JP4980540B2 - キノフタロン誘導体をベースとする結晶化改質剤 - Google Patents
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Description
【０００１】
本発明は、一般式Ｉ
【０００２】
【化６】
【０００３】
［式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５は相互に独立して、水素、ハロゲンまたはＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表し；
Ｒ４は−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ３ -Ｎ＋Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｒ９、−ＳＯ２ＮＲ６Ｒ７、−ＣＨ２ＮＲ６Ｒ７、−ＣＨ２Ｒ１０、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ-Ｎ＋Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｒ９、−ＣＯＯＲ１１、−ＣＯＲ１１、−ＮＯ２またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表し；
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は相互に独立して、水素；炭素鎖がそれぞれ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−、−ＣＯ−または−ＳＯ２−の群から選択された基１個または複数個で中断されていてよく、かつ／またはヒドロキシ、ハロゲン、アリール、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシおよび／またはアセチル基１個または複数個で置換されていてよいＣ１〜Ｃ２２−アルキルまたはＣ２〜Ｃ２２−アルケニル；炭素骨格が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−または−ＣＯ−の群から選択された基１個または複数個で中断されていてよく、かつ／またはヒドロキシ、ハロゲン、アリール、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシおよび／またはアセチル基１個または複数個で置換されていてよいＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル；デヒドロアビエチルまたはアリールを表し；Ｒ６およびＲ７もしくはＲ６、Ｒ７およびＲ８は一緒になって窒素原子を有する５〜７員の環状基を表し、これは更にヘテロ原子を有していてよい；
Ｒ１０は基
【０００４】
【化７】
【０００５】
を表し；
Ｒ１１はアルキル基Ｒ６の１つを表し；
Ｒ１２は水素またはＣ１〜Ｃ４−アルキルを表し；
Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は相互に独立して、アリーレンを表し、これはハロゲン、アリールスルホニルまたは−ＣＯＲ１３または−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−ＣＯ−により置換されていてよく；
Ｒ１３はＣ１〜Ｃ３−アルキルまたはフェニル基を表す］のキノフタロン誘導体およびその有機顔料のための結晶化改質剤としての使用に関する。
【０００６】
更に、本発明はキノフタロン顔料を微細な顔料形にするための方法に関する。
【０００７】
更に、本発明は等長の粒形を有し、粒度５０〜２００ｎｍ、粒度分布の幅±２０ｎｍを有する、一般式ＩＩ
【０００８】
【化８】
【０００９】
［式中、Ｒ２は水素、ハロゲンまたはＣ１〜Ｃ４−アルキルを表し；
Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６の１つは基
【００１０】
【化９】
【００１１】
を表し、他の基Ｒ１４〜Ｒ１６は水素を表し；
Ｘ１およびＸ２は相互に独立して、ハロゲン、アリールスルホニルまたは−ＣＯＲ１２または−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−ＣＯ−により置換されていてよいアリーレンを表し；
Ｒ１２はＣ１〜Ｃ３−アルキルまたはフェニル基を表す］のキノフタロン顔料、並びに
Ａ）式ＩＩのキノフタロン顔料少なくとも１種および
