JP5070014B2 - 放熱装置 - Google Patents

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Description

本発明は、放熱装置に関するものである。
たとえば、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)などの半導体素子を有するパワーモジュールに使用される放熱装置が特許文献1に開示されている。特許文献1に記載の放熱装置は、パワーモジュール用基板の絶縁基板とヒートシンクを構成する放熱板との間に、絶縁基板の表面積の1〜3倍の表面積を有する緩衝層が介装接着されている。また、放熱板の下部には水冷シンク部が設けられている。緩衝層は絶縁基板の熱膨張係数とヒートシンクの熱膨張係数との間の熱膨張係数を有し、絶縁基板およびヒートシンクにおける熱変形の度合いの差を緩衝層により吸収させて絶縁基板に発生する内部応力を小さくしている。
特開2001−148451号公報
発熱量の大きい半導体素子が使用されるパワーモジュール用の放熱装置においては、冷却効率を下げることなく、発熱体が発熱することにより生じる熱応力を緩和する機能を向上させたいというニーズがある。
本発明は、このような背景の下になされたものであり、その目的は、冷却効率を下げることなく熱応力の緩和機能を向上させた放熱装置を提供することにある。
請求項1に記載の発明では、一面が発熱体搭載面となる絶縁基板と、該絶縁基板の他面側に配置固定されて該絶縁基板と熱的に結合するヒートシンクとを備えた放熱装置において、前記絶縁基板は、発熱体搭載面側に金属回路層が形成され、かつ他面側には金属層が形成されており、前記ヒートシンクは、上側ケースと下側ケースとを備え、かつ内部に冷却通路が形成された液式冷却器であり、前記絶縁基板の前記金属層と前記ヒートシンクの前記上側ケースとの間には、高熱伝導性材料からなり、かつ、応力吸収空間を有する応力緩和部材が設けられており、前記応力緩和部材は前記絶縁基板および前記ヒートシンクに金属接合されており、前記上側ケースは、前記応力緩和部材が当接する部位の厚さがその他の部位の厚さよりも薄く形成されていることを要旨とする。
請求項1に記載の発明によれば、発熱体から発生した熱は絶縁基板および応力緩和部材を介して液式冷却器であるヒートシンクに伝達され、該ヒートシンク内部を流れる冷却液と熱交換されることにより放熱装置外部に逃がされる。ここで、ヒートシンクの上側ケースは、応力緩和部材が当接する部位の厚さがその他の部位の厚さよりも薄く形成されているので、ヒートシンクの剛性が下がり、ヒートシンクの上側ケース部分においても熱応力の緩和が図られる。また、ヒートシンクの上側ケースは応力緩和部材が当接する部位の厚さがその他の部位の厚さよりも薄く形成されているので、発熱体と冷却通路との距離が短くなり冷却効率が向上する。
請求項2に記載のように、請求項1に記載の放熱装置において、前記金属層はアルミニウムより形成され、前記上側ケースはアルミニウムより形成され、前記応力緩和部材は複数の貫通孔を有するアルミニウム板であると、アルミニウム同士の金属接合とすることができる。
請求項3に記載のように、請求項1に記載の放熱装置において、前記金属層はアルミニウムより形成され、前記上側ケースはアルミニウムより形成され、前記応力緩和部材は前記絶縁基板側および前記ヒートシンク側の少なくとも一面に複数の凹部が設けられたアルミニウム板であると、アルミニウム同士の金属接合とすることができる。
本発明によれば、冷却効率を下げることなく、熱応力の緩和機能を向上させることができる。
以下、本発明を車両に搭載されて使用されるパワーモジュール用放熱装置に具体化した実施形態を説明する。以下の説明において、「アルミニウム」という用語には、純アルミニウムの他にアルミニウム合金を含むものとする。
図1に示すように、放熱装置は、一面(上面)が発熱体搭載面となる絶縁基板10と、絶縁基板10の他面(下面)側に配置固定されたヒートシンク40とを備えている。また、絶縁基板10とヒートシンク40との間には応力緩和部材30が設けられており、応力緩和部材30は絶縁基板10およびヒートシンク40と金属接合されている。ヒートシンク40と絶縁基板10とは熱的に結合されている。
絶縁基板10は、絶縁性の基板であるセラミック基板13と、そのセラミック基板13の発熱体搭載面側に形成された金属回路層11と、セラミック基板13の他面側に形成されたアルミニウムよりなる金属層12とで構成されている。セラミック基板13は、例えば、窒化アルミニウム、アルミナ、窒化ケイ素等により形成されている。
絶縁基板10の上面の発熱体搭載面においては発熱体としての半導体素子(半導体チップ)20が半田を介して接合されている。半導体素子20としては、例えば、IGBT、MOSFET、ダイオード等が用いられる。
