JP5084961B2 - 重合性単量体、高分子化合物、該高分子化合物を含有する電荷制御剤、該電荷制御剤を含有する現像剤担持体およびトナー - Google Patents
重合性単量体、高分子化合物、該高分子化合物を含有する電荷制御剤、該電荷制御剤を含有する現像剤担持体およびトナー Download PDFInfo
- Publication number
- JP5084961B2 JP5084961B2 JP2012082682A JP2012082682A JP5084961B2 JP 5084961 B2 JP5084961 B2 JP 5084961B2 JP 2012082682 A JP2012082682 A JP 2012082682A JP 2012082682 A JP2012082682 A JP 2012082682A JP 5084961 B2 JP5084961 B2 JP 5084961B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer compound
- toner
- group
- polymerizable monomer
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 *C(*NS(c(c(*)c1C(O)=O)c(*)c(*)c1O)(=O)=O)=C Chemical compound *C(*NS(c(c(*)c1C(O)=O)c(*)c(*)c1O)(=O)=O)=C 0.000 description 4
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09733—Organic compounds
- G03G9/09775—Organic compounds containing atoms other than carbon, hydrogen or oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/22—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound oxygen atoms
- C07C311/29—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound oxygen atoms having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/50—Compounds containing any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
- C07C311/51—Y being a hydrogen or a carbon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/22—Oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/22—Oxygen
- C08F12/24—Phenols or alcohols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/26—Nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/30—Sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/52—Amides or imides
- C08F20/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F20/58—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-acryloylmorpholine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/06—Hydrocarbons
- C08F212/08—Styrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/06—Hydrocarbons
- C08F212/12—Monomers containing a branched unsaturated aliphatic radical or a ring substituted by an alkyl radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/22—Oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/22—Oxygen
- C08F212/24—Phenols or alcohols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/26—Nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/30—Sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/32—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing two or more rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F220/58—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/087—Binders for toner particles
- G03G9/08702—Binders for toner particles comprising macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G9/08726—Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/087—Binders for toner particles
