KR100749949B1

KR100749949B1 - 리소그래피 투영 장치 및 액추에이터

Info

Publication number: KR100749949B1
Application number: KR1020050119337A
Authority: KR
Inventors: 테오도루스 페트루스 마리아 카데
Original assignee: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Priority date: 2004-12-08
Filing date: 2005-12-08
Publication date: 2007-08-16
Also published as: JP2009111415A; TW200627081A; US20060119810A1; JP4376860B2; US7180571B2; TWI323388B; SG123783A1; EP1669805A3; JP2006165575A; CN1786831A; EP1669805A2; CN1786831B; KR20060064550A; JP5055301B2

Abstract

리소그래피 투영 장치가 개시된다. 상기 장치는, 기판을 지지하도록 구성된 기판 지지체, 상기 기판의 타겟부상으로 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템, 및 상기 투영 시스템의 전체 또는 일부분이 장착되는 프레임을 포함한다. 유체 제공기가 상기 투영 시스템의 하류 단부와 상기 기판 사이에 유체를 제공하도록 배치된다. 또한, 상기 장치는, 상기 프레임 및 상기 유체 제공기와 연계되고 상기 유체 제공기를 위치시키도록 배치된 액추에이터, 및 상기 액추에이터가 상기 유체 제공기를 위치시키는 경우에 진동력들을 완충시키는 쿠션 시스템을 포함한다.

Description

리소그래피 투영 장치 및 액추에이터{LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND ACTUATOR}

이하, 대응하는 참조 부호들이 대응하는 부분들을 나타내는 첨부된 개략적인 도면들을 참조하여, 단지 예시의 방식으로만, 본 발명의 실시예들을 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 도시하는 도면;

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른, 도 1의 리소그래피 장치의 일부분을 보다 상세히 도시하는 도면;

도 3은 리소그래피 장치의 일부분으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 액추에이터를 개략적으로 도시하는 도면;

도 4는 리소그래피 장치의 일부분으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 액추에이터를 개략적으로 도시하는 도면;

도 5는 리소그래피 장치의 일부분으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 액추에이터를 개략적으로 도시하는 도면;

도 6은 리소그래피 장치의 일부분으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 액추에이터를 개략적으로 도시하는 도면;

도 7은 리소그래피 장치의 일부분으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 액추에이터를 개략적으로 도시하는 도면; 및

도 8은 리소그래피 장치의 일부분으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 액추에이터를 개략적으로 도시하는 도면이다.

본 발명은 리소그래피 투영 장치 및 액추에이터에 관한 것이다.

리소그래피 투영 장치는 기판상에, 통상적으로는 기판의 타겟부상에 원하는 패턴을 적용시키는 기계이다. 리소그래피 투영 장치는, 예를 들어 집적 회로(IC)의 제조시에 사용될 수 있다. 그 상황에서, 대안적으로 마스크 또는 레티클이라 칭하는 패터닝 디바이스가 IC의 개별층상에 형성될 회로 패턴을 생성하기 위해 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼)상의 (예를 들어, 1개 또는 수개의 다이의 부분을 포함하는) 타겟부상으로 전사(transfer)될 수 있다. 패턴의 전사는, 통상적으로 기판상에 제공된 방사선-감응재(레지스트)층상으로의 이미징(imaging)을 통해 수행된다. 일반적으로, 단일 기판은 연속하여 패터닝되는 인접한 타겟부들의 네트워크를 포함할 것이다. 공지된 리소그래피 장치는, 한번에 타겟부상의 전체 패턴을 노광함으로써 각각의 타겟부가 조사(irradiate)되는, 소위 스테퍼, 및 방사선 빔을 통해 주어진 방향("스캐닝"- 방향)으로 패턴을 스캐닝하는 한편, 이 방향과 평행한 방향(같은 방향으로 평행한 방향) 또는 역-평행 방향(반대 방향으로 평행한 방향)으로 기판을 동기적으로 스캐닝함으로써 각각의 타겟부가 조사되는, 소위 스캐너를 포함한다. 또한, 기판상에 패턴을 임프린트(imprint)함으로 써, 패터닝 디바이스로부터 기판으로 패턴을 전사할 수도 있다.

흔히, 탄화수소 입자들 또는 방사선 감응 물질의 입자들과 같은 입자들은 각각 투영 시스템의 주변부들(surroundings)에 존재하거나 기판으로부터 떨어진다(release). 기판, 특히 방사선 감응 물질이 패터닝된 빔에 노광되는 경우, 또는 패터닝된 빔에 노광되기 전후에 여타의 기판 처리가 행해지는 경우, 기판으로부터 비롯된 입자들이 떨어질 수 있다. 기판으로부터 비롯되거나 투영 시스템의 주변부들에 존재하는 입자들은, 예를 들어 광학적 활성 표면(optically active surface), 즉, 패터닝된 빔이 통과하고 및/또는 그 방향을 변화시키는 표면과 상호작용할 수 있다. 또한, 이러한 광학 활성 표면은, 패터닝된 빔의 전파 방향(propagation)에 대해 하류(downstream)에 있는 투영 시스템의 단부쪽으로 위치된 광학적 활성 표면들과 같이, 투영 시스템에 속해 있지 않은 리소그래피 장치내의 여러 위치들에 존재할 수 있다. 이후, 투영 시스템의 "저부"라고 칭해지는 이러한 단부는, 예를 들어 렌즈 표면 또는 거울 표면을 포함할 수 있다. 흔히, 이러한 표면은, 상기 표면의 특별한 폴리싱으로 인해 투영 시스템 중에서 매우 고가의 부분이다. 따라서, 광학적 활성 표면들의 치수가 최소로 유지될 수 있도록, 흔히 투영 시스템이 설계된다. 투영 시스템의 저부와 상술된 입자들과의 상호작용은 패터닝된 빔의 정확성 및/또는 세기에 관해 유해한 효과를 줄 수 있다. 이들 표면들과 상기 입자들과의 상호작용으로 인한 광학적 활성 표면들의 수명 단축, 또는 표면의 리-폴리싱(re-polishing)에 의한 광학적 활성 표면 층의 제거는, 최소한(at least) 리소그래피 장치의 운전 비용(operational cost)의 증가를 초래할 수 있다.