Ｂ）式Ｉのキノフタロン誘導体少なくとも１種を含有する顔料組成物、および
プラスチック、塗料、プリントインキ、インク・ジェット・インキ、カラーフィルターおよび電子写真トナーを着色するためのその使用に関する。
【００１２】
キノフタロン顔料はその安定性、特にその高い耐光性および耐候性並びに熱安定性のために、重要な黄色顔料を形成する。この顔料クラスの特に重要な代表としてはＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８を挙げることができる（参照ＤＥ−Ａ−１７７０９６０）。その他のキノフタロン顔料はＤＥ−Ａ−２６２６２７１、２６３８５２８および２７０６８７２中に記載されている。
【００１３】
合成の際に、キノフタロン顔料は不均一な粒度分布を有する粗な結晶形で析出する。適用のために好適で色的に価値のある顔料形に変換するために、この粗顔料を通常、再形成処理（Formierung）する。
【００１４】
ＤＥ−Ａ−２３５７０７７にはこの目的のために粗顔料の粉砕および引き続き粉砕物の再結晶を有機溶剤中で実施することが記載されており、ＤＥ−Ａ−２７４６１６４中には水性懸濁液の形で湿式粉砕を高速攪拌ボールミル中で実施することが記載されている。
【００１５】
記載された方法を用いて、部分的には高い時間の消費下に、粒子砕解およびこうして顔料の改良された色特性が達せられるが、得られる顔料の粒度を調節することは困難であり、この顔料は粒度分布が広すぎるので、一般に一連の適用、例えばインク・ジェット・インキ、カラーフルターおよび電子写真用のトナー中への着色剤としての適用には不十分である。
【００１６】
従って、本発明の課題は、これらの欠点を取り除き、有利な適用特性、特に有利な粒度分布を有するキノフタロン顔料を製造することにある。
【００１７】
こうして冒頭に定義した一般式Ｉのキノフタロン誘導体および有機顔料のための結晶化改質剤としてのその使用が見いだされた。
【００１８】
有利なキノフタロン誘導体Ｉは従属請求項から明らかである。
【００１９】
更に、キノフタロン粗顔料を微細な顔料形に変換するための方法が見いだされ、この方法はキノフタロン粗顔料をキノフタロン誘導体Ｉの存在下に再形成処理することを特徴とする。
【００２０】
更に、冒頭に定義した、等長の粒形を有し、粒度５０〜２００ｎｍ、粒度分布の幅±２０ｎｍを有する一般式ＩＩのキノフタロン顔料並びに顔料組成物が見いだされ、この組成物は
Ａ）式ＩＩのキノフタロン顔料少なくとも１種および
Ｂ）式Ｉのキノフタロン誘導体少なくとも１種を含有し、
更にプラスチック、塗料、プリントインキ、インク・ジェット・インキ、カラーフィルターおよび電子写真トナーを着色するためのその使用も見いだされた。
【００２１】
式Ｉおよび引き続いて記載される式Ｉ、ＩＩおよびＩＩＩ中に記載されている全てのアルキル鎖およびアルケニル鎖は直鎖または分枝鎖であってよい。
【００２２】
アルキル基の例としては、個別に例として以下に挙げる：メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、２−メチルペンチル、ヘプチル、１−エチルペンチル、オクチル、２−エチルヘキシル、イソオクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、イソトリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプチルデシル、オクタデシル、ノナデシルおよびエイコシル（前記のイソオクチル、イソノニル、イソデシルおよびイソトリデシルは慣用名であり、オキソ合成により得られたアルコールに由来する）。
【００２３】
炭素鎖がそれぞれ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−、−ＣＯ−または−ＳＯ２−の群から選択された基１個または複数個で中断されていてよいアルキル基、もしくはアルコキシ−およびアルカノイル置換アルキル基に関しての例としては以下の基を挙げることができる：
２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、２−プロポキシエチル、２−イソプロポキシエチル、２−ブトキシエチル、２−および３−メトキシプロピル、２−および３−エトキシプロピル、２−および３−プロポキシプロピル、２−および３−ブトキシプロピル、２−および４−メトキシブチル、２−および４−エトキシブチル、２−および４−プロポキシブチル、３,６−ジオキサヘプチル、３,６−ジオキサオクチル、４,８−ジオキサノニル、３,７−ジオキサオクチル、３,７−ジオキサノニル、４,７−ジオキサオクチル、４,７−ジオキサノニル、２−および４−ブトキシブチル、４,８−ジオキサデシル、３,６,９−トリオキサデシル、３,６,９−トリオキサウンデシル、３,６,９−トリオキサドデシル、３,６,９,１２−テトラオキサトリデシルおよび３,６,９,１２−テトラオキサテトラデシル；