- G03G9/08702—Binders for toner particles comprising macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G9/08735—Polymers of unsaturated cyclic compounds having no unsaturated aliphatic groups in a side-chain, e.g. coumarone-indene resins
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/087—Binders for toner particles
- G03G9/08784—Macromolecular material not specially provided for in a single one of groups G03G9/08702 - G03G9/08775
- G03G9/08795—Macromolecular material not specially provided for in a single one of groups G03G9/08702 - G03G9/08775 characterised by their chemical properties, e.g. acidity, molecular weight, sensitivity to reactants
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/087—Binders for toner particles
- G03G9/08784—Macromolecular material not specially provided for in a single one of groups G03G9/08702 - G03G9/08775
- G03G9/08797—Macromolecular material not specially provided for in a single one of groups G03G9/08702 - G03G9/08775 characterised by their physical properties, e.g. viscosity, solubility, melting temperature, softening temperature, glass transition temperature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/22—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound oxygen atoms
- C07C311/28—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound oxygen atoms having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/48—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of sulfonamide groups further bound to another hetero atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/48—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of sulfonamide groups further bound to another hetero atom
- C07C311/49—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of sulfonamide groups further bound to another hetero atom to nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/50—Compounds containing any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
- C07C311/52—Y being a hetero atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F220/58—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine
- C08F220/585—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine and containing other heteroatoms, e.g. 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid [AMPS]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/087—Binders for toner particles
- G03G9/08702—Binders for toner particles comprising macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G9/08726—Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof
- G03G9/08728—Polymers of esters
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Dry Development In Electrophotography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