투영 시스템의 감응부(sensitive part), 즉 투영 시스템의 광학적 활성 표면에 도달하는 이들 입자들의 생성가능성(likelihood)을 감소시키기 위해서, 리소그래피 장치는, 투영 시스템의 광학적 활성 표면과 기판 사이의 공간에 걸쳐, 또는 기판에 걸쳐, 광학적 활성 표면을 따라 퍼징 가스(purging gas)의 유동을 제공하도록 배치된 유체 제공기(fluid provider)를 포함한다. 퍼징 가스의 유동은, 입자들을 그들의 경로(course)로부터 투영 시스템의 광학적 활성 표면을 향해 멀리 전향(divert)시킴으로써 투영 시스템의 광학적 활성 표면을 보호한다.

또한, 본 명세서에서, 현 추세가 보다 높은 개구수 (numerical aperture number)(NA)를 요구하는 보다 정확한 투영들을 목표로 한다는 점은 주목할 만하다. 이는 기판에 근접한 투영 시스템의 저부를 가짐으로써 달성될 수 있다. 대안적으로, 또는 추가적으로, 투영 시스템의 저부와 기판 사이의 공간에 비교적 높은 굴절률을 갖는 유체, 예컨대 물을 제공할 수 있다. 또한, 이러한 침지 액체는 리소그래피 장치내의 다른 공간들, 예컨대 마스크와 투영 시스템 사이에도 적용될 수 있다. 특히, 침지 기술들은 광학 시스템들 및 투영 시스템들의 개구수를 증가시키는 기술로 당업계에 잘 알려져 있다. 리소그래피 장치에는, 침지 액체, 즉 비교적 높은 굴절률을 갖는 액체를 제공하거나, 상기 액체를 그 자리에 유지시키록 배치된 유체 제공기가 제공될 수 있다. 상기 액체는 국부적인 가열을 회피하기 위해서 유동할 수 있다. 따라서, 유체 제공기는, 퍼징 가스의 유동을 제공할 수 있거나, 액체 유동을 제공할 수 있거나, 액체를 그 자리에 유지시킬 수 있거나, 가스 및 액체의 조합을 제공할 수 있다. 기판과 투영 시스템의 저부 사이의 유체 제어기의 적용, 및 투영 시스템의 저부와 기판간의 거리의 한계(limitation)로 인해, 유체 제공기에 적용될 수 있는 공간은 매우 제한되어 있다. 결과적으로, 유체 제공기들은 제약된 공간(constraint space)내에서 그들의 기능적 요건들을 충족시키도록 설계된다. 상기 언급된 상황들이 주어진다면, 기판을 교체하기 위한 공간은 거의 남아있지 않다는 것을 이해할 수 있을 것이다.

본 발명의 일 실시형태는, 여전히 NA 수에 대한 조건들을 충족하고 및/또는 양호한 퍼징 조건들을 충족하면서, 기판의 교체가 가능한 리소그래피 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 리소그래피 투영 장치가 제공된다. 상기 장치는, 기판을 지지하도록 구성된 기판 지지체, 상기 기판의 타겟부상으로 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템, 및 상기 투영 시스템의 전체 또는 일부분이 장착되는 프레임을 포함한다. 유체 제공기는 상기 투영 시스템의 하류 단부와 상기 기판 사이에 유체를 제공하도록 배치된다. 또한, 상기 장치는, 상기 프레임 및 상기 유체 제공기와 연계되고 상기 유체 제공기를 위치시키도록 배치된 액추에이터, 및 상기 액추에이터가 상기 유체 제공기를 위치시키는 경우에 진동력들(vibrational forces)을 완충(cushion)시키는 쿠션 시스템(cushion system)을 포함한다.

본 발명의 또 다른 실시형태에 따르면, 리소그래피 장치에서 사용되는 액추에이터가 제공된다. 상기 액추에이터는 프레임 및 디바이스와 연계되도록 배치되 고, 또한 상기 디바이스를 위치시키도록 더욱 배치된다. 상기 액추에이터에는, 상기 액추에이터가 상기 디바이스를 위치시키는 경우에 진동력들을 완충시키는 1이상의 쿠션 시스템이 제공된다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 도시한다. 상기 장치는: 방사선 빔(B)(예를 들어, UV 방사선 또는 EUV 방사선)을 컨디셔닝(condition)하도록 구성된 조명 시스템(일루미네이터)(IL); 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 지지하도록 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 패터닝 디바이스를 정확히 위치시키도록 구성된 제 1 위치설정기(PM)에 연결된 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT); 기판(예를 들어, 레지스트-코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하도록 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제 2 위치설정기(PW)에 연결된 기판 테이블(예를 들어, 웨이퍼 테이블)(WT); 및 기판(W)의 타겟부(C)(1이상의 다이를 포함)에 패터닝 디바이스(MA)에 의하여 방사선 빔(B)에 부여된 패턴을 투영하도록 구성된 투영 시스템(예를 들어, 굴절 투영 렌즈 시스템)(PS)을 포함하여 이루어진다.

조명 시스템은, 방사선의 지향, 성형 또는 제어를 위하여, 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기 또는 여하한의 타입의 광학 구성요소들, 또는 그 조합과 같은 다양한 타입의 광학 구성요소를 포함할 수 있다.

지지 구조체는 패터닝 디바이스의 무게를 지지, 즉 견딘다. 이는 패터닝 디바이스의 방위, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예를 들어 패터닝 디바이스가 진공 환경에서 유지되는지의 여부와 같은 여타의 조건들에 의존하는 방식으로 패터닝 디바이스를 유지한다. 지지 구조체는 패터닝 디바이스를 유지하기 위해 기계적, 진공, 정전기, 또는 여타의 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 지지 구조체는 필요에 따라 고정되거나 이동될 수 있는 프레임 또는 테이블일 수도 있다. 지지 구조체는, 패터닝 디바이스가 예를 들어 투영 시스템에 대해 원하는 위치에 있을 것을 보장할 수도 있다. 흔히, 이러한 프레임을 메트로 프레임(Metro Frame)(MF)이라 칭한다. 이는 INVAR^® 또는 알루미늄으로 만들어질 수 있으며, 또한 그 안정된 위치를 보장하기 위해서 사전결정된 온도(predetermined temperature)로 수 밀리 켈빈(a few milli Kelvin)내에서 유지될 수 있다. 리소그래피 장치내의 다수의 디바이스들은 메트로 프레임에 연결되며, 상기 장치내의 위치들에 대한 비교적 정확한 기준을 제공한다. 이러한 디바이스의 예로는 위치 센서(IF)가 있다.

