JP4982306B2 - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 187
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 166
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 173
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 52
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 48
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 14
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 14
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 25
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 19
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
<1.1. 塗布装置の構成>
図1は、本発明に係る塗布装置1の斜視図である。
図5は、塗布装置1の動作手順を示す流れ図である。
図6は、塗布装置1のメンテナンスモードにおける動作手順を示す流れ図である。また、図7および図8は、塗布装置1のメンテナンスモードにおける動作を説明するための側面図である。
図9は、塗布装置1の基板塗布モードにおける動作手順を示す流れ図である。図10ないし図13は、塗布装置1の基板塗布モードにおける動作を説明するための側面図である。なお、塗布装置1の基板塗布モードの動作は、ノズル32が図7に示す待機位置に配置された状態で開始される。
本実施の形態のように、塗布装置1を構成することにより、以下のような様々な効果を得ることができる。
第1の実施の形態では、プリディスペンスローラ33の形状を円筒状の形状と説明したが、もちろんこれに限られるものではない。図14は、第2の実施の形態に係る塗布装置1が備えるプリディスペンスローラ33aの斜視図である。プリディスペンスローラ33aは、形状が帯状かつ環状のベルト部333aと、ベルト部333aの内部に3つの形状が円筒状のローラ334aを備えている。また、ローラ334aは、それぞれ軸芯3341aを備えており、図示しないローラ駆動部と接続されている。軸芯3341aを中心にローラ334aが回転することにより、その回りに巻き付けられたベルト部333aが回転することができる。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
2 搬送部
20,20a 搬送ローラ
22 搬送ローラ駆動部
23,23a,23b 振動抑制部
231 溝部
232 排気口
233 表面部
234a 支持ローラ
235b 気体噴射部
3 塗布部
32 ノズル
321 レジスト供給部
322 ノズル昇降機構
323 吐出口
33,33a プリディスペンスローラ
331 軸芯
332 ローラ駆動部
34 洗浄容器
35 液切りブレード
8 制御部
90 基板
RG レジスト
Claims (8)
- 基板の表面に塗布膜を形成する塗布装置であって、
スリット状の吐出口を有するノズルと、
前記ノズルに塗布液を供給することによって前記吐出口から塗布液を吐出させる液供給手段と、
前記吐出口の長手方向に直交する方向に基板を水平搬送する搬送手段と、
軸芯が前記吐出口の長手方向と略平行になるように前記ノズルの下方に配置される回転体と、
前記軸芯を中心として前記回転体を回転させる駆動手段と、
前記塗布装置の動作モードを、前記吐出口から吐出される塗布液が前記回転体に塗布されるメンテナンスモード、または前記回転体に支持されつつ前記搬送手段によって搬送される基板に塗布液が塗布される基板塗布モードに設定する設定手段と、
前記回転体から塗布液を除去する除去手段と、
を備えることを特徴とする塗布装置。 - 請求項1に記載の塗布装置であって、
前記搬送手段により搬送される前記基板に生じる振動を抑制する振動抑制手段をさらに備えることを特徴とする塗布装置。 - 請求項2に記載の塗布装置であって、
前記振動抑制手段は、
基板の非支持領域に対して、下方から気体を噴射するとともに、前記の下方空間の雰囲気を排気することを特徴とする塗布装置。 - 請求項2または3に記載の塗布装置であって、
前記振動抑制手段は、
前記回転体に対して、前記搬送手段により前記基板が搬送される方向の上流側および下流側に配置されることを特徴とする塗布装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記回転体の形状が円筒状であることを特徴とする塗布装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記回転体の形状が帯状かつ環状であり、前記回転体の表面のうち前記基板を支持する領域は、水平な平面を有することを特徴とする塗布装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記ノズルを、前記基板塗布モードにおける塗布位置と前記メンテナンスモードおけるメンテナンス位置との間で上下に進退させるノズル昇降手段をさらに備えることを特徴とする塗布装置。 - ノズルに設けられたスリット状の吐出口から塗布液を吐出して基板の表面に塗布膜を形成する塗布方法であって、
軸芯が前記吐出口の長手方向と略平行となるように前記吐出口の下方に配置される回転体を、前記軸芯を中心に回転させる回転工程と、
前記回転工程により回転する前記回転体に向けて前記吐出口から塗布液を吐出して前記吐出口の状態を初期化するメンテナンス工程と、
前記回転体の表面に付着する前記塗布液を除去する除去工程と、
前記回転体に支持された基板を搬送しつつ、前記基板に向けて前記吐出口から塗布液を吐出して前記基板に塗布液を塗布する塗布工程と、
前記メンテナンス工程または前記塗布工程の実行を設定する設定工程と、
を有することを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007230600A JP4982306B2 (ja) | 2007-09-05 | 2007-09-05 | 塗布装置および塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007230600A JP4982306B2 (ja) | 2007-09-05 | 2007-09-05 | 塗布装置および塗布方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009061380A JP2009061380A (ja) | 2009-03-26 |
JP4982306B2 true JP4982306B2 (ja) | 2012-07-25 |
Family
ID=40556483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007230600A Active JP4982306B2 (ja) | 2007-09-05 | 2007-09-05 | 塗布装置および塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4982306B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101062208B1 (ko) | 2009-04-29 | 2011-09-05 | 주식회사 디지아이 | 프린터 헤드용 검사 장치 |
KR101085395B1 (ko) | 2009-08-21 | 2011-11-21 | 주식회사 케이씨텍 | 부상식 기판 코터 장치 |
KR101405668B1 (ko) | 2011-12-22 | 2014-06-10 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 도포 장치 |
JP5943855B2 (ja) * | 2013-02-15 | 2016-07-05 | 中外炉工業株式会社 | ロール搬送式コータ |
JP6062776B2 (ja) * | 2013-03-14 | 2017-01-18 | 中外炉工業株式会社 | バッキングロールを有するコータ |
CN104707761A (zh) * | 2015-03-16 | 2015-06-17 | 苏州优逸克智能科技有限公司 | 一种在线点胶机 |
KR102432971B1 (ko) * | 2020-03-11 | 2022-08-17 | 카부시키가이샤 미야코 롤러 코교 | 도포 장치 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3275202B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2002-04-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 薄膜形成装置 |
JP2000005683A (ja) * | 1998-06-22 | 2000-01-11 | Toppan Printing Co Ltd | スロット型塗布ヘッドクリーニング装置およびクリーニング方法 |
JP2002346463A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-03 | Toppan Printing Co Ltd | 単板塗布装置 |
JP4091372B2 (ja) * | 2002-07-16 | 2008-05-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP2005247516A (ja) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | Tokyo Electron Ltd | 浮上式基板搬送処理装置 |
JP2005254062A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Toyota Motor Corp | シート材製造装置および製造方法 |
JP4727203B2 (ja) * | 2004-10-18 | 2011-07-20 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
KR100700180B1 (ko) * | 2004-12-31 | 2007-03-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 예비토출부를 구비한 슬릿코터 및 이를 이용한 코팅방법 |
JP4901200B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2012-03-21 | 東京応化工業株式会社 | 溶剤回収システム |
JP4451385B2 (ja) * | 2005-12-20 | 2010-04-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理装置及び塗布処理方法 |
-
2007
- 2007-09-05 JP JP2007230600A patent/JP4982306B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009061380A (ja) | 2009-03-26 |
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