ヒートシンク40は上側ケース41と下側ケース42とを備えており、上側ケース41と下側ケース42とを重ねた状態で両者が、たとえば、ロウ付け等の金属接合により一体化されている。また、ヒートシンク40はその内部に冷却フィン等を設けることにより構成される複数の冷却水通路40aを備えている。これらの冷却水通路40aは並列状に設けられている。つまり、上側ケース41および下側ケース42で構成されるヒートシンク40の内部には複数の冷却水通路40aが形成されており、この冷却水通路40aは並設されている。この冷却水通路40aに冷却水を流すことで発熱体の冷却が行われる。このようにヒートシンク40は内部に冷却通路としての冷却水通路40aが形成された液式冷却器である。冷却水通路40aは、図示しない入口部及び出口部を備え、入口部及び出口部は、車両に装備された冷却水循環路に連結可能に形成されている。ヒートシンク40の冷却能力は、半導体素子20が駆動されて発熱状態にある場合、半導体素子20で発生した熱が絶縁基板10および応力緩和部材30を介してヒートシンク40に伝導されて円滑に除去されるように設定されている。ヒートシンク40の上側ケース41はアルミニウムにより形成されている。なお、本実施形態では上側ケース41と下側ケース42とは共にアルミニウムにより形成されている。
絶縁基板10の金属層12とヒートシンク40の上側ケース41との間には、応力緩和部材30が設けられており、応力緩和部材30は絶縁基板10およびヒートシンク40に金属接合されている。具体的には、絶縁基板10と応力緩和部材30とヒートシンク40の上側ケース41とはロウ付けにより一体化されている。応力緩和部材30は高熱伝導性材料からなり、かつ、貫通孔30aよりなる応力吸収空間を有する。具体的には、応力緩和部材30は複数の貫通孔30aを有するアルミニウム板である。
ヒートシンク40の上側ケース41の肉厚tについては次のような構成となっている。
ヒートシンク40における上側ケース41は、応力緩和部材30が当接する部位の厚さt2がその他の部位の厚さt1よりも薄く形成されている(t2<t1)。
具体的には、ヒートシンク40の上側ケース41における応力緩和部材30が当接する部位以外の厚さt1は1mmであり、上側ケース41における応力緩和部材30が当接する部位の厚さt2は0.5mmである。一方、応力緩和部材30の厚さt3は1mmである。
次に、前記のように構成された放熱装置の作用を説明する。
放熱装置は、ハイブリッド車等に搭載されるとともに、図示しない冷却水循環路にヒートシンク40がパイプを介して連通された状態で使用される。冷却水循環路にはポンプ及びラジエータが設けられ、ラジエータは、モータにより回転されるファンを備え、ラジエータからの放熱が効率よく行われるようになっている。
放熱装置に搭載された半導体素子20が駆動されると、半導体素子20から熱が発生する。半導体素子20から発生した熱は、絶縁基板10および応力緩和部材30を介してヒートシンク40に伝導され、ヒートシンク40の内部を流れる冷却水と熱交換されることにより放熱装置外部に逃がされる。つまり、ヒートシンク40に伝導された熱は、冷却水通路40aを流れる冷却水に伝導されるとともに持ち去られる(熱が逃がされる)。即ち、ヒートシンク40は、冷却水通路40aを流れる冷却水によって強制冷却されるため、半導体素子20等からヒートシンク40に至る熱の伝導経路における温度勾配が大きくなり、半導体素子20で発生した熱が絶縁基板10および応力緩和部材30を介して効率良く除去される。
ここで、複数の貫通孔30aよりなる応力吸収空間を有する応力緩和部材30にて、半導体素子20が発熱することにより生じる熱応力が緩和される。また、水冷式ヒートシンク40の上側ケース41は、応力緩和部材30が当接する部位の厚さt2がその他の部位の厚さt1よりも薄く形成されているので、水冷式ヒートシンク40の剛性が下がり、この水冷式ヒートシンク40の上側ケース41部分においても熱応力の緩和が図られる(水冷式ヒートシンク40自身においても熱応力の緩和が図られる)。また、水冷式ヒートシンク40の上側ケース41は、応力緩和部材30が当接する部位の厚さt2がその他の部位の厚さt1よりも薄く形成されているので、発熱体(20)と冷却水路(40a)との距離が短くなり冷却効率が向上する。
上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)絶縁基板10の金属層12と、液式冷却器であるヒートシンク40の上側ケース41との間には、高熱伝導性材料からなり、かつ、応力吸収空間(貫通孔30a)を有する応力緩和部材30が設けられており、応力緩和部材30は絶縁基板10およびヒートシンク40に金属接合されており、上側ケース41は、応力緩和部材30が当接する部位の厚さt2がその他の部位の厚さt1よりも薄く形成されている。よって、冷却効率を下げることなく熱応力の緩和機能を向上させることができる(薄くして剛性を下げて熱応力の緩和を図ることができる)。
(2)金属層12はアルミニウムより形成され、上側ケース41はアルミニウムより形成され、応力緩和部材30は複数の貫通孔30aを有するアルミニウム板であるので、アルミニウム同士をロウ付け(金属接合)とすることができる。また、複数の貫通孔30aにて応力吸収空間を形成することができる。
実施形態は前記に限定されるものではなく、例えば、次のように具体化してもよい。
図2に示すように応力緩和部材30は絶縁基板10側の一面に複数の凹部30bが設けられたアルミニウム板であってもよい。あるいは、図3に示すように応力緩和部材30はヒートシンク40側の一面に複数の凹部30cが設けられたアルミニウム板であってもよい。あるいは、図4に示すように応力緩和部材30は絶縁基板10側およびヒートシンク40側の両方の面に複数の凹部30d,30eが設けられたアルミニウム板であってもよい。このように金属層12はアルミニウムより形成され、上側ケース41はアルミニウムより形成され、応力緩和部材30は絶縁基板10側およびヒートシンク40側の少なくとも一面に複数の凹部が設けられたアルミニウム板であってもよい。この場合にもアルミニウム同士をロウ付け(金属接合)とすることができる。また、複数の凹部にて応力吸収空間を形成することができる。
