JP5017071B2 - 排ガス処理装置 - Google Patents
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- 239000003595 mist Substances 0.000 claims description 57
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 36
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 35
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 184
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 67
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 31
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 19
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 14
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 perfluoro compound Chemical class 0.000 description 4
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 4
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 4
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 2
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 2
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010669 acid-base reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009841 combustion method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012717 electrostatic precipitator Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
ΔG=−149.6kJ/mol(300K) (1)
CaCO3+SO3→CaSO4+CO2
ΔG=−216.3kJ/mol(300K) (2)
ギブスエネルギーΔGは、値が負の方に大きいほど反応が進行し易いことを示している。上記の各式を比較すると、炭酸カルシウムとSO3の反応の方が炭酸カルシウムとSiF4の反応よりもギブスエネルギーが小さく、反応がし易いことが判る。したがって、SiF4とSO3が同時に炭酸カルシウムと接触すると、SO3の方が優先的に反応すると推測される。
C2F6+3H2O→CO+CO2+6HF (4)
C4F8+4H2O→4CO+8HF (5)
CHF3+H2O→CO+3HF (6)
SF6+3H2O→SO3+6HF (7)
2NF3+3H2O→NO+NO2+6HF (8)
式(4),(5),(6)の反応ではCOが生成するが、反応助剤として空気を供給することでCO2となる。
上記実施例1,2の構成は、SO3とSiF4とが結合してケイ素の流出が生じるという本願発明者らの知見に基づく。本試験例では湿式除去装置であるスプレー塔にSO3とSiF4を流通させ、スプレー塔でのSiF4除去性能を評価した結果を説明する。
試験例2では試験例1との比較として、スプレー塔におけるSiF4除去工程でSO3が共存しない場合の結果を示す。試験装置図、及び試験条件は試験例1と同様とする。スプレー塔におけるSiF4除去反応においてSO3を供給しなかった場合は、スプレー塔出口におけるSiF4濃度は0ppmであり、完全に除去できることが分かった。
試験例3では試験例1との比較として、スプレー塔におけるSiF4除去工程で、SO3ではなく、同じSOxガスであるSO2を共存させた場合の結果を示す。SO3はミスト形成ガスであるが、SO2は水と接触してもミストを形成しない。ミスト共存の有無によるSiF4除去性能を比較した。試験装置図、及び試験条件は試験例1と同様とする。結果、SO2とSiF4を同時にスプレー塔に供給しても、出口排ガス中のSiF4濃度は0ppmであり、同じSOxガスでもミスト未形成ガスであるSO2はSiF4除去性能に影響を与えないことが分かった。