본 명세서의 "레티클" 또는 "마스크"라는 어떠한 용어의 사용도 "패터닝 디바이스"와 같은 좀 더 일반적인 용어와 동의어로도 간주될 수 있다.

본 명세서에서 사용되는 "패터닝 디바이스"라는 용어는, 기판의 타겟부에 패턴을 생성하기 위해서, 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하는데 사용될 수 있는 여하한의 디바이스를 의미하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은, 예를 들어 상기 패턴이 위상-시프팅 피처(phase-shifting feature)들 또는 소위 어시스트 피처(assist feature)들을 포함하는 경우, 기판의 타겟부내의 원하는 패턴과 정확히 일치하지 않을 수도 있다는 것을 유의한다. 일반적으로, 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적 회로와 같이 타겟부에 생성될 디바이스내의 특정 기능층에 해당할 것이다.

패터닝 디바이스는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스의 예로는 마스크, 프로그램가능한 거울 어레이 및 프로그램가능한 LCD 패널을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리형, 교번 위상-시프트형 및 감쇠 위상-시프트형 마스크와 다양한 하이브리드 마스크 형식도 포함한다. 프로그램가능한 거울 어레이의 일례는 작은 거울들의 매트릭스 구성을 채택하며, 그 각각은 입사하는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있다. 기울어진 거울들은 거울 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.

본 명세서에서 사용되는 "투영 시스템"이라는 용어는, 예를 들어 사용되는 노광 방사선에 대하여, 또는 침지 유체의 사용 또는 진공의 사용과 같은 여타의 인자들에 대하여 적절하다면, 굴절, 반사, 카타디옵트릭, 자기, 전자기 및 정전기 광학 시스템들을 포함하는 여하한의 타입의 투영 시스템을 내포하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. 본 명세서의 "투영 렌즈"라는 용어의 어떠한 사용도 "투영 시스템"과 같은 좀 더 일반적인 용어와 동의어로도 간주될 수 있다.

본 명세서에 도시된 바와 같이, 상기 장치는 (예를 들어, 투과 마스크를 채택하는) 투과형으로 구성된다. 대안적으로, 상기 장치는 (예를 들어, 프로그램가능한 거울 어레이를 채택하거나, 반사 마스크를 채택하는) 반사형으로 구성될 수도 있다.

리소그래피 장치는 2개(듀얼 스테이지)이상의 기판 테이블(및/또는 2이상의 마스크 테이블들)을 갖는 형태로 구성될 수도 있다. 이러한 "다수 스테이지" 기계에서는 추가 테이블이 병행하여 사용될 수 있으며, 또는 1이상의 테이블이 노광에 사용되고 있는 동안 1이상의 다른 테이블에서는 준비작업 단계가 수행될 수 있다.

또한, 리소그래피 장치는, 투영 시스템과 기판 사이의 공간을 채우기 위해, 비교적 높은 굴절률을 가지는 액체(예를 들어, 물)에 의해 기판의 전체 또는 일부분이 덮일 수 있는 형태로 구성될 수도 있다. 또한, 침지 액체는 리소그래피 장치내의 다른 공간들, 예를 들어 마스크와 투영 시스템 사이에도 적용될 수 있다. 침지 기술은 투영 시스템의 개구수를 증가시키는 기술로 본 발명이 속하는 기술 분야에 잘 알려져 있다. 본 명세서에서 사용되는 "침지"라는 용어는, 기판과 같은 구조체가 액체에 담그어져야 한다는 것을 의미하는 것이 아니라, 그 보다는 노광 시 액체가 투영 시스템, 특히 소위 마지막 렌즈 요소와 기판 사이에 위치된다는 것을 의미한다. 액체는 유체 제공기(FP)에 의해 제공될 수 있으며 및/또는 그 자리에 유지될 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 유체 제공기(FP)는 오염 입자들로부터 투영 시스템의 저부를 보호하기 위해서 퍼징 가스의 유동을 제공하도록 배치된다.

도 1을 참조하면, 일루미네이터(IL)는 방사선 소스(S0)로부터 방사선 빔을 수용한다. 예를 들어, 상기 소스가 엑시머 레이저인 경우, 상기 소스 및 리소그래피 장치는 별도의 개체일 수 있다. 이러한 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 일부분을 형성하는 것으로 간주되지 않으며, 상기 방사선 빔은, 예를 들어 적절한 지향 거울 및/또는 빔 익스팬더를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)의 도움으로, 소스 (SO)로부터 일루미네이터(IL)로 통과된다. 다른 경우, 예를 들어 상기 소스가 수은 램프인 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 통합부일 수 있다. 상기 소스(SO) 및 일루미네이터(IL)는, 필요에 따라, 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사선 시스템이라고도 칭해질 수 있다.

일루미네이터(IL)는 방사선 빔의 각도 세기 분포를 조정하는 조정기(AD)를 포함할 수도 있다. 일반적으로, 일루미네이터의 퓨필 평면내의 세기 분포의 적어도 외반경 및/또는 내반경 크기(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 일루미네이터(IL)는 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같이 다양한 다른 구성요소들도 포함할 수 있다. 일루미네이터는 그 단면에 원하는 균일성과 세기 분포를 가지기 위해, 방사선 빔을 컨디셔닝하는데 사용될 수 있다.

상기 방사선 빔(B)은, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블(MT))상에 유지되어 있는 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크(MA))상에 입사되며, 패터닝 디바이스에 의해 패터닝된다. 마스크(MA)를 가로질렀으면, 상기 방사선 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하여 기판(W)의 타겟부(C)상에 상기 빔을 포커스한다. 제 2 위치설정기(PW) 및 위치 센서(IF)(예컨대, 간섭계 디바이스, 리니어 인코더 또는 용량성 센서)의 도움으로, 기판 테이블(WT)은, 예를 들어 방사선 빔(B)의 경로내에 상이한 타겟부(C)들을 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제 1 위치설정기(PM) 및 또 다른 위치센서(도 1에 명확히 도시되지 않음)는, 예를 들어 마스크 라이브러리(mask library)로부터의 기계적인 회수 후에, 또는 스캔하는 동안, 방사선 빔(B)의 경로에 대해 마스크(MA)를 정확히 위치시키는데 사용될 수 있다. 일반적으로, 마스크 테이블(MT)의 이동은, 장-행정 모듈(long-stroke module)(개략 위치설정) 및 단-행정 모듈(short-stroke module)(미세 위치설정)의 도움을 받아 실현될 것이며, 이는 제 1 위치설정기(PM)의 일부분을 형성한다. 이와 유사하게, 기판 테이블(WT)의 이동 또한, 장-행정 모듈 및 단-행정 모듈을 이용하여 실현될 수도 있으며, 이는 제 2 위치설정기(PW)의 일부분을 형성한다. (스캐너와는 대조적으로) 스테퍼의 경우, 마스크 테이블(MT)은 단지 단-행정 액추에이터에만 연결되거나 고정될 수도 있다. 마스크(MA) 및 기판(W)은 마스크 정렬 마크들(M1, M2) 및 기판 정렬 마크들(P1, P2)을 이용하여 정렬될 수 있다. 비록, 예시된 기판 정렬 마크들이 지정된 타겟부(dedicated target portion)들을 차지하고 있지만, 그들은 타겟부들 사이의 공간들내에 위치될 수도 있다(이들은 스크라이브-레인 정렬 마크(scribe-lane alignment mark)들로 알려져 있다). 이와 유사하게, 마스크(MA)상에 1이상의 다이가 제공되는 상황들에서, 마스크 정렬 마크들은 다이들 사이에 위치될 수 있다.