液式冷却器としてのヒートシンク40は内部に水が流れる構成としたが、水以外にもアルコール等の他の液体が流れる構成としてもよい。
本実施形態における放熱装置の縦断面図。 別例の放熱装置の縦断面図。 別例の放熱装置の縦断面図。 別例の放熱装置の縦断面図。
符号の説明
10…絶縁基板、11…金属回路層、12…金属層、30…応力緩和部材、30a…貫通孔、30b…凹部、30c…凹部、30d…凹部、30e…凹部、40…ヒートシンク、40a…冷却水通路、41…上側ケース、42…下側ケース。

Claims (3)

  1. 一面が発熱体搭載面となる絶縁基板と、該絶縁基板の他面側に配置固定されて該絶縁基板と熱的に結合するヒートシンクとを備えた放熱装置において、
    前記絶縁基板は、発熱体搭載面側に金属回路層が形成され、かつ他面側には金属層が形成されており、
    前記ヒートシンクは、上側ケースと下側ケースとを備え、かつ内部に冷却通路が形成された液式冷却器であり、
    前記絶縁基板の前記金属層と前記ヒートシンクの前記上側ケースとの間には、高熱伝導性材料からなり、かつ、応力吸収空間を有する応力緩和部材が設けられており、
    前記応力緩和部材は前記絶縁基板および前記ヒートシンクに金属接合されており、
    前記上側ケースは、前記応力緩和部材が当接する部位の厚さがその他の部位の厚さよりも薄く形成されている
    ことを特徴とする放熱装置。
  2. 前記金属層はアルミニウムより形成され、
    前記上側ケースはアルミニウムより形成され、
    前記応力緩和部材は複数の貫通孔を有するアルミニウム板である
    請求項1に記載の放熱装置。
  3. 前記金属層はアルミニウムより形成され、
    前記上側ケースはアルミニウムより形成され、
    前記応力緩和部材は前記絶縁基板側および前記ヒートシンク側の少なくとも一面に複数の凹部が設けられたアルミニウム板である
    請求項1に記載の放熱装置。
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4867793B2 (ja) * 2007-05-25 2012-02-01 株式会社豊田自動織機 半導体装置
US8472193B2 (en) * 2008-07-04 2013-06-25 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Semiconductor device
JP5515947B2 (ja) * 2010-03-29 2014-06-11 株式会社豊田自動織機 冷却装置
KR101036343B1 (ko) 2010-04-16 2011-05-23 주식회사 위스코하이텍 다층의 도전막이 형성된 금속기판의 제조방법
JP2012054513A (ja) * 2010-09-03 2012-03-15 Toshiba Corp 半導体パッケージ
JP5349572B2 (ja) 2011-04-18 2013-11-20 株式会社豊田自動織機 放熱装置及び放熱装置の製造方法
US20140069615A1 (en) * 2011-05-12 2014-03-13 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Cooler and method for producing the same
US9425124B2 (en) * 2012-02-02 2016-08-23 International Business Machines Corporation Compliant pin fin heat sink and methods
JP6060553B2 (ja) * 2012-04-06 2017-01-18 株式会社豊田自動織機 半導体装置
JP6019706B2 (ja) * 2012-04-24 2016-11-02 ダイキン工業株式会社 パワーモジュール
KR101388781B1 (ko) * 2012-06-22 2014-04-23 삼성전기주식회사 전력 모듈용 방열 시스템
JP2014017318A (ja) * 2012-07-06 2014-01-30 Toyota Industries Corp 半導体装置
EP2849221A1 (en) * 2013-09-11 2015-03-18 ABB Technology AG Cooling arrangement for a power semiconductor module
JP5880519B2 (ja) * 2013-10-21 2016-03-09 トヨタ自動車株式会社 車載電子装置
TWM519879U (zh) * 2015-08-03 2016-04-01 Dowton Electronic Materials Co Ltd 電子裝置之改良散熱結構
CN106505052B (zh) * 2016-11-17 2019-02-15 云南电网有限责任公司电力科学研究院 用于绝缘栅双极型晶体管的散热装置
