JP2009117462A - 塗布膜形成装置、基板搬送方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理される基板を、搬送ステージ12の一方の片側、及び他方の片側のいずれかにオフセットさせる被処理基板オフセット機構130と、一方の片側に配置され、保持した基板を一方の片側にオフセットさせた状態で搬送する第1のキャリア13Rと、他方の片側に配置され、保持した基板を他方の片側にオフセットさせた状態で搬送する、第1のキャリア12Rとは独立して動作することが可能な第2のキャリア13Lと、搬送ステージ12の塗布部12bの上方に設けられ、処理される基板の表面に塗布液を供給する塗布液供給機構14と、を具備する。
【選択図】図5
Description
Claims (17)
- 処理される基板を一方向に搬送しながらこの基板に塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
前記処理される基板が導入される導入部、前記処理される基板に前記塗布液が供給される塗布部、及び前記処理される基板が搬出される搬出部を有する搬送ステージと、
前記処理される基板を、前記搬送ステージの前記一方向と直交する方向の一方の片側、及び前記一方向と直交する方向の他方の片側のいずれかにオフセットさせる被処理基板オフセット機構と、
前記搬送ステージの前記一方向と直交する方向の一方の片側に配置され、前記処理される基板を前記一方向と直交する方向の片端で保持し、この保持した基板を前記一方の片側にオフセットさせた状態で、前記搬送ステージ上を、前記導入部、前記塗布部、及び前記搬出部の順で前記一方向に搬送する第1のキャリアと、
前記搬送ステージの前記一方向と直交する方向の他方の片側に配置され、前記処理される基板を前記一方向と直交する方向の片端で保持し、この保持した基板を前記他方の片側にオフセットさせた状態で、前記搬送ステージ上を、前記導入部、前記塗布部、及び前記搬出部の順で前記一方向に搬送する、前記第1のキャリアとは独立して動作することが可能な第2のキャリアと、
前記搬送ステージの塗布部の上方に設けられ、前記処理される基板の表面に前記塗布液を供給する塗布液供給機構と、
を具備することを特徴とする塗布膜形成装置。 - 前記処理される基板が、前記被処理基板オフセット機構を用いて前記一方の片側及び前記他方の片側に交互にオフセットされ、
前記交互にオフセットされた基板が、前記第1のキャリア及び前記第2のキャリアを交互に用いて搬送されるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の塗布膜形成装置。 - 前記第1のキャリアが前記基板を前記搬送ステージの搬出部まで搬送した後、前記第1のキャリアを前記搬送ステージの前記搬出部から前記導入部に戻す第1の戻し動作が、前記第2のキャリアを用いた基板搬送動作とオーバーラップされて実行され、
前記第2のキャリアが前記基板を前記搬送ステージの搬出部まで搬送した後、前記第2のキャリアを前記搬送ステージの前記搬出部から前記導入部に戻す第2の戻し動作が、前記第1のキャリアを用いた基板搬送動作とオーバーラップされて実行されるように構成されていることを特徴とする請求項2に記載の塗布膜形成装置。 - 前記塗布液供給機構が、
前記搬送ステージの前記塗布部の上方に、前記一方の片側にオフセットされて設けられ、前記第1のキャリアを用いて搬送されてきた前記処理される基板の表面に塗布液を供給する第1の塗布液供給ノズルと、
前記搬送ステージの前記塗布部の上方に、前記他方の片側にオフセットされて設けられ、前記第2のキャリアを用いて搬送されてきた前記処理される基板の表面に塗布液を供給する第2の塗布液供給ノズルと、を備え、
前記第1の塗布液供給ノズルのノズルフォーミング動作が、前記第1の戻し動作とオーバーラップされて実行され、
前記第2の塗布液供給ノズルのノズルフォーミング動作が、前記第2の戻し動作とオーバーラップされて実行されるように構成されていることを特徴とする請求項3に記載の塗布膜形成装置。 - 前記塗布液供給機構が、
前記搬送ステージの前記塗布部の上方に、前記一方の片側にオフセットされて設けられ、前記第1のキャリアを用いて搬送されてきた前記処理される基板の表面に塗布液を供給する第1の塗布液供給ノズルと、