서술된 장치는 다음과 같은 모드들 중 1이상에서 사용될 수 있다:

1. 스텝 모드에서, 마스크 테이블(MT) 및 기판 테이블(WT)은 기본적으로 정지상태로 유지되는 한편, 방사선 빔에 부여되는 전체 패턴은 한번에 타겟부(C)상에 투영된다(즉, 단일 정적 노광(single static exposure)). 그런 후, 기판 테이블(WT)은 다른 타겟부(C)가 노광될 수 있도록 X 및/또는 Y 방향으로 시프트된다. 스텝 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 정적 노광시에 이미징되는 타겟부(C)의 크기를 제한한다.

2. 스캔 모드에서, 마스크 테이블(MT) 및 기판 테이블(WT)은, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C)상에 투영되는 동안에 동기적으로 스캐닝된다(즉, 단일 동적 노광(single dynamic exposure)). 마스크 테이블(MT)에 대한 기판 테이블(WT)의 속도 및 방향은 확대(축소) 및 투영 시스템(PS)의 이미지 반전 특성에 의하여 결정된다. 스캔 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 동적 노광시 타겟부의 (스캐닝되지 않는 방향으로의) 폭을 제한하는 반면, 스캐닝 동작의 길이는 타겟부의 (스캐닝 방향으로의) 높이를 결정한다.

3. 또 다른 모드에서, 마스크 테이블(MT)은 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 유지하여 기본적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C)상에 투영되는 동안, 기판 테이블(WT)이 이동되거나 스캐닝된다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스화된 방사선 소스(pulsed radiation source)가 채용되며, 프로그램가능한 패터닝 디바이스는 기판 테이블(WT)이 각각 이동한 후, 또는 스캔중에 계속되는 방사선 펄스 사이사이에 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 상기 언급된 바와 같은 타입의 프로그램가능한 거울 어레이와 같은 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.

또한, 상술된 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 완전히 다른 상이한 사용 모드들을 채용할 수 있다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치의 일부분을 보다 상세히 도시한다. 상기 장치는 1이상의 기판(W)을 유지하도록 구성된 기판 테이블(WT) 을 포함한다. 상기 장치는 기판(W)의 타겟부상으로 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템(PS)을 더욱 포함한다. 또한, 상기 장치는 투영 시스템의 전체 또는 일부분이 장착되는 프레임(MF)(이후, 메트로 프레임이라고도 칭함)을 포함한다. 또한, 상기 장치는 투영 시스템(PS)의 하류 단부(B)와 기판(W) 사이에 유체를 제공하도록 배치된 유체 제공기(FP)를 포함한다. 상기 장치는 프레임(MF) 및 유체 제공기(FP)와 연계된 1이상의 액추에이터(AC)를 더욱 포함한다. 유체 제공기를 전체적으로 또는 부분적으로 위치시킨다는 용어는, 프레임(MF) 및/또는 기판(W)에 대해 유체 제공기를 위치시킨다는 것을 포함한다. 이는, 예를 들어 미세 위치설정 또는 예를 들어 또 다른 액추에이터 또는 심지어는 기판(W)에만 연계된 액추에이터에 의해 수행되는 추가 위치설정에 의해 보완(supplement)되어야 하거나 후속되어야 하는 개략적 위치설정만을 수반할 수 있다.

도 3 내지 도 8을 설명할 때에 더욱 자세히 설명될 부분들(PCS)이 액추에이터들(AC)의 양면상의 프레임(MF)에 장착된다. 도 2의 수직 화살표들(AW)은 유체 제공기(FP)가 위아래로 이동될 수 있다는 것을 나타내며, 투영빔이 포커스되는 위치상에서 또 다른 기판(W)이 이동되도록 기판 테이블(WT)이 이동될 수 있다. 유체 제공기가 이동될 수 있는 방향은 반드시 수직 방향일 필요는 없다. 광학 축선이 수직 방향과 상이한 방향을 가지고 및/또는 웨이퍼가 수평으로 위치되지 않는 경우, 이에 따른 유체 제공기의 이동성은 도면들에 나타낸 방향과 상이할 수 있다. 간명함을 위해서, 도 2에는 유체용 연결부들이 도시되어 있지 않다. 하지만, 당업자라면, 이러한 연결부들이 유체 제공기(FP)에 연결될 것이라는 것을 이해할 수 있을 것이 다. 비록, 2개의 액추에이터들(AC)만이 도시되어 있지만, 유체 제공기(FP)는 1개와 6개 사이의 여하한의 개수의 액추에이터들, 즉 각각의 자유도(degree of freedom)를 위한 일 액추에이터와 연계될 수 있다. 각각의 액추에이터는 유체 제공기(FP)를 부분적으로만 위치시킨다. 메트로 프레임(MF)과 액추에이터들을 연계시킴으로써, 그 다음에는(on its turn) 액추에이터들(AC)과 유체 제공기(FP)를 연계시킴으로써, 유체 제공기(FP)를 위치시키기 위해 양호한 기준이 제공될 수 있다.

