JP5055301B2 - リソグラフィ投影装置及びアクチュエータ - Google Patents
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Description
IL 照明システム(照明装置)
PS 投影システム
MA パターン形成機器(マスク、レチクル)
MT マスク・テーブル
B 放射ビーム
W 基板(ウェーハ)
WT 基板テーブル
AC アクチュエータ
MF メトロ・フレーム
FP 流体供給装置
CS 緩衝システム
M1、M2 塊り
MGF、MG2、MG3 磁石
C1、C2、C3 コイル
SP ばね
AB 空気軸受
Claims (10)
- 基板を支持するように組み立てられた基板支持物と、
パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムの少なくとも一部が取り付けられているフレームと、
前記基板と前記投影システムの下流端との間に流体を供給するように構成された流体供給装置と、
前記フレーム及び前記流体供給装置と関連付けられ、かつ前記流体供給装置を位置付けするように構成されたアクチュエータと、
前記アクチュエータが前記流体供給装置を位置付けするとき振動力を緩和する緩衝システムと、を備え、
前記緩衝システムが、前記フレーム及び前記流体供給装置に対して動くことができる塊りを備え、前記アクチュエータの働きに関係のない前記流体の流れによって引き起こされた前記流体供給装置の動きのために前記流体供給装置に生じた他の振動力を、前記フレームから実質的に分離するように構成されている、
リソグラフィ投影装置。 - 基板を支持するように組み立てられた基板支持物と、
パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムの少なくとも一部が取り付けられているフレームと、
前記基板と前記投影システムの下流端との間に流体を供給するように構成された流体供給装置と、
前記フレーム及び前記流体供給装置と関連付けられ、かつ前記流体供給装置を位置付けするように構成されたアクチュエータと、
前記アクチュエータが前記流体供給装置を位置付けするとき振動力を緩和する緩衝システムと、を備え、
前記緩衝システムが、前記フレーム及び前記流体供給装置に対して動くことができる塊りを備え、前記アクチュエータの働きに関係のない前記流体の流れによって引き起こされた前記流体供給装置の動きのために前記流体供給装置に生じた他の振動力を、前記フレームから実質的に分離するように構成されており、
前記流体がパージ・ガスであり、
前記流体供給装置が、前記投影システムの前記下流端を汚染粒子から保護するために、前記パージ・ガスに流れを供給するように構成されている、
リソグラフィ投影装置。 - 前記塊りが、磁気力によって前記流体供給装置及び/又は前記フレームと関連付けられている、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記磁気力が、少なくとも1つの永久磁石を使用して発生される、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記磁気力が、少なくとも1つの電磁石を使用して発生される、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータが、電磁力を増加又は減少させることによって、作動されるように構成されている、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記装置は、前記アクチュエータに停電が起きたとき、前記流体供給装置が前記基板から遠ざけられるように位置している永久磁石及び/又は弾性要素を備える、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記塊りが、弾性要素によって前記流体供給装置及び/又は前記フレームと係合されている、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記緩衝システムが、前記塊りの動きを導く空気軸受を備える、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置で使用するためのアクチュエータであって、
フレーム及び機器と関連付けられるように構成され、
前記機器を位置付けするようにさらに構成され、
前記アクチュエータが前記機器を位置付けするとき振動力を緩和する少なくとも1つの緩衝システムを備え、
前記緩衝システムは、
前記アクチュエータが前記フレーム及び前記機器と関連付けられたとき前記フレーム及び前記機器に対して動くことができる塊りを備え、前記アクチュエータの働きに関係のない前記流体の流れによって引き起こされた前記流体供給装置の動きのために前記流体供給装置に生じた他の振動力を、前記フレームから実質的に分離するように構成されている、
アクチュエータ。
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