ線と、を更に有することを特徴とする請求項に記載の表示装置。
  4. 前記第2画素の前記感知部側とは反対の一側に配置される第4画素
    前記第4画素に接続され、前記第4画素の一側及び他側のいずれか一方に配置される第4画像データ線と、を更に有することを特徴とする請求項に記載の表示装置。
  5. 前記感知部は、前記接触によって外部光の変化を感知して前記感知データ信号を生成する感知素子を有することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
  6. 前記感知部は、前記接触によって圧力の変化を感知して前記感知データ信号を生成する感知素子を有することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
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