DE102017203217A1 (de) * 2017-02-28 2018-08-30 Robert Bosch Gmbh Kontaktanordnung
JP7159620B2 (ja) * 2018-05-30 2022-10-25 富士電機株式会社 半導体装置、冷却モジュール、電力変換装置及び電動車両
US10905028B2 (en) * 2019-05-07 2021-01-26 International Business Machines Corporation Structure for eliminating the impact of cold plate fouling
DE112022002382T5 (de) * 2021-04-25 2024-02-15 Danfoss Silicon Power Gmbh Elektronische Vorrichtung mit verbesserter Kühlung

Family Cites Families (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5936949A (ja) * 1982-08-25 1984-02-29 Nec Corp マルチチツプパツケ−ジ
US4994903A (en) * 1989-12-18 1991-02-19 Texas Instruments Incorporated Circuit substrate and circuit using the substrate
DE4315272A1 (de) * 1993-05-07 1994-11-10 Siemens Ag Leistungshalbleiterbauelement mit Pufferschicht
US5396403A (en) * 1993-07-06 1995-03-07 Hewlett-Packard Company Heat sink assembly with thermally-conductive plate for a plurality of integrated circuits on a substrate
US5455458A (en) * 1993-08-09 1995-10-03 Hughes Aircraft Company Phase change cooling of semiconductor power modules
US5504378A (en) * 1994-06-10 1996-04-02 Westinghouse Electric Corp. Direct cooled switching module for electric vehicle propulsion system
JPH0955459A (ja) * 1995-06-06 1997-02-25 Seiko Epson Corp 半導体装置
JPH09148523A (ja) * 1995-11-21 1997-06-06 Toshiba Corp 半導体装置
DE19645636C1 (de) * 1996-11-06 1998-03-12 Telefunken Microelectron Leistungsmodul zur Ansteuerung von Elektromotoren
US6124635A (en) * 1997-03-21 2000-09-26 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Functionally gradient integrated metal-ceramic member and semiconductor circuit substrate application thereof
US5821161A (en) * 1997-05-01 1998-10-13 International Business Machines Corporation Cast metal seal for semiconductor substrates and process thereof
US6400012B1 (en) * 1997-09-17 2002-06-04 Advanced Energy Voorhees, Inc. Heat sink for use in cooling an integrated circuit
US6156980A (en) * 1998-06-04 2000-12-05 Delco Electronics Corp. Flip chip on circuit board with enhanced heat dissipation and method therefor
JP3445511B2 (ja) * 1998-12-10 2003-09-08 株式会社東芝 絶縁基板、その製造方法およびそれを用いた半導体装置
JP2001148451A (ja) * 1999-03-24 2001-05-29 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板
JP2001189416A (ja) * 1999-12-28 2001-07-10 Mitsubishi Electric Corp パワーモジュール
EP2244289B1 (en) * 2000-04-19 2014-03-26 Denso Corporation Coolant cooled type semiconductor device
