JP2009078260A - 基板搬送装置、塗布装置、基板搬送方法および塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】塗布装置1は、基板90を搬送する基板搬送装置2、基板90を下方から支持するステージ3、ノズル40から所定の液を吐出して基板90に塗布する塗布部4、塗布部走行支持部5、および各部の制御を行う制御部8を備える。基板搬送装置2は、上端の支持部221が回転可能な搬送補助ローラ22、ステージ3に設置され基板90を水平搬送する水平搬送ローラ23および基板90のX軸方向に関する位置決めを行うアライメント部24とを備える。気体供給部33によりステージ3の上面から上方に向けて気体が供給することによって、ステージ3上に搬送される基板90に対して、気体を媒介して浮上力が付与される。
【選択図】図1
Description
<1.1. 塗布装置の構成>
図1は、本発明に係る塗布装置1の斜視図である。
図9は、塗布装置1の動作手順を示す流れ図である。
塗布装置1によると、従来のようなリフトピン昇降による基板載置手順を省略できるため、ステージ上に基板を載置する動作、あるいは引き上げる動作にかかる時間を短縮できる。また、気体供給量を調整することで基板の載置および引き上げを行うため、塗布処理までの時間を短縮でき、また基板90が割れる虞れも解消される。したがって、基板製造のスループットを向上させることができる。
上記実施の形態では、水平搬送ローラ23は、軸232がローラ部231の中心部に垂設されると説明したが、もちろんこれに限られるものではない。
上記実施の形態では、搬送補助ローラ22は、支持部221を回転駆動する動力源を持たないと説明したが、もちろんこれに限定されるものではない。
上記実施の形態では、気体供給部33を駆動することによって孔32から気体を供給して、ステージ3の上方にある基板90に浮上力を付与して基板90を浮上させると説明した。しかし、基板90に対して浮上力を付与する機構はこれに限られるものではない。
図17は、第4の実施の形態に係る塗布装置1aを示す側面図である。また、図18は、塗布装置1aを示す上面図である。図17に示すように、本実施の形態に係る塗布装置1aは、主として基板搬送装置2、ステージ3aおよび制御部8aを備える。
次に、塗布装置1aの動作について説明する。なお、ここでは、主として塗布装置1と異なる動作について説明する。塗布装置1は、ステージ3上に基板90を搬入するとき(図9のステップS2)に、気体供給部33を駆動することによって、ステージ3の上面から上方に向けて気体の噴射を行うが(ステップS25)、塗布装置1aでは、超音波励振部35を駆動することによって、振動板37をたわみ振動させる。
本実施の形態では、塗布装置1aは、振動板37をたわみ振動させることによって、基板90を浮上させつつ搬送するため、上面から気体を噴射する場合に比べて、パーティクルが基板90に付着することを抑制することができる。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。
2 基板搬送装置
20a 上流側搬送ローラ
20b 下流側搬送ローラ
22a 上流側搬送補助ローラ
22b 下流側搬送補助ローラ
223 シリンダ部
23,23a 水平搬送ローラ
24a 上流側アライメント部
24b 下流側アライメント部
3 ステージ
33 気体供給部
35 超音波励振部
36 熱放出部
37 振動板
38 基板サイドガイド
4 塗布部
40 ノズル
401 レジスト供給部
5 塗布部走行支持部
8,8a 制御部
90 基板
Claims (10)
- 下方から基板を支持するステージに対して基板を搬送する基板搬送装置であって、
前記ステージの上方にある基板に対して、気体を媒介して浮上力を付与する浮上力付与手段と、
前記浮上力付与手段により基板に付与される浮上力を制御することにより、基板を前記ステージの上面から上方に離間した離間位置と前記ステージの上面に当接する上面位置との間で昇降させる浮上力制御手段と、
基板を前記離間位置と前記ステージの上方から外れた外方位置との間で移動させる搬送手段と、
を備えることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1に記載の基板搬送装置であって、
前記浮上力付与手段は、前記ステージの上面から上方に向けて気体を供給する気体供給手段、
を含み、
前記浮上力制御手段は、前記気体供給手段による気体の供給量を制御することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1または2に記載の基板搬送装置であって、