本試験例4ではSiF4,SO3共存ガスをアルカリ薬剤に通気させ、いずれか、又は両ガスがアルカリ薬剤によって除去できるかどうかを評価した結果である。試験方法としては、固定層式反応管に薬剤を充填し、SiF4,SO3ガスを薬剤層に通気し、出口ガス中のSiF4ガス濃度を測定した。供給ガス組成は、N210L/min,SiF41000ppm,SO3100ppmとした。試験はまず、SiF4のみを薬剤に供給し、その後SO3も供給して、SiF4のみの場合と、SiF4+SO3の場合での除去性能の違いを評価した。アルカリ薬剤としてはCa(OH)2を用いた。
本試験例ではCa化合物による乾式除去とスプレー塔による湿式除去を組み合わせた系で、SiF4,SO3共存状態におけるSiF4除去性能を評価した結果である。試験装置の構成を図6に示す。装置の概要、及び試験条件は試験例1と同様で、スプレー塔前段に固定層式乾式除去装置5を設置した。乾式除去装置5に充填する薬剤としてはCa(OH)2,CaCO3,CaOを選定した。各薬剤はいずれも2〜4mmの粒径に整粒したものを使用した。
本試験例は試験例5との比較として、湿式除去装置であるスプレー塔の後段に乾式除去装置を備えて、SiF4,SO3共存状態におけるSiF4除去性能を評価した結果である。試験装置の構成を図8に示す。装置の概要、及び試験条件は試験例1と同様で、スプレー塔後段に固定層式乾式除去装置5を設置した。乾式除去装置5に充填する薬剤としては試験例5で効果のあったCa(OH)2を選定した。
本試験例では、湿式除去装置であるスプレー塔の上部にミスト除去装置として電気集塵式ミスト除去装置6を設置してスプレー塔内で生成したSiF4付着SO3ミストの除去効果を評価した結果である。試験装置図を図10に示す。装置の概要、及び試験条件は試験例1と同様である。電気集塵式ミスト除去装置6の後段で気体用FT−IRによりガス中のSiF4濃度を測定した結果、SiF4濃度は1ppm以下となり、SiF4除去率99.9%が得られることを確認した。
湿式除去装置内にSO3とSiF4が流入し、SiF4がSO3ミストに付着した場合、SO3ミストに熱等のエネルギーを加えることにより、容易にSiF4はSO3ミストから脱着すると考えられる。SiF4はSO3ミスト中のH2Oに結合力の弱い水素結合で付着しているためである。本試験例では図4に示すスプレー式湿式除去装置でノズルから供給する水の温度を90℃に設定して、SiF4の除去性能を評価した。結果、ノズルからの供給水温度が常温(20℃)の場合に比べてSiF4除去性能は60%となり、温水噴霧の効果が確認された。
本試験例では、触媒反応槽前段において前処理工程で除去できなかったSiF4を除去するためにケイ素化合物捕捉材を設置した例である。SiF4をPFC分解触媒を充填した反応管に流入させ、ケイ素化合物捕捉剤をPFC分解触媒の上部に設置し、共存ガス中のPFCの分解率を測定した。試験装置の構成を図12に示す。
5時間連続通気した後のCF4分解率は90.75%であった。また、試験後の珪素化合物捕捉材に含有するSi量を分析したところ、捕捉材に流入Si量の約70%が付着しており、Si捕捉材の設置効果が確認された。
2,111 スプレーノズル
3 デミスタ
4 気体用FT−IR
100 乾式除去装置
110 湿式除去装置
121,321 電気炉
123 PFC分解触媒
140 酸性ガス除去装置
150 排気設備
240 バグフィルター式酸性ガス除去装置
320 フィルター式ミスト除去装置
Claims (12)
- 少なくともSiF 4 とSO 3 とフッ素化合物とを含有する排ガスを処理する排ガス処理装置であって、
被処理ガス中のSO 3 とSiF 4 の少なくともいずれかを分離するガス分離手段と、前記ガス分離手段を通過した被処理ガスに含まれる酸性ガスまたはケイ素化合物の少なくともいずれかを除去する湿式除去装置と、湿式除去装置を通過した被処理ガスに含まれるフッ素化合物を分解する触媒を備えたフッ素化合物分解装置とを有することを特徴とする排ガス処理装置。 - 請求項1に記載された排ガス処理装置であって、前記ガス分離手段は、酸性ガスの除去材を備えた乾式除去装置であることを特徴とする排ガス処理装置。
- 請求項2記載の排ガス処理装置であって、
前記乾式除去装置は、アルカリ金属,アルカリ土類金属を含有する化合物,活性炭,ゼオライト,メソポーラスシリカのいずれかを有することを特徴とする排ガス処理装置。 - 請求項1に記載された排ガス処理装置であって、前記ガス分離手段で分離されたガスを湿式除去装置の後段で前記被処理ガスに混入させることを特徴とする排ガス処理装置。
- 請求項1ないし4のいずれかに記載された排ガス処理装置であって、
前記フッ素化合物分解装置を通過した被処理ガスを冷却する冷却装置と、前記冷却された被処理ガスより、被処理ガス中の酸性ガスを除去する酸性ガス除去装置を有することを特徴とする排ガス処理装置。 - 請求項5に記載された排ガス処理装置であって、前記ガス分離手段で分離されたガスは、前記湿式除去装置の後段で前記フッ素化合物分解装置の前段、または、前記フッ素化合物分解装置の後段で前記酸性ガス除去装置の前段で前記被処理ガスに混入させることを特徴とする排ガス処理装置。
- 請求項1ないし6のいずれかに記載された排ガス処理装置であって、
前記フッ素化合物分解装置の前段には、ケイ素化合物捕捉材を設けたことを特徴とする排ガス処理装置。 - フッ素化合物を含有する排ガスを処理する排ガス処理装置であって、