R1は、水素原子或いはアルキル基を表し、
R2乃至R4は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基或いはハロゲン原子を表す、又は、R3とR4とは互いに結合して環を形成してもよく、
Aは、二価の連結基を表す。]
R1は、水素原子或いはアルキル基を表し、
R2乃至R4は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基或いはハロゲン原子を表す、又は、R3とR4とは互いに結合して環を形成してもよく、
Aは、二価の連結基を表す。]
R5は、水素原子或いはアルキル基を表し、
R6は、フェニル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基或いはカルボン酸アミド基を表す。]
本発明における重合性単量体および、高分子化合物の構造決定は以下の装置を用いて行った。
日本電子社製ECA−400(400MHz)を用いて、内部標準物質としてテトラメチルシランを含む重水素化溶剤中、25℃で測定を行った。化学シフト値は内部標準物質であるテトラメチルシランを0としたppmシフト値(δ値)として示した。
アジレント・テクノロジー社製LC/MSD TOFを用いた。なお、イオン化法はエレクトロスプレーイオン化法(ESI)を用いた。
本発明における高分子化合物の分子量分布はサイズ排除クロマトグラフィー(SEC)によって、標準ポリスチレン換算で算出した。SECによる分子量の測定は以下に示すように行った。
装置:高速GPC HLC8220GPC(東ソー社製)
カラム:Asahipak GF−510HQ、310HQの2連(昭和電工社製)
溶離液:DMF(20mmol/l 臭化リチウム含有)
流速:0.6ml/min
オーブン温度:40℃
試料注入量:0.10ml
本発明における高分子化合物の酸価は以下の方法により求められる。
1)試料の粉砕品0.5乃至2.0gを精秤する。このときの質量をW(g)とする。
2)300mlのビーカーに試料を入れ、トルエン/エタノール(4/1)の混合液15
0mlを加え溶解する。
3)0.1mol/lのKOHのエタノール溶液を用い、電位差滴定測定装置を用いて滴
定を行う(例えば、平沼産業社製自動滴定測定装置COM−2500などが利用でき
る。)。
4)この時のKOH溶液の使用量をS(ml)とする。同時にブランクを測定して、この
時のKOHの使用量をB(ml)とする。
5)次式により酸価を計算する。ここでfはKOH溶液のファクターである。
酸価(mgKOH/g)={(S−B)×f×5.61}/W
本発明における高分子化合物の帯電特性は、高分子化合物を導電性基板上に塗布した塗膜に対して、京セラケミカル社製カスケード式帯電量測定装置を改造した装置により帯電量を測定することにより評価した。
1)高分子化合物および、バインダー樹脂としてポリスチレン(重量平均分子量3500
0、シグマ アルドリッチ社製)をメチルエチルケトンに溶解させ、ワイヤーバーを
用いてアルミニウム製の導電性基板11に塗布し、23℃、50%Rhの環境下で2
4時間以上乾燥させた。この時、高分子化合物とバインダー樹脂の量は1:9(質量
部)の割合になるように調整した。また、塗膜の膜厚が5μmとなるように塗布液の
濃度の調整および、ワイヤーバーの種類を選択した。
2)上記高分子化合物を塗布した導電性基板を基板保持台12に取り付け、導電性基板1
1の傾斜角度が45°となるように基板保持台12を固定した。
3)23℃、50%Rhに調整された環境下で、基準粉体14としてパウダーテック社製
マンガンフェライトキャリア(平均粒径80μm)を用いて、粉体供給装置15より
15g/minの流量で高分子化合物塗膜13に基準粉体14を流しかけた。なお、
基準粉体14が高分子化合物塗膜13上を流れる流路は、流路長20mm、流路幅1
5mmになるように調整されている。
4)高分子化合物塗膜13に接触した基準粉体14は帯電し、基準粉体受器16ですべて
回収される。基準粉体受器16はファラデーケージとなっており、接続されたエレク
ロトメーター17により基準粉体14が高分子化合物塗膜13から受け取った電荷量
を測定することができる。一方、高分子化合物塗膜13の帯電量は基準粉体14の電
荷量の逆符号として表わされる。
A:非常に良好(高分子化合物塗膜の帯電量が−125nC未満)
B:良好(高分子化合物塗膜の帯電量が−125nC以上−100nC未満)
C:実用可(高分子化合物塗膜の帯電量が−100nC以上−75nC未満)
D:実用不可(高分子化合物塗膜の帯電量が−75nC以上)
高分子化合物塗膜の帯電量が−100nC未満であれば、高分子化合物の帯電特性が良好であると判断した。
本発明の電荷制御剤を表面層に含有させた帯電ローラーを、正帯電性トナーを用いた評価用複写機(キヤノン社製NP6035)に取り付け、温度30℃、湿度80%Rhに調整された環境下で、所定の画像を15000枚連続的に複写した後、カブリ及び画像濃度を評価した。
A:非常に良好(カブリ濃度が1.0%未満)
B:良好(カブリ濃度が1.0%以上1.5%未満)
C:実用可(カブリ濃度が1.5%以上2.0%未満)
D:劣る(カブリ濃度が2.0%以上)
カブリ濃度が1.5%未満であれば、カブリ評価が良好であると判断した。
A:非常に良好(反射濃度が1.4以上)
B:良好(反射濃度が1.3以上1.4未満)
C:実用可(反射濃度が1.2以上1.3未満)
D:劣る(反射濃度が1.2未満)
反射濃度が1.3以上であれば、画像濃度評価が良好であると判断した。
コールターマルチサイザー(ベックマン・コールター社製)を用い、個数分布、体積分布を出力するインターフェイス(日科機製)およびパーソナルコンピューターを接続した。電解液は塩化ナトリウムを用いて1%NaCl水溶液を用いるが、例えばISOTON R−II(ベックマン・コールター社製)が使用できる。具体的な測定手順は、コールター社発行のコールターマルチサイザーのカタログ(2002年2月版)や、測定装置の操作マニュアルに記載されているが、以下の通りである。