JP4009056B2 (ja) * 2000-05-25 2007-11-14 三菱電機株式会社 パワーモジュール
JP2002098454A (ja) * 2000-07-21 2002-04-05 Mitsubishi Materials Corp 液冷ヒートシンク及びその製造方法
EP1315205A4 (en) * 2000-08-09 2009-04-01 Mitsubishi Materials Corp POWER MODULE AND POWER MODULE WITH COOLING BODY
JP2002203932A (ja) * 2000-10-31 2002-07-19 Hitachi Ltd 半導体パワー素子用放熱基板とその導体板及びヒートシンク材並びにロー材
JP2002141463A (ja) * 2000-10-31 2002-05-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体モジュール
JP2002203942A (ja) * 2000-12-28 2002-07-19 Fuji Electric Co Ltd パワー半導体モジュール
JP4015023B2 (ja) * 2001-02-22 2007-11-28 日本碍子株式会社 電子回路用部材及びその製造方法並びに電子部品
US20020185726A1 (en) * 2001-06-06 2002-12-12 North Mark T. Heat pipe thermal management of high potential electronic chip packages
JP3676268B2 (ja) * 2001-08-01 2005-07-27 株式会社日立製作所 伝熱構造体及び半導体装置
JP4848539B2 (ja) * 2001-08-23 2011-12-28 Dowaメタルテック株式会社 放熱板およびパワー半導体モジュール、icパッケージ
US6587345B2 (en) * 2001-11-09 2003-07-01 International Business Machines Corporation Electronic device substrate assembly with impermeable barrier and method of making
JP2003155575A (ja) * 2001-11-16 2003-05-30 Ngk Insulators Ltd 複合材料及びその製造方法
JP2003289191A (ja) * 2002-03-28 2003-10-10 Denso Corp 電子制御装置
JP4113971B2 (ja) * 2002-07-30 2008-07-09 株式会社豊田自動織機 低膨張材料及びその製造方法
US6844621B2 (en) * 2002-08-13 2005-01-18 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and method of relaxing thermal stress
US20060249279A1 (en) * 2002-11-05 2006-11-09 Lalit Chordia Method and apparatus for electronics cooling
JP3971296B2 (ja) * 2002-12-27 2007-09-05 Dowaホールディングス株式会社 金属−セラミックス接合基板およびその製造方法
JP4014528B2 (ja) * 2003-03-28 2007-11-28 日本碍子株式会社 ヒートスプレッダモジュールの製造方法及びヒートスプレッダモジュール
US6903929B2 (en) * 2003-03-31 2005-06-07 Intel Corporation Two-phase cooling utilizing microchannel heat exchangers and channeled heat sink
DE10315225B4 (de) * 2003-03-31 2005-06-30 Alutec Metallwaren Gmbh & Co. Wärmetauscher
US20040190253A1 (en) * 2003-03-31 2004-09-30 Ravi Prasher Channeled heat sink and chassis with integrated heat rejector for two-phase cooling
JP4180980B2 (ja) * 2003-06-10 2008-11-12 本田技研工業株式会社 半導体装置
TWM243912U (en) * 2003-08-25 2004-09-11 Tatung Co Heating dissipating device
US6992887B2 (en) * 2003-10-15 2006-01-31 Visteon Global Technologies, Inc. Liquid cooled semiconductor device
JP4543279B2 (ja) * 2004-03-31 2010-09-15 Dowaメタルテック株式会社 アルミニウム接合部材の製造方法