도 3은 리소그래피 장치에서 사용되는 본 발명에 따른 액추에이터(AC)의 제 1 실시예를 보다 상세히 도시한 개략도이다. 본 발명에 따른 장치에는, 액추에이터(AC)가 유체 제공기(FP)를 위치시키는 경우에 진동력들을 완충시키는 쿠션 시스템이 제공된다. 이 유체 제공기(FP)는 도 3의 저부에 점선으로 개략적으로 도시되어 있다. 또한, 쿠션 시스템은, 유체의 유동과 같이, 액추에이터(AC)의 활동성(activity)과 관련되지 않은 1이상의 현상(phenomenon)에 의해 초기화된 유체 제공기(FP)의 이동으로 인해 유체 제공기(FP)내에 생성된 진동력들을 완충시키는데 적합할 수 있다. 도시된 실시예에서, 쿠션 시스템 및 액추에이터(AC)는 전체적으로 또는 부분적으로 서로 통합(integrate)되어 있다는 것을 유의해야 한다. 다시 말해, 몇몇 부분들은 전체적으로 위치설정과 관련된 기능을 수행할 수 있으며, 따라서 이들 부분들은 액추에이터의 부분들이다. 본 명세서에서는 코일들이 액추에이터의 부분들로서 도시되어 있다는 것을 알 수 있다. 다른 부분들은 전체적으로 쿠셔닝(cushioning)과 관련된 기능을 수행할 수 있다. 이들 부분들은 쿠셔닝 시스템의 부분들이다. 스프링들 및 매스들(masses)이 부분들의 이 그룹에 속해 있을 수 있 다. 상기 부분들의 또 다른 그룹은 작동(actuating)과 쿠셔닝 둘 모두와 관련된 기능들을 수행한다. 이 상황에서, 쿠션 시스템 및 액추에이터는 전체적으로 부분적으로 서로 통합되어 있다. 매스를 가지며 또한 액추에이터의 코일들과 상호작용하는 자기 물질은, 액추에이터와 쿠셔닝 시스템 둘 모두에 속해 있는 부분들인 것을 알 수 있다. 쿠션 시스템의 몇몇 부분들, 예를 들어 부분들(PCS)은 액추에이터(AC)와 통합되어 있지 않다. 상기 부분들의 기능을 숙지한다면, 도 3 내지 도 8의 부분들이 액추에이터(AC)와 쿠션 시스템(CS) 둘 모두에 속해 있을 것이고, 쿠션 시스템(CS)에만 속해 있을 것이며, 액추에이터(AC)에만 속해 있을 것이라는 것을 전반적으로 명확히 이해하여야 한다. 또한, 쿠션 시스템으로 인해, 액추에이터(AC)는 메트로 프레임(MF)에 주요한 진동력들을 가하지 않고, 고속 및 고주파수로 유체 제공기(FP)를 위치시킬 수 있다는 것도 명확히 이해하여야 한다

일 실시예에서, 액추에이터(AC) 및 쿠션 시스템은 전체적으로 또는 부분적으로 통합되어 있기 때문에, 때때로, 액추에이터/쿠션 시스템(AC/CS)라고도 칭해진다. 액추에이터/쿠션 시스템(AC/CS)에는 메트로 프레임(MF)에 연결된 제 1 매스(M1)가 제공된다. 제 1 매스(M1)는 전자석용으로 적합한 물질(MP1)을 포함한다. 매스(M1)의 일부분, 즉 부분(MP1)은 고리형 후퇴부(annular recess)(AR1)에 의해 둘러싸여져 있다. 상기 고리형 후퇴부(AR1)내에 코일(C1)이 부분적으로 삽입되어 있다. 상기 코일(C1)을 통해 전류를 유도함으로써, 전류의 방향에 의존하는 코일(C1)은 이 예시에서 (화살표(AW)로 나타낸) 도면의 수직 방향으로 위 또는 아래로 이동될 수 있음에 따라, 당업계에 공지되어 있는 방식으로 전자석으로서 기능한다. 코 일(C1)은 매스(M2)에 연결된다. 도면번호(MP2)로 나타낸 매스(M2)의 전체 또는 일부분은 전자석용으로 적합한 물질을 포함한다. 또한, 매스(M2)내의 이들 부분들은 코일(C2)이 삽입되어 있는 고리형 후퇴부(AR2)에 의해 둘러싸여져 있다. 코일(C2)은 바아(bar)(BR)를 통해 유체 제공기(FP)에도 연결된다. 유체 제공기(FP) 그 자체는 도 3에만 개략적으로 도시되어 있으며 도 4 내지 도 8에서는 생략된다. 코일(C2)을 통해 전류를 유도함으로써, 상기 코일은 전자석과 마찬가지로 전류의 방향에 따라 고리형 후퇴부(AR2)내에서 위 또는 아래로 이동할 수 있다. 쿠션 시스템은 프레임(MF)에 대해 또한 유체 제공기(FP)에 대해 이동할 수 있는 1이상의 매스(M2)를 포함한다. 따라서, 유체 제공기(FP)로부터 본성적으로 자동력 없는(intrinsically inert) 매스(M2)로 가해진 진동력들은 자동력 없는 매스(M2)로부터 프레임(MF)으로 항상 가해지는 것은 아니다. 사용시, 매스(M2)는 이들 진동력들을 완충시키거나 감쇠(dampen)시킬 것이다. 간명함을 위해서, 코일(C1 및 C2)에 이어진 전기 와이어들은 도시되어 있지 않다.

도 3에 도시된 실시예에서, 매스(M2)는 자기력들에 의해 메트로 프레임(MF)과 연계되며, 이들 자기력들은 다음과 같이 생성될 수 있다. 사전결정된 위치에서 자석들(MGF)을 유지하는 부분들(PCS)은 메트로 프레임(MF)에 견고하게(solidly) 연결된다. 또한, 매스(M2)에는 자석들(MG2)이 사전결정된 위치에 제공된다. N 및 S로 나타낸 자석들(MGF 및 MG2)의 극성들은 상기 자석들이 서로 끌어당기도록 되어 있음을 유의한다. 액추에이터가 유체 제공기(FP)를 유지하는 경우에, 적어도 기판에 대해 매스(M2)가 유지될 위치는, 각각의 자석(MGF)이 자석들(MG2) 중 하나에 근접 해 있는 위치에 대응한다. 도시된 바와 같이, 이들 자석들 모두는 영구 자석들일 수 있다. 하지만, 전자석들을 이용할 수도 있다.