摩擦帯電量の測定は、トナー0.5gとキャリア9.5gを50ccのポリ容器に入れ、常温常湿環境(23℃/50%)で一昼夜放置後、1分間に200回の振とう速度で一定時間振とうさせ、図2の装置を用いて測定した。
摩擦帯電量(μC/g)=(C×V)/(W1−W2)
A:非常に良好(摩擦帯電量が−20.0μC/g以下)
B:良好(摩擦帯電量が−10.0μC/g乃至−19.9μC/g)
C:実用可(摩擦帯電量が−5.0μC/g乃至−9.9μC/g)
D:劣る(摩擦帯電量が−4.9μC/g以上)
摩擦帯電量が−10.0μC/g以下であれば帯電特性が良好であると判断した。
逆極性トナー量の測定はホソカワミクロン社製イースパートアナライザーEST−3を用いて行い、トナー全個数に対する逆極性トナー(正極性トナー)の個数を測定した。測定はトナー0.5gとキャリア9.5gを50ccのポリ容器に入れ、常温常湿環境(23℃/50%)で一昼夜放置後、1分間に200回の振とう速度で5分間振とうしたものを測定した。
A:非常に良好(逆極性トナーが存在しない)
B:良好(逆極性トナーの割合が5%未満)
C:実用可(逆極性トナーの割合が5%以上、15%未満)
D:劣る(逆極性トナーの割合が15%以上)
逆極性トナーの割合が5%未満であれば帯電特性が良好であると判断した。
下記構造で示される重合性単量体aを下記スキームに従い製造した。
δ[ppm] 9.06(1H、s)、8.33(1H、d)、7.89(1H、dd)、7.38(1H、d)、7.20(1H、d)、7.07(1H、d)、6.66(1H、dd)、5.71(1H、d)、5.16(1H、d)。
δ[ppm] 171.6、165.9、138.2、136.9、135.1、135.0、131.4、131.2、127.9、121.9、119.1、113.7、113.3。
m/z 318.0434([M−H]−)。
サリチル酸の代わりに4−メチルサリチル酸55部を用いること以外、重合性単量体aの製造と同様にして重合性単量体bを製造した。
サリチル酸の代わりに3−メチルサリチル酸55部を用いること以外、重合性単量体aの製造と同様にして重合性単量体cを製造した。
サリチル酸の代わりに4−クロロサリチル酸62部を用いること以外、重合性単量体aの製造と同様にして重合性単量体dを製造した。
サリチル酸の代わりに2,3−ジヒドロキシ安息香酸56部を用いること以外、重合性単量体aの製造と同様にして重合性単量体eを製造した。
サリチル酸の代わりに3−メトキシサリチル酸61部を用いること以外、重合性単量体aの製造と同様にして重合性単量体fを製造した。
サリチル酸の代わりに3−ヒドロキシ−2−p−シメンカルボン酸70部を用いること以外、重合性単量体aの製造と同様にして重合性単量体gを製造した。
サリチル酸の代わりに1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸68部を用いること以外、重合性単量体aの製造と同様にして重合性単量体hを製造した。
4−アミノスチレンの代わりに3−アミノスチレンを用いること以外、重合性単量体aの製造と同様にして重合性単量体iを製造した。
4−アミノスチレンの代わりにアクリルアミド28部を用いること以外、重合性単量体aの製造と同様にして重合性単量体jを製造した。
下記構造で示される重合性単量体kを下記スキームに従い製造した。
δ[ppm] 11.45(1H、br)、9.07(1H、d)、8.87(1H、s)、8.31(1H、s)、7.85(1H、dd)、7.64(2H、d)、7.16(2H、d)、7.06(1H、d)5.79(1H、s)、5.45(1H、s)、1.98(3H、s)。
δ[ppm] 171.6、167.3、165.8、141.9、137.4、135.0、133.8、131.2、123.2、121.5、119.8、118.9、113.2、18.9。
m/z 375.3759([M−H]−)。
冷却管、撹拌機、温度計および、窒素導入管を取り付けた反応器に
・スチレン 100.0部
・重合性単量体a 19.6部
・tert−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート 7.2部
(パーブチルI−75、日油社製)
・プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテート 290.0部
を仕込み、30分間窒素バブリングを行った。反応混合物を窒素雰囲気下、145℃で8時間加熱し、重合反応を完結させた。反応液を室温まで冷却後、溶剤を減圧留去した。得られた固体をアセトン−メタノールで2回再沈殿し、50℃、0.1kPa以下で減圧乾燥させることにより高分子化合物Aを得た。
分子量:重量平均分子量(Mw) 15400。
1H NMR(400MHz、重水素化クロロホルム中、25℃)の結果(図5参照):
δ[ppm] 11.19(a)、8.34(a)、7.4−6.2(St、a)、2.5−1.0(St、a)。
酸価:26.0mgKOH/g。
重合性単量体aを39.2部用いる以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Bを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体b20.4部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Cを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体c20.4部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Dを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体d21.7部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Eを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