US7549460B2 (en) * 2004-04-02 2009-06-23 Adaptivenergy, Llc Thermal transfer devices with fluid-porous thermally conductive core
WO2005098942A1 (ja) * 2004-04-05 2005-10-20 Mitsubishi Materials Corporation Ai/ain接合体、パワーモジュール用基板及びパワーモジュール並びにai/ain接合体の製造方法
US7365273B2 (en) * 2004-12-03 2008-04-29 Delphi Technologies, Inc. Thermal management of surface-mount circuit devices
US7190581B1 (en) * 2005-01-11 2007-03-13 Midwest Research Institute Low thermal resistance power module assembly
US7468554B2 (en) * 2005-03-11 2008-12-23 Hitachi, Ltd. Heat sink board and manufacturing method thereof
JP4621531B2 (ja) * 2005-04-06 2011-01-26 株式会社豊田自動織機 放熱装置
JP4617209B2 (ja) * 2005-07-07 2011-01-19 株式会社豊田自動織機 放熱装置
JP5326278B2 (ja) * 2005-08-29 2013-10-30 日立金属株式会社 回路基板及びこれを用いた半導体モジュール、回路基板の製造方法
JP4378334B2 (ja) * 2005-09-09 2009-12-02 日本碍子株式会社 ヒートスプレッダモジュール及びその製造方法
KR20080065988A (ko) * 2005-09-28 2008-07-15 니뽄 가이시 가부시키가이샤 히트싱크 모듈 및 그 제조방법
JP2007208132A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Ngk Insulators Ltd 積層体の検査方法及びヒートスプレッダモジュールの検査方法
JP5007296B2 (ja) * 2006-03-13 2012-08-22 株式会社豊田自動織機 パワーモジュール用ベース
JP2007288054A (ja) * 2006-04-19 2007-11-01 Toyota Motor Corp パワーモジュール
US7440282B2 (en) * 2006-05-16 2008-10-21 Delphi Technologies, Inc. Heat sink electronic package having compliant pedestal
DE102006028675B4 (de) * 2006-06-22 2008-08-21 Siemens Ag Kühlanordnung für auf einer Trägerplatte angeordnete elektrische Bauelemente
JP5142119B2 (ja) * 2006-09-20 2013-02-13 住友電装株式会社 放熱構造を備えたプリント基板の製造方法および該方法で製造されたプリント基板の放熱構造
DE102006045939B4 (de) * 2006-09-28 2021-06-02 Infineon Technologies Ag Leistungshalbleitermodul mit verbesserter Temperaturwechselstabilität
US7755185B2 (en) * 2006-09-29 2010-07-13 Infineon Technologies Ag Arrangement for cooling a power semiconductor module
US7404433B1 (en) * 2007-01-31 2008-07-29 Man Zai Industrial Co., Ltd. Liquid cooled heat sink
US7564129B2 (en) * 2007-03-30 2009-07-21 Nichicon Corporation Power semiconductor module, and power semiconductor device having the module mounted therein
JP4945319B2 (ja) * 2007-05-25 2012-06-06 昭和電工株式会社 半導体装置
JP2008294279A (ja) * 2007-05-25 2008-12-04 Showa Denko Kk 半導体装置
JP4867793B2 (ja) * 2007-05-25 2012-02-01 株式会社豊田自動織機 半導体装置
US7821130B2 (en) * 2008-03-31 2010-10-26 Infineon Technologies Ag Module including a rough solder joint

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