２−メチルチオエチル、２−エチルチオエチル、２−プロピルチオエチル、２−イソプロピオチオエチル、２−ブチルチオエチル、２−および３−メチルチオプロピル、２−および３−エチルチオプロピル、２−および３−プロピルチオプロピル、２−および３−ブチルチオプロピル、２−および４−メチルチオブチル、２−および４−エチルチオブチル、２−および４−プロピルチオブチル、３,６−ジチアヘプチル、３,６−ジチアオクチル、４,８−ジチアノニル、３,７−ジチアオクチル、３,７−ジチアノニル、４,７−ジチアオクチル、４,７−ジチアノニル、２−および４−ブチルチオブチル、４,８−ジチアデシル、３,６,９−トリチアデシル、３,６,９−トリチアウンデシル、３,６,９−トリチアドデシル、３,６,９,１２−テトラチアトリデシルおよび３,６,９,１２−テトラチアテトラデシル；
２−モノメチル−および２−モノエチルアミノエチル、２−ジメチルアミノエチル、２−および３−ジメチルアミノプロピル、３−モノイソプロピルアミノプロピル、２−および４−モノプロピルアミノブチル、２−および４−ジメチルアミノブチル、６−メチル−３,６−ジアザヘプチル、３,６−ジメチル−３,６−ジアザヘプチル、３,６−ジアザオクチル、３,６−ジメチル−３,６−ジアザオクチル、９−メチル−３,６,９−トリアザデシル、３,６,９−トリメチル−３,６,９−トリアザウンデシル、１２−メチル−３,６,９,１２−テトラアザトリデシルおよび３,６,９,１２−テトラメチル−３,６,９,１２−テトラアザトリデシル；
プロパン−２−オン−１−イル、ブタン−３−オン−１−イル、ブタン−３−オン−２−イルおよび２−エチル−ペンタン−３−オン−１−イル；
２−メチルスルホニルエチル、２−エチルスルホニルエチル、２−プロピルスルホニルエチル、２−イソプロピルスルホニルエチル、２−ブチルスルホニルエチル、２−および３−メチルスルホニルプロピル、２−および３−エチルスルホニルプロピル、２−および３−プロピルスルホニルプロピル、２−および３−ブチルスルホニルプロピル、２−および４−メチルスルホニルブチル、２−および４−エチルスルホニルブチル、２−および４−プロピルスルホニルブチルおよび４−ブチルスルホニルブチル。
【００２４】
Ｃ２〜Ｃ２２−アルケニル基の例としては例えばオレイル、リノレイルおよびリノレニルを挙げることができる。
【００２５】
アルコキシ基の例としてはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシおよびｔ−ブトキシを挙げることができる。
【００２６】
シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルおよびシクロオクチルを挙げることができる。ヘテロ原子を含有するシクロアルキル基は例えばジオキサニル、モルホリニル、テトラヒドロフリル、ピロリジニルおよびピペリジニルを挙げることができる。
【００２７】
アリール基は例えばフェニルおよび１−および２−ナフチルである。
【００２８】
ハロゲンは特に塩素または臭素であり、この際塩素が有利である。
【００２９】
置換されたアルキル基は有利に炭素原子を６個まで有し、有利に１または２個の置換基を有する鎖である。例えば以下のものである：２−ヒドロキシエチル、２−および３−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシプロプ−２−イルおよび２−および４−ヒドロキシブチルおよびベンジル。
【００３０】
Ｒ６およびＲ７もしくはＲ６〜Ｒ８から構成された窒素原子含有の５〜７員の環状基であって、ベンゼン環が縮合していてよい環状基の例は以下の基である：モルホリニル、ピロリジニル、ピペリジル、ピリル（Pyrryl）、ピリジル、ピリミジル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、トリアジル、キナルジル（Chinaldyl）、キノリニル、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾイミジゾリルおよびイソキノリル。
【００３１】