体e20.6部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Fを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体f21.4部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Gを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体g23.0部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Hを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体h22.7部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Iを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体i19.6部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Jを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体j16.7部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Kを製造した。
重合性単量体aの代わりに重合性単量体k23.1部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Lを製造した。
仕込み組成を以下に示す組成とする以外、高分子化合物Aの製造と同様にして高分子化合物Mを製造した。
・スチレン 100.0部
・重合性単量体a 19.6部
・アクリル酸 3.9部
・tert−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート 7.2部
(パーブチルI−75、日油社製)
・プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテート 290.0部
アクリル酸の代わりにアクリル酸n−ブチル6.9部を用いること以外、上記高分子化合物Mの製造と同様にして高分子化合物Nを製造した。
スチレンの代わりにα−メチルスチレン113.5部、アクリル酸の代わりにメタクリル酸n−ブチル7.6部を用いること以外、上記高分子化合物Mの製造と同様にして高分子化合物Oを製造した。
アクリル酸の代わりにN,N−ジエチルアクリルアミド6.8部用いること以外、上記高分子化合物Mの製造と同様にして高分子化合物Pを製造した。
重合性単量体aの代わりに2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸11.1部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして比較用の高分子化合物Qを製造した。
重合性単量体aの代わりに5−ビニルサリチル酸9.9部を用いること以外、上記高分子化合物Aの製造と同様にして比較用の高分子化合物Rを製造した。
[表面層組成物調製工程]
下記組成を混合後、ボールミルで3時間分散させた。
・ウレタン塗料(ニッポランN5033、日本ポリウレタン工業社製) 100部
・高分子化合物A 10部
・カーボンブラック(トーカブラック#7360SB、東海カーボン社製) 50部
・ウレタン粒子(アートパールC400、根上工業社製、平均粒径15μm) 6部
・メチルエチルケトン 1000部
得られた分散液に硬化剤として変性トリレンジイソシアネート(コロネートL、日本ポリウレタン工業社製)10部を添加して表面層組成物とした。
外径8mmの芯金(ステンレススチール製)を内径16mmの円筒状金型内に同心となるように設置し、弾性層として液状導電性シリコーンゴム(東レダウコーニング社製、AskerC硬度35度、体積抵抗率10×109Ωcm)を注入後、130℃のオーブンで20分間加熱成型した。脱型後、200℃のオーブンで4時間二次加硫を行い、弾性層(層厚4mm)を形成した。
上記表面層組成物を撹拌しながら、ディッピング法を用いて表面層の膜厚が20μmになるように弾性層を形成したローラーに表面層組成物を塗布した。80℃のオーブンで15分乾燥後、140℃のオーブンで4時間硬化させることにより現像ローラー1を得た。
高分子化合物Aの代わりに高分子化合物B乃至Pをそれぞれ用いること以外、上記現像ローラー1の製造と同様にして現像ローラー2乃至16を製造した。
上記現像ローラー1の製造において、表面層組成物に高分子化合物Aを添加しないこと以外、同様な方法で比較用の現像ローラー17を製造した。
上記現像ローラー1の製造において、表面層組成物に高分子化合物Aの代わりにサリチル酸アルミニウム錯体(BONTRON E−108、オリエント化学工業社製)を用いること以外、同様な方法で比較用の現像ローラー18を製造した。
上記現像ローラー1の製造において、表面層組成物に高分子化合物Aの代わりに高分子化合物Q乃至Rを用いること以外、同様な方法で比較用の現像ローラー19乃至20を製造した。
[重合性単量体組成物調製工程]
下記組成を混合後、ボールミルで3時間分散させた。
・スチレン 82.0部
・アクリル酸2−エチルヘキシル 18.0部
・ジビニルベンゼン 0.1部
・C.I.Pigment Blue 15:3 5.5部
・ポリエステル樹脂 5.0部
[プロピレンオキサイド変性ビスフェノールAとイソフタル酸との重縮合物(ガラス転移点65℃、重量平均分子量(Mw)10000、数平均分子量(Mn)6000)]
・高分子化合物A 1.0部
得られた分散液を300rpmで撹拌しながら60℃に加熱後、エステルワックス(DSC測定における最大吸熱ピークのピーク温度70℃、数平均分子量(Mn)704)12.0部、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)3.0部を加え、溶解し、重合性単量体組成物とした。