도 3에 도시된 실시예에서, 매스(M2)는 자기력들에 의해 유체 제공기(FP)와도 연계되어 있다. 유체 제공기(FP)에는 매스(M2)내에 제공된 채널(C)을 통해 연장되는 바아(BR)가 제공된다. 상기 바아(BR)는 일 단부에서 매스(M2)를 향해 지향되어 있으며, 1이상의 자석(MG3)이 제공된다. 또한, 매스(M2)에는 바아(BR)의 단부에 제공된 자석(MG3)과 상호작용할 수 있는 자석이 제공될 수도 있다. 도 3에 도시된 실시예에서, 바아의 단부에는 2개의 별도의 자석들이 제공된다. 이들 자석들(MG3)의 각각은 매스(M2)내에 제공된 자석(MG2)과 상호작용한다. 또한, 자석들(MG2)은 부분들(PCS)내의 자석들(MGF)과 상호작용할 수 있다. 하지만, 매스(M2)는 부분들(PCS)내에 제공된 자석들과의, 또한 바아(BR)내에 제공된 자석들과의 상호작용을 위해 자석들의 상이한 세트들을 가질 수도 있다. 자석들의 극성은, 코일(C2)을 통해 전류가 흐르지 않는 경우, 기판으로부터의 사전결정된 거리에서 유체 제공기(FP)가 유지되도록 구성되어 있다. 이는, 코일(C1)을 통해 전류가 흐르지 않는 경우, 부분들(PCS)에 대한 매스(M2)의 위치설정에도 동일하게 적용될 수 있다. 즉, 코일들(C1 및 C2)에 전력이 공급되지 않는 경우에, 액추에이터(AC)는 유체 제공기(FP)가 기판(W) 또는 기판 테이블(WT)과 접촉하지 않게 되도록 배치된다. 예측되지 않은 단전(unforeseen power-cut) 시, 유체 제공기(FP)는 기판(W) 또는 기판 테이블(WT)과 접촉할 수 없는 위치에 이동되거나 유지된다. 이는, 작동시, 즉 액추에이터가 기판(W)과 근접하여 유체 제공기(FP)를 전체적으로 또는 부분적으로 위치시키 도록 의도된 때에, 자석들(MG2, MG3, MGF)에 의해 유지된 위치로부터 멀리 이동시키기 위해 유체 제공기(FP)가 강제(force)되어야 하도록, 코일(C2)을 통해 흐르는 전류가 구성되어 있어야 한다는 것을 의미한다.

도 3에 도시된 실시예에서 생길 수 있듯이, 자기력들의 이용은 상이한 부분들간에 기계적 접촉이 생기지 않는다는 장점을 가질 수 있다. 따라서, 진동력들이 기계적으로 전달되지 않아야 한다. 작동을 위해 전자석을 이용하면, 비교적 쉽게 작동이 행해질 수 있다.

도 3에 도시된 바와 같은, 작동/쿠션 시스템은 다음과 같이 작동한다. 기판이 기판 테이블상에 배치되는 경우, 유체 제공기(FP)는 소정 공간을 생성하기 위해 위로 이동된다. 기판의 교체 후, 유체 제공기(FP)는 기판을 향해 이동할 수 있다. 유체 제공기(FP)가 기판을 향해 이동하도록 되어 있는 경우, 부분(3), 즉 유체 제어기(FP)가 바아(BR)상에 도시된 화살표들(AW)의 방향으로 기판을 향해 이동하도록, 코일(C2)내에 전류가 흐르고 있을 것이다. 생성된 전자기력은 매스(M2)에 속해 있는 자석들(MG2)과 부분(3)에 속해 있는 자석들(MG3)간의 자기력들을 부분적으로 극복하여야 할 것이다. 유체 제공기(FP)가 기판으로부터 멀리 이동하도록 되어 있는 경우, 부분(3)은 바아(BR)상에 도시된 화살표의 방향으로 위쪽을 향해 이동할 것이다. 이는, 바아(BR)의 가속이 제어되지 않을 수 있는 코일(C2)내에 흐르는 전류를 정지시키거나, 코일(C2)내에 흐르는 전류를 서서히 감소시킴으로써 행해질 수 있으므로, 다시(back) 위쪽을 향해 매우 제어된 이동을 유도할 수 있게 된다. 후자는 액추에이터 및/또는 쿠션 시스템내에 훨씬 더 적은 진동력들을 유도하여야 한 다. 하지만, 유체 제공기(FP)가 기판(W)/기판 테이블(WT)로부터 멀리 있는 방향으로 또는 기판(W)/기판 테이블(WT)을 향하는 방향으로 작동되는 경우, 여전히 진동력들을 도입할 수 있는 고주파수 및 고속이 요구될 수 있다. 진동력들이 생성되는 경우, 고주파수 진동들이 메트로 프레임(MF)으로 전달되지 않아야 하는데, 그 이유는 유체 제공기(FP)와 매스(M1) 및/또는 메트로 프레임(MF)과 연계되어 있는 매스(M2)를 포함하는 쿠셔닝 시스템이 이들 진동들을 "흡수"하여야 하기 때문이다. 저주파수 진동들이 메트로 프레임에 전달될 수 있다; 하지만, 이들은 실재의 문제(real problem)가 아니라고 밝혀졌다.

도 3에서 도시된 실시예에서, 가능한한 거의 열을 발생시키지 않음에 따라, 매스(M1)가 메트로 프레임(MF)에 연결되어 있는 위치들에서의 메트로 프레임(MF)의 국부적인 가열을 회피하기 위해서, 전류의 두 방향들을 고려한 평균 전류가 절대 값들내에서 가능한한 낮게 유지되도록 자석들(MG2 및 MGF)을 위치시킬 수 있다.

매스(M2)가 이동하고 마찰을 감소시키는 경우, 상기 매스(M2)를 안내하는 어퍼처들(AB)로 나타낸 바와 같이 부분들(PCS)내에 공기 베어링들을 제공할 수 있다. 또한, 공기 베어링들은 쿠션 시스템의 일부분을 형성할 수 있다.

따라서, 공기 베어링은 소정의 또 다른 댐퍼(damper)가 제공되도록 적용될 수 있다.

유체 제공기(FP)가 그 하부 단부에 부착된 바아(BR)는 부분(M2)으로부터 멀리 이동할 수 있는 크기(extent)로 제한된다는 것을 유의한다. 바아(BR)는 매스(M2)의 캐비티(cavity)(CA) 안으로 연장되며, 또한 상기 캐비티내에서 연장된 그 단부에서, 채널(C)을 통과할 수 없게 하는 형상을 가진다. 이는, 자석들(MG3, MG2)이 단전 시 고장을 일으키기 쉬운 영구 자석이 아니라 전자기 자석인 경우에 더 높은 안정성을 제공할 수 있다.