アリーレン基および置換されたアリーレン基Ｘ１〜Ｘ３の例は１,２−フェニレン、テトラクロロ−およびテトラブロモ−１,２−フェニレン、１,２−ナフチレン、２,３−ナフチレン、１,８−ナフチレンおよび２,２′−ビフェニレンであり、その際１,２−フェニレンおよびテトラクロロ−１,２−フェニレンが有利である。
【００３２】
アシル基は例えばアセチル、プロピオニル、ブチリルおよびベンジルである。
【００３３】
好適なアルコキシカルボニル基は例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルビニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニルおよびヘキソキシカルボニルである。
【００３４】
アシル基の例はメチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、ブチルカルボニルおよびペンチルカルボニルである。
【００３５】
アリールスルホニル基の例としては特にフェニルスルホニルおよび置換されたフェニルスルホニル、例えばｐ−トリルスルホニル、ｐ−クロロフェニルスルホニルおよびｐ−ブロムフェニルスルホニルを挙げることができる。
【００３６】
キノフタロン誘導体Ｉの製造のためには有利に一般式ＩＩＩ
【００３７】
【化１０】
【００３８】
のキノフタロンから出発する。
【００３９】
キノフタロンＩＩＩと発煙硫酸との反応により、Ｒ４が−ＳＯ３Ｈである一般式Ｉのキノフタロン誘導体が得られる。
【００４０】
このスルホン化のために、三酸化硫黄含量が０.１〜６５質量％、特に５〜２５質量％の発煙硫酸を使用するのが有利である。
【００４１】
発煙硫酸の量はそれほど厳密ではない。発煙硫酸は同時に溶剤としても働くので、少なくとも溶液が攪拌可能である程度に発煙硫酸を使用するべきである。通常、キノフタロンＩＩＩ １ｇあたり発煙硫酸１〜１０ｇ、有利には約３〜７ｇを使用する。
【００４２】
反応温度は一般に０〜２００℃、有利に５０〜１００℃である。
【００４３】
反応時間は１〜２０時間であってよい。一般に、レギオ選択性に行われるスルホン化は約６時間内に終了する。
【００４４】
生成物の単離は通常反応混合物の氷水中での加水分解の後に濾過により行われる。
【００４５】
その後のアミンまたは四級アンモニウム塩との反応によりスルホン化したキノフタロン誘導体Ｉを相応するアンモニウム塩Ｉ（Ｒ４：−ＳＯ３ -Ｎ＋Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｒ９）に変換することができ、これはスルホン化キノフタロン誘導体Ｉより強く結晶成長を阻止し、かつ特に良好な分散性の顔料の形成に作用する。
【００４６】
アミンとしては第１、第２および第３アミンを考慮することができる。第２および第３アミンはそれぞれ同じまたは異なるアルキル基を有していてよい。例えば線状、水素化または不飽和アルキル基を有する脂肪族アミンも好適である。炭素原子６個までの短いアルキル基は有利でありかつ／またはヒドロキシ、アセチル、メトキシ、エトキシ、塩素および臭素からなる有利な群からの２個までの置換基を有しているのが有利である。
【００４７】
特に有利なアミンおよびアンモニウム塩の例は、ステアリルアミン、メチルジステアリルアミン、ジメチルステアリルアミンおよびデヒドロアビエチルアミンおよびジメチルジステアリルアンモニウム塩である。
【００４８】
アンモニウム塩形成は一般に通常の方法で有機溶剤、水または水性／有機性媒体中で実施することができる。好適な反応温度は一般に２０〜１００℃である。生成物は同様に濾過により単離することができる。
【００４９】
しかしながら、アンモニウム塩は、本発明による、粉砕および再結晶を包含する顔料再形成処理法において、スルホキノフタロン誘導体Ｉおよびアミンもしくはアンモニウム塩の約当量をこの両方の再形成処理工程の一方で添加することにより、初めて製造することができる。
【００５０】
一般式Ｉのキノフタロン誘導体（Ｒ４が−ＳＯ２ＮＲ６Ｒ７を表す）の製造は、有利にスルホクロル化、引き続きアミド化により行うことができる。
【００５１】
キノフタロンＩＩＩのスルホクロル化のためには通常クロロスルホン酸を使用する。全てのスルホン酸基が酸クロリドに変換されていることを確実にするために、得られた生成物を付加的に更に塩化チオニルと反応させるのが有利である。
【００５２】
クロロスルホン酸の量は同様に厳密ではない。しかしながら、攪拌可能な溶液を得るために、キノフタロンＩＩＩ １ｇ当たり、クロロスルホン酸を通常１〜１０ｇ、有利に約４ｇの量で使用する。
【００５３】
一般に、この反応を８０〜１８０℃、有利に１００〜１３０℃で実施し、約１〜２０時間、有利に約２時間続ける。