高速撹拌装置T.K.ホモミクサー(プライミクス社製)を取り付けた2l用四つ口フラスコ中にイオン交換水710部と0.1mol/L−リン酸ナトリウム水溶液450部を添加し、12000rpmで撹拌しながら、60℃に加熱した。ここに1.0mol/L−塩化カルシウム水溶液68.0部を徐々に添加し、微小な難水溶性分散安定剤としてリン酸カルシウムを含む水系分散媒体を調製した。
上記水系分散媒体中に重合性単量体組成物を投入し、回転数12000rpmを維持しつつ15分間造粒した。その後高速撹拌器からプロペラ撹拌羽根に撹拌器を交換し、内温を60℃で重合を5時間継続させた後、内温を80℃に昇温し、さらに3時間重合を継続させた。重合反応終了後、80℃、減圧下で残存単量体を留去した後、30℃まで冷却し、重合体微粒子分散液を得た。
上記重合体微粒子分散液を洗浄容器に移し、撹拌しながら、希塩酸を添加し、pH1.5に調整した。分散液を2時間撹拌後、ろ過器で固液分離し、重合体微粒子を得た。これをイオン交換水1.0l中に投入して撹拌し、再び分散液とした後、ろ過器で固液分離した。この操作を3回行なった後、最終的に固液分離した重合体微粒子を、30℃の乾燥機で十分に乾燥してトナー粒子を得た。
得られたトナー粒子100.0部に対し、ヘキサメチルジシラザンで表面処理された疎水性シリカ微粉体(一次粒子の個数平均粒径7nm)1.0部、ルチル型酸化チタン微粉体(一次粒子の個数平均粒径45nm)0.15部、ルチル型酸化チタン微粉体(一次粒子の個数平均粒径200nm)0.5部をヘンシェルミキサー(日本コークス工業社製)で5分間乾式混合して、重量平均粒径6.8μmのトナー1を得た。
高分子化合物Aの代わりに高分子化合物B乃至Pを用いる以外、実施例1と同様にしてトナー2乃至16を製造した。
[混合工程]
下記組成をボールミルで24時間分散することにより、トナー組成物混合液200部を得た。
・酢酸エチル 100.0部
・C.I.Pigment Blue 15:3 5.0部
・極性樹脂 85.0部
[飽和ポリエステル(プロピレンオキサイド変性ビスフェノールAとフタル酸の重縮合物、ガラス転移点Tg75.9℃、重量平均分子量Mw11000、数平均分子量Mn4200、酸価11mgKOH/g)]
・炭化水素ワックス 9.0部
(フィッシャー・トロプシュワックス、DSC測定における最大吸熱ピークのピーク温度80℃、重量平均分子量Mw750)
・高分子化合物A 1.0部
下記組成をボールミルで24時間分散することにより、カルボキシメチルセルロースを溶解し、水系媒体を得た。
・炭酸カルシウム(アクリル酸系共重合体で被覆) 20.0部
・カルボキシメチルセルロース 0.5部
(商品名:セロゲンBS−H、第一工業製薬社製)
・イオン交換水 99.5部
上記水系媒体1200部を、T.K.ホモミキサーに入れ、回転羽根を周速度20m/secで撹拌しながら、前記トナー組成物混合液1000部を投入し、25℃一定に維持しながら1分間撹拌して懸濁液を得た。
分散懸濁工程で得られた懸濁液2200部をフルゾーン翼(神鋼環境ソリューション社製)により周速度45m/minで撹拌しながら、温度を40℃一定に保ち、ブロワ−を用いて上記懸濁液面上の気相を強制更新し、溶剤除去を開始した。その際、溶剤除去開始から15分後に、イオン性物質として1%に希釈したアンモニア水75部を添加し、続いて溶剤除去開始から1時間後に上記アンモニア水25部を添加した。さらに溶剤除去開始から2時間後に上記アンモニア水25部を添加し、最後に溶剤除去開始から3時間後に上記アンモニア水25部を添加し、総添加量を150部とした。さらに温度を40℃に保ったまま、溶剤除去開始から17時間保持し、懸濁粒子から溶剤(酢酸エチル)を除去したトナー分散液を得た。
溶剤除去工程で得られたトナー分散液300部に、10mol/l塩酸80部を加え、さらに0.1mol/l水酸化ナトリウム水溶液により中和処理後、吸引ろ過によるイオン交換水洗浄を4回繰り返して、トナーケーキを得た。得られたトナーケーキを真空乾燥機で乾燥し、目開き45μmの篩で篩分しトナー母粒子を得た。これ以降はトナー製造例1と同様にしてトナー17を製造した。
高分子化合物Aを用いないこと以外、実施例1と同様にして比較用のトナー18を製造した。
高分子化合物Aの代わりにサリチル酸アルミニウム錯体(BONTRON E−108、オリエント化学工業社製)を用いること以外、実施例1と同様にして比較用のトナー19を製造した。
高分子化合物Aの代わりに高分子化合物Q乃至Rを用いること以外、実施例1と同様にして比較用のトナー20乃至21を製造した。
12 基板保持台
13 高分子化合物塗膜
14 基準粉体
15 基準粉体供給装置
16 基準粉体受器
17 エレクトロメーター
21 吸引機
22 測定容器
23 導電性スクリーン
24 フタ
25 真空計
26 風量調節弁
27 吸引口
28 コンデンサー
29 電位計
Claims (10)
- 前記高分子化合物において、前記一般式(6)で表されるユニットがスチレン誘導体単位および/またはアクリル酸エステル誘導体単位である請求項3又は4に記載の高分子化合物。
- 重量平均分子量が3000乃至10万であることを特徴とする請求項3乃至5のいずれか一項に記載の高分子化合物。
- 請求項3乃至6のいずれか一項に記載の高分子化合物を含有することを特徴とする電荷制御剤。
- 請求項7に記載の電荷制御剤を、最表層に含有することを特徴とする現像剤担持体。
- 結着樹脂、着色剤及び請求項7に記載の電荷制御剤を含有することを特徴とするトナー。
- 前記トナーが懸濁重合法或いは懸濁造粒法を用いて製造されることを特徴とする請求項9に記載のトナー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012082682A JP5084961B2 (ja) | 2011-03-30 | 2012-03-30 | 重合性単量体、高分子化合物、該高分子化合物を含有する電荷制御剤、該電荷制御剤を含有する現像剤担持体およびトナー |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011074834 | 2011-03-30 | ||