이전에 나타낸 바와 같이, 도 3의 실시예에 도시된 쿠션 시스템은, 액추에이터가 유체 제공기(FP)를 위치시키지 않는 경우, 하지만, 유체의 유동과 같이, 액추에이터(AC)의 활동성과 관련되지 않은 1이상의 현상에 의해 초기화된 유체 제공기의 이동으로 인해 어떠한 방식으로든 진동력들이 생성되는 경우에, 메트로 프레임(MF)에 대해 진동력들을 고립(isolating)시킬 수도 있다.

도 4는 프레임(MF)에 대해 또한 유체 제공기(FP)에 대해 모두 이동될 수 있는 2개의 매스들, 즉 매스(M2) 및 매스(M3)를 가진다는 점 이외에는 도 3과 유사한 실시예를 도시한다. 또한, 이들 매스들(M2, M3)은 서로에 대해서도 이동될 수 있다. 이 쿠션 시스템은, 각각의 매스가 진동 주파수들의 어느 정도를 흡수할 수 있어야 한다는 점으로 인해, 진동력들을 훨씬 더 효율적으로 흡수할 수 있어야 한다. 이는, 메트로 프레임의 안정성을 손상(compromise)시키지 않고 유체 제공기의 위치설정을 개선시킬 수 있으며, 나아가 기판(W)내에 생성된 피처들의 치수의 양호하고 재현가능한(reproducible) 품질을 유도함에 따라 양호한 오버레이를 유도할 수 있다.

도 5는 도 3의 실시예에서의 자석들(MGF, MG2 및 MG3)이 탄력성 요소들, 예컨대 스프링들(SP)로 대체된 일 실시예를 도시한다. 이들 스프링들(SP)은 쿠션 시스템/액추에이터의 상이한 부분들간의 약간의 "크로스-토크(cross-talk)"를 허용하 지만, 스프링들의 이용의 장점은, 모든 부분들이 연결되며 또한 이에 따라, 예를 들어 단전으로 인한 자기력들의 갑작스런 제거가 어떠한 부분들도 아래로 떨어지지 않게 해야 한다는 점에서 장점을 가진다.

도 6은 모든 자석들(MGF, MG2, MG3)이 스프링들로 교체된다는 점을 제외하고는 도 4에 도시된 실시예와 유사하다. 도 5에서 설명된 내용들이 도 6에 동일하게 적용된다.

일 실시예에서의 모든 자석들(MGF, MG2, MG3)이 반드시 스프링들(SP)로 대체되지는 않은 도 7 및 도 8을 도시한다. 또한, 자석들(MG3)만을 스프링들(SP)로 교체할 수도 있다.

도 3에 대해 주어진 설명은, 일반적으로 도 4 내지 도 8에도 적용된다.

당업자라면, 통상적인 실험들(routine experiments)로, 어떻게 자석의 강도, 매스들의 치수 등등이 최적의 결과들을 유도할 것인지를 알 수 있을 것이다.

비록, 상기의 서술내용에서는 작동을, 예를 들어 자기력에 의해 초기화된 것으로 언급하고 있지만, 이는, 본 발명의 범위내에서, 대안적으로 또는 추가적으로, 유체력(fluid force)을 인가함으로써 작동이 행해질 수도 있다는 것을 이해하여야 한다.

미국 공보 특허 출원 제 2003/0197914 A1에는, 광학 요소를 위치시키고 또한 광학 요소내의 원치않는 진동들을 감소시키도록 배치된 액추에이터가 개시되어 있다. 이러한 광학 요소들은, 일반적으로 액추에이터에 의해 초기화된 힘들과 관련되지 않은 힘들에는 노출되지 않는다. 더욱이, 광학 요소를 위치시키도록 배치된 액 추에이터는 상기 광학 요소를 그 위치에 유지시키도록 배치된 액추에이터이다. 이와 대조적으로, 본 발명에 따른 액추에이터는, 기판 테이블의 이동들과 관련된 위치로 또는 그 위치로부터 유체 제공기를 이동시키도록 배치된 액추에이터이다. 따라서, US 2003/0197914 A1에 개시된 액추에이터 자체 및 리소그래피 장치에서의 그 적용은, 본 발명에 따라 서술된 액추에이터 및 리소그래피 장치와 상이하다.

화살표들(AW)로 나타낸 방향에 대해 원통형 대칭이 달성되도록 작동/쿠션 시스템을 설계할 수 있으나, 당업자는 또 다른 지오메트리를 적용할 수 있다.

본 명세서에서는, IC의 제조에 있어서 리소그래피 장치의 특정 사용예에 대하여 언급되지만, 본 명세서에서 서술된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리용 유도 및 검출패턴, 평판 디스플레이(flat-panel display), 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드의 제조와 같이 여타의 응용예들을 가질 수도 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용예와 관련하여, 본 명세서에서 사용된 "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 어떠한 용어의 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟부"와 같은 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수도 있음을 이해할 수 있을 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은, 노광 전후에, 예를 들어 트랙(전형적으로, 기판에 레지스트층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 툴), 또는 메트롤로지 또는 검사툴에서 처리될 수 있다. 적용가능하다면, 이러한 기판 처리툴과 여타의 기판 처리툴에 본 명세서의 기재내용이 적용될 수 있다. 또한, 예를 들어 다층 IC를 생성하기 위하여 기판이 한번 이상 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러번 처리된 층들을 포함한 기판을 칭할 수도 있다.

이상, 광학 리소그래피에 관련하여 본 발명의 실시예들의 특정 사용예를 언급하였지만, 본 발명은 다른 응용예들, 예컨대 임프린트 리소그래피에도 사용될 수 있으며, 본 명세서가 허용한다면, 광학 리소그래피로 제한되지 않음을 이해할 수 있을 것이다. 임프린트 리소그래피에서, 패터닝 디바이스내의 토포그래피(topography)는 기판상에 생성되는 패턴을 정의한다. 패터닝 디바이스의 토포그래피는 기판에 공급된 레지스트 층 안으로 가압될 수 있으며, 전자기 방사선, 가열, 압력 또는 그 조합을 인가함으로써 레지스트가 경화(cure)된다. 패터닝 디바이스는 레지스트가 경화된 후에 그 안에 패턴을 남기는 레지스트로부터 이동된다.