【００５４】
生成物を後から更に塩化チオニルと反応させる場合、この得られた反応混合物を有利に約７０〜８０℃に冷却し、次いで一般にキノフタロンＩＩＩ １ｇ当たり塩化チオニルを一般に０.３ｇ〜１ｇ、特に０.４〜０.７ｇ添加する。
【００５５】
一般に０.５〜２時間の更なる反応時間の後に、部位選択性モノスルホクロル化生成物を氷水中での加水分解の後濾別により単離することができる。通常、次いで予め乾燥することなくアミド化を実施する。アミド化は第１または第２アミンを用いて実施する。前記のアミンをこの反応に使用するのが有利である。
【００５６】
有利にアミド化をほぼ中性の、水性媒体中で実施する。ｐＨ値を約７に保持するために、緩衝剤、例えば酢酸ナトリウムの存在で実施するのが推奨される。通常、アミド化を０〜２０℃の温度で実施し、約０.５〜５時間、特に１〜２時間続ける。
【００５７】
Ｒ４が−ＣＨ２ＮＲ６Ｒ７または−ＣＨ２Ｒ１０を表す一般式Ｉのキノフタロン誘導体はチェルニアック・アインホルン反応（Tscherniac-Einhorn-Reaktion）でキノフタロンＩＩＩのメチルアミド化により得ることができる。
【００５８】
有利なフタルイミドメチルキノフタロンＩはパラホルムアルデヒドおよびフタルイミドを、三酸化硫黄を０.１〜１０質量％、有利に３質量％含有していてよい濃硫酸（０.１〜１０質量％の、有利に３質量％の発煙硫酸）中で反応させることにより製造することができる。
【００５９】
一般に、キノフタロンＩＩＩ １ｇ当たりパラホルムアルデヒド０.０５〜０.２ｇ、有利に０.０６〜０.１ｇおよびフタルイミド０.１〜０.３ｇ、有利に０.２〜０.２５ｇを使用する。
【００６０】
硫酸もしくは発煙硫酸の量は厳密ではない。一般にキノフタロンＩＩＩ １ｇ当たり１〜１０ｇ、特に約５ｇを使用する。
【００６１】
有利にはこの反応法は技術的に硫酸または発煙硫酸を装入し、フタルイミドおよびパラホルムアルデヒドを交互に添加し、４０〜６０℃において約０.５〜２時間の反応時間の後、キノフタロンＩＩＩを添加し、この混合物を８０〜１２０℃で約２〜５時間反応させる。
【００６２】
生成物の単離は通常水中での反応混合物の加水分解の後、濾別することにより行われる。
【００６３】
式中Ｒ４が−ＣＯＲ１１またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表す、一般式Ｉのキノフタロン誘導体はキノフタロンＩＩＩの通常のフリーデル・クラフト・アシル化もしくはフリーデル・クラフト・アルキル化により得ることができる。Ｒ４が−ＣＯＯＨまたは−ＣＯＯＲ１１を表す式Ｉのキノフタロン誘導体はＩＩＩのフリーデル・クラフト・アシル化および引き続き水またはアルコールとの反応により得られる。ニトロ基を置換基Ｒ４として有するキノフタロン誘導体Ｉは最終的にキノフタロン誘導体ＩＩＩのニトロ化により得られる。
【００６４】
キノフタロン誘導体Ｉは有機顔料のための結晶化改質剤として著しく優れている。これは粗顔料を適用のために好適な微細な、狭い粒度分布を有する顔料形にすることを可能にする。
【００６５】
これはキノフタロン顔料のための、有利に冒頭に挙げた式ＩＩのキノフタロン顔料のための、特に有利に式中Ｒ２、Ｒ１４およびＲ１５が水素を表す式ＩＩのキノフタロン顔料のための、より有利にはＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８のための結晶化改質剤として特に重要である。
【００６６】
キノフタロン顔料の微細な顔料形への変換のための本発明による方法において、粗顔料再形成処理を１種または複数種のキノフタロン誘導体Ｉの存在下に実施する。
【００６７】
本発明による方法の有利な変法は、合成の際に生じる粗顔料を、有利に粉砕助剤の存在下に粉砕し、引き続き得られた粉砕物をキノフタロン誘導体Ｉの存在で有機溶剤中または有機溶剤と水とからなる混合物中で再結晶させることよりなる。
【００６８】
第２の有利な変法は、キノフタロン誘導体Ｉの存在下に粉砕を実施し、引き続き得られた粉砕物を有機溶剤または有機溶剤と水とからの混合物中で再結晶するということからなる。
【００６９】
もちろん、キノフタロン誘導体Ｉを再形成処理工程とは異なる工程中に部分量で添加することもできる。
【００７０】
最後に、粉砕を再結晶に作用する溶剤、例えばＣ２〜Ｃ４−アルカノール、グリコール、グリコールエーテルおよびフタル酸ジアルキルエステル、特にフタル酸ジエチルエステルおよび殊にフタル酸ジメチルエステルの存在で直接実施することもできる。この場合、引き続く再結晶工程は実施する必要はない。
【００７１】