JP2011074550 | 2011-03-30 | ||
JP2011074550 | 2011-03-30 | ||
JP2011074834 | 2011-03-30 | ||
JP2012082682A JP5084961B2 (ja) | 2011-03-30 | 2012-03-30 | 重合性単量体、高分子化合物、該高分子化合物を含有する電荷制御剤、該電荷制御剤を含有する現像剤担持体およびトナー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012214798A JP2012214798A (ja) | 2012-11-08 |
JP5084961B2 true JP5084961B2 (ja) | 2012-11-28 |
Family
ID=46931568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012082682A Active JP5084961B2 (ja) | 2011-03-30 | 2012-03-30 | 重合性単量体、高分子化合物、該高分子化合物を含有する電荷制御剤、該電荷制御剤を含有する現像剤担持体およびトナー |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9250552B2 (ja) |
EP (1) | EP2691424B1 (ja) |
JP (1) | JP5084961B2 (ja) |
KR (1) | KR20130136550A (ja) |
CN (1) | CN103459437B (ja) |
WO (1) | WO2012133881A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101513387B1 (ko) | 2011-03-30 | 2015-04-17 | 캐논 가부시끼가이샤 | 중합성 단량체, 고분자 화합물, 고분자 화합물을 함유하는 하전 제어제, 하전 제어제를 함유하는 현상제 담지체 및 토너 |
US9618867B2 (en) * | 2015-02-20 | 2017-04-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Pigment dispersion and toner |
JP6608258B2 (ja) * | 2015-12-01 | 2019-11-20 | キヤノン株式会社 | トナー粒子の製造方法 |
JP6765988B2 (ja) * | 2017-02-22 | 2020-10-07 | 信越化学工業株式会社 | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 |
US10259894B1 (en) * | 2017-09-27 | 2019-04-16 | Nissan North America, Inc. | Oxygen permeable polymers, ionomers and methods of making the same |
CN114621490B (zh) * | 2022-04-25 | 2023-06-23 | 辽宁丽天新材料有限公司 | 可发性复合石墨阻燃性聚苯乙烯珠粒及其制备方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2748164B2 (ja) * | 1989-09-20 | 1998-05-06 | キヤノン株式会社 | 静電潜像現像用負帯電性トナー |
JP2694572B2 (ja) | 1990-05-11 | 1997-12-24 | キヤノン株式会社 | 静電荷像現像用トナー |
GB9515975D0 (en) * | 1995-08-04 | 1995-10-04 | Zeneca Ltd | Chemical compounds |
JP4004080B2 (ja) | 1995-08-29 | 2007-11-07 | オリヱント化学工業株式会社 | 芳香族オキシカルボン酸の金属化合物及びその関連技術 |
JPH1020560A (ja) | 1996-07-02 | 1998-01-23 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真用トナー、その製造方法及びそれを用いる画像形成方法 |
EP1248158B1 (en) | 2001-04-03 | 2006-06-07 | Ricoh Company, Ltd. | Toner, developer, and image forming method and apparatus |
JP2003005445A (ja) | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用マゼンタトナー、現像剤、画像形成装置及び画像形成方法 |
JP2004006273A (ja) | 2002-03-27 | 2004-01-08 | Hitachi Ltd | 単結合回転型カチオン伝導体 |
US7300991B2 (en) * | 2002-03-27 | 2007-11-27 | Hitachi, Ltd. | Cationic conductor, its intermediate, and lithium secondary battery using the conductor |
JP2005157310A (ja) | 2003-10-31 | 2005-06-16 | Canon Chemicals Inc | 現像ローラー及びこれを用いた電子写真装置 |
JP2006160854A (ja) | 2004-12-06 | 2006-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | スチレン誘導体、ポリマー及びその製造方法、パターン形成材料、並びに、永久パターン及びその形成方法 |