前記搬送手段は、
前記ステージに対して基板の搬送方向の上流側に設けられ、基板を前記ステージに向けて水平搬送する上流側搬送手段と、
前記ステージに対して基板の前記搬送方向の下流側に設けられ、基板を前記ステージから遠ざける方向に水平搬送する下流側搬送手段と、
前記ステージの上方にて前記ステージの上面から離間した状態の基板を前記搬送方向に水平移動させる水平搬送手段と、
を有することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項3に記載の基板搬送装置であって、
前記水平移動手段は、前記ステージに対して浮上している基板の端部にのみ当接することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項3または4に記載の基板搬送装置であって、
前記搬送手段は、
少なくとも前記上流側搬送手段と前記水平搬送手段との間、もしくは前記水平搬送手段と前記下流側搬送手段との間のいずれかの位置に設けられ、基板の搬送を補助する搬送補助手段、
をさらに備えることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項5に記載の基板搬送装置であって、
前記搬送補助手段の位置を、基板の搬送補助が可能な搬送位置と、前記搬送位置から退避した退避位置との間で進退移動させる進退移動手段をさらに備えることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の基板搬送装置であって、
基板を前記ステージの上面における所定の位置に載置するように整列させる基板整列機構をさらに備えることを特徴とする基板搬送装置。 - 基板の表面に塗布膜を形成する塗布装置であって、
スリット状の吐出口が設けられ、前記ステージに支持された基板の表面に塗布液を吐出するノズルと、
前記ノズルに塗布液を供給する塗布液供給手段と、
前記基板を下方から支持するステージと、
前記ステージの上方にある基板に対して、気体を媒介して浮上力を付与する浮上力付与手段と、
前記浮上力付与手段により基板に付与される浮上力を制御することにより、基板を前記ステージの上面から上方に離間した離間位置と前記ステージの上面に当接する上面位置との間で昇降させる浮上力制御手段と、
基板を前記離間位置と前記ステージの上方から外れた外方位置との間で移動させる搬送手段と、
を備えることを特徴とする塗布装置。 - ステージに対して基板を搬送する基板搬送方法であって、
前記ステージの上方から外れた外方位置から前記ステージの上面から上方に離間した離間位置に向けて基板を搬入する搬入工程と、
前記搬入工程により前記離間位置に向けて搬入される基板に対して、気体を媒介して浮上力を付与することにより、前記基板を前記ステージの上面に対して浮上させる第1浮上工程と、
前記第1浮上工程にて基板に付与する浮上力を減少させることにより、浮上している前記基板を下降させて前記ステージの上面に載置する載置工程と、
前記基板に付与する浮上力を増大させることにより、前記載置工程にて載置された前記基板を前記ステージの上面に対して浮上させる第2浮上工程と、
前記第2浮上行程にて浮上している基板を前記ステージの上方から外れた外方位置に向けて搬出する搬出工程と、
を有することを特徴とする基板搬送方法。 - 基板の表面に塗布膜を形成する塗布方法であって、
ステージの上方から外れた外方位置から前記ステージの上面から上方に離間した離間位置に向けて基板を搬入する搬入工程と、
前記搬入工程により前記離間位置に向けて搬入される基板に対して、気体を媒介して浮上力を付与することにより、前記基板を前記ステージの上面に対して浮上させる第1浮上工程と、
前記第1浮上工程にて基板に付与する浮上力を減少させることにより、浮上している前記基板を下降させて前記ステージの上面に載置する載置工程と、
前記第1浮上工程にて供給する気体の供給量を減少させることにより、浮上している前記基板を下降させて前記ステージに載置する載置工程と、
前記載置工程にて載置された基板に向けて塗布液を吐出して前記基板に塗布液を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程の後、前記基板に付与する浮上力を増大させることにより、前記載置工程にて載置された前記基板を前記ステージの上面に対して浮上させる第2浮上工程と、
前記第2浮上行程にて浮上している基板を前記ステージの上方から外れた外方位置に向けて搬出する搬出工程と、
を有することを特徴とする塗布方法。
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