一般に、粗顔料に対してキノフタロン誘導体Ｉを０.１〜１０質量％、有利に２〜５質量％使用する。
【００７２】
粉砕はボールミル、振動ミル、遊星形ミルまたは攪拌ボールミル中で実施することができる。好適な粉砕体は、例えば鉄製ボール、シリコン／アルミニウム／酸化ジルコニウムビーズ、ガラスビーズ、メノウボールおよび砂粒であって、その直径は０.１〜５ｃｍの範囲である。
【００７３】
有利には粉砕物が平均１次粒度＜３０ｎｍを有するまで粉砕する。これに相応して粉砕時間は通常１０〜６０時間、特に３０〜５０時間である。
【００７４】
引き続き再結晶のためには多くの有機溶剤を使用することができる。
【００７５】
好適な溶剤はアルコール、特に炭素原子１０個までを有するアルコール、エーテルアルコール、エーテル、ケトン、カルボン酸、特に炭素原子４個までを有するカルボン酸、カルボン酸アミド、カルボン酸エステル並びに脂環式および芳香族炭化水素である。もちろんこれらの溶剤の混合物も使用することができる。例としては個々に挙げることができる：
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、アミルアルコール、イソアミルアルコール、ヘキサノール、イソヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、２−エチルヘキサノール、エチレングリコール、１,２−および１,３−プロピレングリコール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコールおよび２−フェニルエタノール；
エチレングリコールモノメチル−、−エチル−および−ブチルエーテルおよびジエチレングリコールモノメチル−および−エチルエーテル；
ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチル−および−ジエチルエーテル；
アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノンおよびプロピオフェノン；
蟻酸、酢酸、プロピオン酸および酪酸；
フォルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−およびＮ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−およびＮ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−およびＮ，Ｎ−ジエチルプロピオン酸アミドおよびＮ−メチルピロリドン；
フタル酸ジメチルエステルおよびフタル酸ジエチルエステル；
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ナフタリンおよびメチルナフタリン。
【００７６】
再結晶のために、後処理の際に例えば水での洗浄、水との共沸蒸留、水蒸気蒸留または全配合物の乾燥により（例えば溶剤の留去により）容易に除去することができる溶剤を使用するのが有利である。
【００７７】
特に有利であるのは、沸点≦１５０℃を有し、分解せずかつ残分を残さずに蒸発可能な、例えばＣ１〜Ｃ５−アルカノール、ケトン、例えばメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフランおよびジオキサンおよび炭化水素、例えばシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびクロロベンゼンおよびこれらの混合物、その際キシレンおよびトルエンは特に有利である。
【００７８】
溶剤の量は一般に厳密ではなく、広い範囲で変化させることができる。一般に粉砕物ｇあたり溶剤３〜６ｇ、有利に４〜５ｇを使用する。通常、再結晶は２５〜１４０℃、特に６０〜１００℃の温度で実施する。
【００７９】
再結晶は粉砕物を溶剤中に分散下にまたは粉砕物を単に溶剤中に放置することによっても実施することができる。粉砕物および溶剤からなる混合物を攪拌するのが有利である。
【００８０】
再結晶工程の時間は温度および溶剤に依存する。一般には再結晶は１〜１０時間で終了する。
【００８１】
本発明による再形成処理法を用いて、得られるキノフタロン顔料の平均粒度をキノフタロン誘導体Ｉの量を介して目的を持って変化させることができ、それぞれ所望の値に、５０〜１００ｎｍの範囲で、粒度分布±２０ｎｍの幅で調節する。
【００８２】
特に微細なキノフタロン顔料の形成は、再形成処理の際に（粉砕および／または再結晶の際に）更なる顔料助剤を添加することにより、支持される。
【００８３】