WO2007055414A1 (en) | 2005-11-11 | 2007-05-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Polymer having sulfonic acid group or sulfonic acid ester group and amide group, and toner for developing electrostatic latent image having the polymer |
JP5078643B2 (ja) * | 2008-02-06 | 2012-11-21 | キヤノン株式会社 | トナー |
JP2010185907A (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Canon Inc | トナーの製造方法 |
JP2010250087A (ja) | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Canon Inc | トナー |
KR101513387B1 (ko) | 2011-03-30 | 2015-04-17 | 캐논 가부시끼가이샤 | 중합성 단량체, 고분자 화합물, 고분자 화합물을 함유하는 하전 제어제, 하전 제어제를 함유하는 현상제 담지체 및 토너 |
-
2012
- 2012-03-27 EP EP12765581.9A patent/EP2691424B1/en not_active Not-in-force
- 2012-03-27 WO PCT/JP2012/058792 patent/WO2012133881A1/en active Application Filing
- 2012-03-27 KR KR1020137027789A patent/KR20130136550A/ko active IP Right Grant
- 2012-03-27 US US14/006,407 patent/US9250552B2/en active Active
- 2012-03-27 CN CN201280016609.7A patent/CN103459437B/zh active Active
- 2012-03-30 JP JP2012082682A patent/JP5084961B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012214798A (ja) | 2012-11-08 |
EP2691424A1 (en) | 2014-02-05 |
EP2691424A4 (en) | 2014-10-29 |
US20140011130A1 (en) | 2014-01-09 |
EP2691424B1 (en) | 2016-02-03 |
CN103459437B (zh) | 2015-06-03 |
KR20130136550A (ko) | 2013-12-12 |
US9250552B2 (en) | 2016-02-02 |
WO2012133881A1 (en) | 2012-10-04 |
CN103459437A (zh) | 2013-12-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5084960B2 (ja) | 重合性単量体、高分子化合物、該高分子化合物を含有する電荷制御剤、該電荷制御剤を含有する現像剤担持体及びトナー | |
JP5971985B2 (ja) | トナーの製造方法 | |
JP5084961B2 (ja) | 重合性単量体、高分子化合物、該高分子化合物を含有する電荷制御剤、該電荷制御剤を含有する現像剤担持体およびトナー | |
JP4927221B2 (ja) | トナー | |
US5856055A (en) | Toner for developing electrostatic images and process for production thereof | |
KR20130039694A (ko) | 비스아조 골격구조를 갖는 화합물을 포함하는 토너 | |
CN104137001A (zh) | 包含具有偶氮骨架的化合物的青色调色剂 | |
JP5078643B2 (ja) | トナー | |
JP5078642B2 (ja) | トナー | |
US8916318B2 (en) | Black toner containing compound having azo skeleton | |
JP2010185907A (ja) | トナーの製造方法 | |
JP5765905B2 (ja) | 高分子化合物、および該高分子化合物を含有する電荷制御剤、該電荷制御剤を含有するトナー | |
JP6525716B2 (ja) | トナー | |
JPH01185650A (ja) | 静電潜像現像用トナーおよびその製造方法 | |
JP4040646B2 (ja) | トナーの製造方法及びトナー | |
JP2002182420A (ja) | 乾式トナー | |
JP3578356B2 (ja) | 金属錯体のジフェニルグアニジン塩及び電子写真用トナー | |
JP2859774B2 (ja) | 静電荷像現像用トナー | |
JPH0667471A (ja) | 乾式二成分現像剤及び画像形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20120727 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120807 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120904 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5084961 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914 Year of fee payment: 3 |