JP5078666B2 - セラミック基板とアルミニウム基板との接合方法、および発光素子実装体 - Google Patents
セラミック基板とアルミニウム基板との接合方法、および発光素子実装体 Download PDFInfo
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Description
すなわち、アルミナを主成分とするセラミック基板12表面の微細な凹部の内部にまで、アルミニウム基板14の一部が侵入した状態となっている。このため、セラミック基板12とアルミニウム基板14とは、接触面積が比較的大きくなっている。
は、セラミック基板12とアルミニウム基板14との界面に、このような空洞が比較的少ないので、かかる界面での反射による光の損失も比較的少ない。
真空炉内に配置し、アルミニウム基板14の上面に第1のおもり26を載置する(図4(b)、ステップS104)。真空炉内では、セラミック基板12を真空炉内の所定のステージ上に載置し、このセラミック基板12の上面(一方の主面)に、アルミニウム基板14と第1のおもり26とを載置する。なお、セラミック基板12は、図示しない導体パターン18と上記ステージとが当接するよう(すなわち、導体パターン18が設けられている側の基板面を下向きにして)、ステージ上に配置する。セラミック基板12とアルミニウム基板14と(集合体20)と第1のおもり26とを真空炉(図示せず)に載置する際、真空炉内の温度は室温(約20℃)とする。なお、この第1のおもり26の重さは、アルミニウム基板14の側からセラミック基板12の側にかかる圧力が0.1〜2kPaとなるよう調整されている。
体20と、第2のおもり28とを取り出す(ステップS112)。上述のように、第2のおもり28と接合体20とは接合しておらず、第2のおもり28を取り除くことで、セラミック基板12の表面にアルミニウム基板14が接合された半導体素子実装用基板11が得られる(図1(d))。半導体素子実装用基板11は、上述のように、絶縁体であるセラミック基板12と、伝熱性が比較的高いアルミニウム基板14と、が比較的強固に結合された基板である。また、半導体素子実装用基板11は、反り等も比較的小さい。また、上述のように、第1の熱処理工程において、溶融したアルミニウムが、セラミック基板12の表面の空孔や、比較的小さな凹凸の表面にまで浸透し固化している。このため、ミクロンオーダーやサブミクロンオーダーより小さなオーダーまで考慮した場合、セラミック基板12の表面と、アルミニウム基板14との表面との接触面積が比較的大きい。このため、半導体素子実装用基板11は、セラミック基板12から、アルミニウム基板14への熱の伝導効率も比較的高い。
12 セラミック基板
14 アルミニウム基板
16 LED素子(発光素子)
26 第1のおもり
28 第2のおもり
Claims (6)
- セラミック基板の一方の主面とアルミニウム基板の一方の主面とを当接させて、前記セラミック基板に前記アルミニウム基板を載置した集合体を、アルミニウムの融点より高い第1の温度範囲で第1の熱処理を施した後、400℃以下の温度まで降温させ、
降温後、前記集合体をアルミニウムの融点未満の第2の温度範囲まで昇温させて第2の熱処理を施すことで、前記セラミック基板と前記アルミニウム基板とを接合することを特徴とする、セラミック基板とアルミニウム基板との接合方法。 - 前記第1の温度範囲は660〜680℃であり、前記第2の温度範囲は600〜650℃であることを特徴とする請求項1記載のセラミック基板とアルミニウム基板との接合方法。
- 前記第1の温度範囲での熱処理は、真空または還元雰囲気にて行うことを特徴とする請求項1または2記載のセラミック基板とアルミニウム基板との接合方法。
- 前記第1の熱処理は、前記アルミニウム基板の側から前記セラミック基板にかかる圧力を0.1〜2kPaとして行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のセラミック基板とアルミニウム基板との接合方法。
- 前記第2の熱処理は、前記アルミニウム基板の側から前記セラミック基板にかかる圧力を10kPa 以上として行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のセラミック基板とアルミニウム基板との接合方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のセラミック基板とアルミニウム基板との接合方法を用いて接合された、セラミック基板とアルミニウム基板との接合体と、
前記セラミック基板の、前記アルミニウム基板と接合された前記一方主面と反対の側の主面に設けられた導電パターンと、
前記導電パターンに実装された発光素子とを備えることを特徴とする発光素子実装体。
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