본 명세서에서 사용되는 "방사선" 및 "빔"이란 용어는 (예를 들어, 파장이 365, 248, 193, 157 또는 126㎚인) 자외(UV)방사선 및 (예를 들어, 파장이 5 내지 20nm의 범위인) 극자외(EUV)방사선 뿐만 아니라, 이온 빔 또는 전자 빔과 같은 입자 빔도 포함하는 모든 형태의 전자기 방사선을 포괄한다.

본 명세서가 허용하는 "렌즈"라는 용어는, 굴절, 반사, 자기, 전자기 및 정전기 광학 구성요소들을 포함하는 다양한 타입의 광학 구성요소들 중 어느 하나 또는 그 조합을 나타낼 수 있다.

이상, 특정 실시예들이 서술되었지만, 본 발명은 서술된 것과 다르게 실시될 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 예를 들어, 본 발명은 상기에 개시된 바와 같은 방법을 설명하는 기계-판독가능한 명령어들의 1이상의 시퀀스들을 포함하는 컴퓨터 프로그램, 또는 이러한 컴퓨터 프로그램이 저장되는 데이터 저장 매체( 예컨대, 반도체 메모리, 자기 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수도 있다.

상기 서술내용은 예시를 위한 것이지, 제한하려는 것이 아니다. 따라서, 당업자라면, 하기에 설명되는 청구항들의 범위를 벗어나지 않고 서술된 본 발명에 대한 변형예가 행해질 수도 있음을 이해할 수 있을 것이다.

본 발명에 따르면, NA 수(NA number)에 대한 조건과 양호한 퍼징 조건들을 충족하면서 기판의 교체가 가능한 리소그래피 장치, 및 액추에이터가 제공된다.

Claims

리소그래피 투영 장치에 있어서,

기판을 지지하도록 구성된 기판 지지체;

상기 기판의 타겟부상으로 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템;

상기 투영 시스템의 전체 또는 일부분이 장착되는 프레임;

상기 투영 시스템의 하류 단부(downstream end)와 상기 기판 사이에 유체를 제공하도록 배치된 유체 제공기:

상기 프레임 및 상기 유체 제공기와 연계되고 상기 유체 제공기를 위치시키도록 배치된 액추에이터; 및

상기 액추에이터가 상기 유체 제공기를 위치시키는 경우에 진동력들(vibrational forces)을 완충시키는 쿠션 시스템(cushion system)을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 쿠션 시스템은 상기 프레임으로부터 상기 진동력들을 실질적으로 고립시키는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 쿠션 시스템은, 상기 액추에이터의 활동성(activity)과 관련되지 않은 1이상의 현상(phenomenon)에 의해 초기화된 상기 유체 제공기의 이동으로 인해 상기 유체 제공기내에 생성된 다른 진동력들을 상기 프레임으로부터 실질적으로 고립시키는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 3 항에 있어서,

상기 현상은 상기 유체의 유동을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 유체는 퍼징 가스인 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 유체는 액체인 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 쿠션 시스템은 상기 프레임에 대해 또한 상기 유체 제공기에 대해 이동될 수 있는 매스(mass)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 7 항에 있어서,

상기 매스는 자기력들에 의해 상기 유체 제공기 및/또는 상기 프레임과 연계되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 8 항에 있어서,

상기 자기력들은 1이상의 영구 자석을 이용하여 생성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 8 항에 있어서,

상기 자기력들은 1이상의 전자석들을 이용하여 생성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 10 항에 있어서,

상기 액추에이터는 전자기력을 증가 또는 감소시킴으로써 작동하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 11 항에 있어서,

상기 장치에는, 단전시, 상기 액추에이터에 대해 상기 유체 제공기가 상기 기판으로부터 멀리 이동되도록 위치된 탄력성 요소(resilient element) 및/또는 영구 자석이 제공되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 7 항에 있어서,

상기 매스는 탄력성 요소에 의해 상기 유체 제공기 및/또는 상기 프레임과 맞물리는(engage) 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
제 7 항에 있어서,

상기 쿠션 시스템에는 상기 매스의 이동을 안내하는 공기 베어링들이 제공되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영 장치.
리소그래피 장치에서 사용되는 액추에이터에 있어서,

상기 액추에이터는, 프레임 및 디바이스와 연계되도록 배치되고 상기 디바이스를 위치시키도록 더욱 배치되며, 상기 액추에이터에는 상기 액추에이터가 상기 디바이스를 위치시키는 경우에 진동력들을 완충시키는 1이상의 쿠션 시스템이 제공되는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 15 항에 있어서,

상기 쿠션 시스템은 실질적으로 상기 프레임으로부터 상기 진동력들을 고립시키는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 15 항에 있어서,

상기 쿠션 시스템은, 상기 액추에이터의 활동성과 관련되지 않은 1이상의 현상에 의해 초기화된 상기 디바이스의 이동으로 인해 상기 디바이스내에 생성된 다른 진동력들을 상기 프레임으로부터 실질적으로 고립시키는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 17 항에 있어서,

상기 디바이스는 유체 제공기이며, 상기 현상은 상기 유체 제공기내의 유체의 유동을 포함하는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 18 항에 있어서,

상기 유체는 퍼징 가스인 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 18 항에 있어서,

상기 유체는 액체인 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 15 항에 있어서,

상기 쿠션 시스템은, 상기 액추에이터가 상기 프레임 및 상기 디바이스와 연계되는 경우, 상기 프레임에 대해 또한 상기 디바이스에 대해 이동될 수 있는 매스를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 21 항에 있어서,

상기 매스는 자기력들에 의해 상기 디바이스 및/또는 상기 프레임과 연계되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 22 항에 있어서,

상기 자기력들은 1이상의 영구 자석을 이용하여 생성되는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 22 항에 있어서,

상기 자기력들은 1이상의 전자석을 이용하여 생성되는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 21 항에 있어서,

상기 매스는 탄력성 요소에 의해 상기 디바이스 및/또는 상기 프레임과 연계되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 15 항에 있어서,

상기 액추에이터는 전자기력들을 증가 또는 감소시킴으로써 작동하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 26 항에 있어서,

상기 액추에이터에는, 단전시, 상기 액추에이터에 대해 상기 디바이스가 사전결정된 방향으로 멀리 이동되도록 위치된 탄력성 요소 및/또는 영구 자석이 제공되는 것을 특징으로 하는 액추에이터.
제 15 항에 있어서,

상기 쿠션 시스템에는 상기 매스의 이동을 안내하는 공기 베어링이 제공되는 것을 특징으로 하는 액추에이터.