前記搬送ステージの前記塗布部の上方に、前記他方の片側にオフセットされて設けられ、前記第2のキャリアを用いて搬送されてきた前記処理される基板の表面に塗布液を供給する第2の塗布液供給ノズルと、を備えていることを特徴とする請求項1に記載の塗布膜形成装置。 - 前記ノズルフォーミングを行うノズル洗浄機構が、前記第1の塗布液供給ノズル、及び前記第2の塗布液供給ノズルのそれぞれに対応して個別に設けられていることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の塗布膜形成装置。
- 前記塗布液供給機構が、
前記第1のキャリア、又は前記第2のキャリアを用いて搬送されてきた前記処理される基板の表面に塗布液を供給する塗布液供給ノズルを備え、
前記塗布液供給ノズルが、前記一方の片側及び前記他方の片側のいずれかにオフセットされるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の塗布膜形成装置。 - 前記オフセット機構が、前記処理される基板を、前記搬送ステージの導入部において前記一方の片側、及び前記他方の片側のいずれかにオフセットさせることを特徴とする請求項1乃至請求項7いずれか一項に記載の塗布膜形成装置。
- 前記オフセット機構が、前記処理される基板を、前記一方の片側、及び前記他方の片側のいずれかにオフセットさせた状態で、前記搬送ステージの導入部に導入することを特徴とする請求項1乃至請求項7いずれか一項に記載の塗布膜形成装置。
- 前記オフセット機構が、前記処理される基板を、この処理される基板がオフセットされる前、又はオフセットされた後に目標の位置に合わせる位置合わせ機能を備えていることを特徴とする請求項1乃至請求項9いずれか一項に記載の塗布膜形成装置。
- 前記処理される基板を、この処理される基板がオフセットされる前、又はオフセットされた後に目標の位置に合わせる位置合わせ機構を、さらに具備することを特徴とする請求項1乃至請求項9いずれか一項に記載の塗布膜形成装置。
- 前記第1のキャリアが、前記保持した基板を、前記一方の片側にオフセットさせた状態で、前記保持した基板の前記他方の片側の部分を前記搬送ステージ上からオーバーハングさせることなく、前記搬送ステージ上を前記一方向に搬送し、
前記第2のキャリアが、前記保持した基板を、前記他方の片側にオフセットさせた状態で、前記保持した基板の前記一方の片側の部分を前記搬送ステージ上からオーバーハングさせることなく、前記搬送ステージ上を前記一方向に搬送することを特徴とする請求項1に記載の塗布膜形成装置。 - 前記搬送ステージが、前記処理される基板を浮上搬送する浮上搬送ステージであることを特徴とする請求項1に記載の塗布膜形成装置。
- 請求項1に記載の塗布膜形成装置の基板搬送方法であって、
前記処理される基板を、前記被処理基板オフセット機構を用いて前記一方の片側及び他方の片側に交互にオフセットさせ、
前記交互にオフセットされた基板を、第1のキャリア及び第2のキャリアを交互に用いて搬送することを特徴とする塗布膜形成装置の基板搬送方法。 - 前記第1のキャリアが前記基板を前記搬送ステージの搬出部まで搬送した後、前記第1のキャリアを前記搬送ステージの前記搬出部から前記導入部に戻す第1の戻し動作を、前記第2のキャリアを用いた基板搬送動作とオーバーラップさせ、
前記第2のキャリアが前記基板を前記搬送ステージの搬出部まで搬送した後、前記第2のキャリアを前記搬送ステージの前記搬出部から前記導入部に戻す第2の戻し動作を、前記第1のキャリアを用いた基板搬送動作とオーバーラップさせることを特徴とする請求項14に記載の塗布膜形成装置の基板搬送方法。 - 前記塗布液供給機構が、前記搬送ステージの前記塗布部の上方に、前記一方の片側にオフセットされて設けられ、前記第1のキャリアを用いて搬送されてきた前記処理される基板の表面に塗布液を供給する第1の塗布液供給ノズルと、前記搬送ステージの前記塗布部の上方に、前記他方の片側にオフセットされて設けられ、前記第2のキャリアを用いて搬送されてきた前記処理される基板の表面に塗布液を供給する第2の塗布液供給ノズルと、を備え、
前記第1の塗布液供給ノズルのノズルフォーミング動作を、前記第1の戻し動作とオーバーラップさせ、
前記第2の塗布液供給ノズルのノズルフォーミング動作を、前記第2の戻し動作とオーバーラップさせることを特徴とする請求項15に記載の塗布膜形成装置の基板搬送方法。 - コンピュータ上で動作し、処理される基板の搬送を制御するプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記プログラムは、実行時に、請求項14に記載の基板搬送方法が行われるように、コンピュータに塗布膜形成装置を制御させることを特徴とする記憶媒体。
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