SiF 4 とSO 3 を含む被処理ガスに含まれる酸性ガスまたはケイ素化合物の少なくともいずれかを除去する湿式除去装置と、前記湿式除去装置を通過した被処理ガスに含まれるSO 3 ミストを除去するミスト除去装置と、前記ミスト除去装置を通過した被処理ガスに含まれるフッ素化合物を分解する触媒を備えたフッ素化合物分解装置とを有し、前記湿式除去装置はSiF4とSO3との結合を解離させる手段を備えたことを特徴とする排ガス処理装置。 - 請求項8に記載された排ガス処理装置であって、前記解離させる手段は温水を供給する手段であることを特徴とする排ガス処理装置。
- 少なくともSiF4とSO3とフッ素化合物とを含有する排ガスの処理方法であって、SiF4とSO3とのいずれかを被処理ガスより分離するガス分離工程と、前記ガスが分離された被処理ガスと水とを接触させる湿式除去工程と、被処理ガスに含まれるフッ素化合物を触媒により分解するフッ素化合物分解工程とを有することを特徴とする排ガスの処理方法。
- 請求項10に記載された排ガスの処理方法であって、前記湿式除去工程の後に、前記分離されたSiF4とSO3とのいずれかのガスを被処理ガスに混合する工程を有することを特徴とする排ガスの処理方法。
- 請求項10または11に記載された排ガスの処理方法であって、
前記フッ素化合物分解工程の後段に、被処理ガスを冷却する冷却工程と、被処理ガス中の酸性ガスを除去する酸性ガス除去工程とを有することを特徴とする排ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007317829A JP5017071B2 (ja) | 2007-12-10 | 2007-12-10 | 排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007317829A JP5017071B2 (ja) | 2007-12-10 | 2007-12-10 | 排ガス処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009136815A JP2009136815A (ja) | 2009-06-25 |
JP5017071B2 true JP5017071B2 (ja) | 2012-09-05 |
Family
ID=40868025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007317829A Active JP5017071B2 (ja) | 2007-12-10 | 2007-12-10 | 排ガス処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5017071B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101420508B1 (ko) * | 2012-10-12 | 2014-08-13 | 안성준 | 이온화 습식 전기집진장치 |
CN105233629B (zh) * | 2015-09-29 | 2018-03-02 | 厦门钨业股份有限公司 | 一种气体吸收装置及工艺 |
KR101825825B1 (ko) * | 2016-08-02 | 2018-02-06 | 주식회사 에코프로 | 질소산화물, 염화불화탄소류, 수소염화불화탄소류, 수소불화탄소류 및 과불화화합물을 포함하는 복합 폐가스의 통합 처리 시스템 |
CN108389788B (zh) * | 2018-04-25 | 2023-08-25 | 长鑫存储技术有限公司 | 扩散炉管设备及处理废气的方法 |
CN109663565A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-04-23 | 石河子大学 | 高效除氟剂及其制备方法和应用 |
KR102319294B1 (ko) * | 2020-09-02 | 2021-10-29 | (주)엔노피아 | 반도체 제조공정에서 사용되는 특수 가스 재생을 위한 전처리 장치 및 그 전처리 방법 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4675148B2 (ja) * | 2005-05-12 | 2011-04-20 | 昭和電工株式会社 | フッ素化合物含有ガスの処理方法及び処理装置 |
-
2007
- 2007-12-10 JP JP2007317829A patent/JP5017071B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009136815A (ja) | 2009-06-25 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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