この際、アリールジイソシアネートへのアミンの二重の付加により得られる、置換した尿素をベースとする添加物が特に好適である。この際、ＤＥ−Ａ−２９０６１１１から公知の式：
【００８４】
【化１１】
【００８５】
［式中、Ｋは１,５−ナフチレンまたは４,４′−ジフェニレンメタンを表し、ＲはＣ１２〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ１２〜Ｃ１８−アルケニル、Ｃ８〜Ｃ１８−アルコキシプロピルまたは−（ＣＨ２）３−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｎ−Ｏ−Ｒ１を表し、Ｒ１はＣ２〜Ｃ８−アルキルまたはフェニルを表し、ｎは１〜４を表す］の尿素誘導体が有利である。有利な助剤の例としてはナフタリン−１,５−ジイソシアネートに３−オクトキシプロピレンアミン２モルを添加することにより得られる生成物を挙げることができる。
【００８６】
このようにして得られる顔料組成物は、この助剤を成分（Ｃ）として有利にキノフタロン顔料（Ａ）に対して１〜１０質量％の量で含有する。
【００８７】
本発明による再形成処理法において得られるキノフタロン顔料およびこれに相応する、（Ａ）少なくとも１種のキノフタロン顔料および（Ｂ）少なくとも１種のキノフタロン誘導体（Ｂ）を含有する、同様に本発明による顔料組成物は、その優れた色彩およびレオロジーに関する特性並びに耐性、特に高い透明性、高い色強度および高い光沢、容易な分散性および申し分のない上塗り耐性（Ueberlackerechtheit）、溶剤耐性および耐候性により優れている。アルキド／メラミン−アニール塗布における適用の際に、通常以下の色彩特性が達せられる：色相（hue）：８２〜８６゜；明度Ｌ≧８０；クロマＣ≧９０；透明性（散乱−デルタ−Ｅ(Streu-Delta-E)で測定）≦９５〜約４０。
【００８８】
これは多くの適用媒体の、例えばプラスチック、溶剤含有および水をベースとする塗料の着色のために、およびその透明性のために特に全ての汎用されている印刷法、例えばオフセット印刷、凹板印刷、包装印刷、ブリキ印刷および繊維プリントにおいて使用されるプリントインキの着色のために好適である。
【００８９】
特に、その微細な粒状によりインク・ジェット・インキ、カラーフィルターおよび電子写真用トナーおよび現像剤、例えば一成分、二成分および多成分粉末トナー（一成分または二成分現像剤も挙げられる）、マグネットトナー、液体トナー、重合トナーおよびスペシャルトナー（例えばＵＳ−Ａ−５６０７８０４および５６２０８２０を参照）に使用することができる。
【００９０】
もちろん、これをその他の着色剤、例えばモノ−およびジアゾ−およびイソインドリン顔料、例えばＣ.Ｉ.顔料イエロー１２、１３、１４、１７、１３９および１８５と組み合わせて使用することもできる。
【００９１】
実施例
Ａ）本発明によるキノフタロン誘導体Ｉの製造
実施例１
ＤＥ−Ａ−１７７０９６０の実施例１により製造したＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８ １００ｇを撹拌下に、約１０℃に冷却した１１質量％の発煙硫酸５００ｇ中に添加した。次いで、この混合物を９０℃に加熱し、この温度で６時間攪拌した。
【００９２】
２５℃に冷却した後、反応混合物を水５００ｇ中に添加した。このようにして沈殿した生成物を濾別し、水でスルフェート不含になるまで洗浄し、真空乾燥棚中で９０℃で乾燥した。
【００９３】
キノフタロン誘導体Ｉａ
【００９４】
【化１２】
【００９５】
１０８.８ｇが暗黄色粉末として得られ、これは収率９８％に相当する。
【００９６】
分析データ：
元素分析（計算値／測定値の質量％）：
Ｎ：３.６／３.６；Ｓ：４.１／４.０；
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２ＳＯ４）：δ＝８.１；８.１８；８.４７；８.６１ｐｐｍ。
【００９７】
実施例２
水２００ｇおよび実施例１からのキノフタロン誘導体Ｉａ２０ｇからなる混合物にジ獣脂ジメチルアンモニウムクロリド（Ditalgfettdimethylammoniumchlorid: Arquad（Ｒ） HC, Akzo Chemicals）の３３質量％水溶液４３.６５ｇを撹拌下に滴加した。懸濁液を７０℃に加熱し、この温度で３０分間攪拌した。
【００９８】
得られた生成物を濾別し、水で洗浄し、真空乾燥棚中で９０℃で乾燥させた。
【００９９】
ジ獣脂ジメチルアンモニウム塩Ｉｂ２７.４ｇが黄色粉末として得られ、これは収率７９％に相当する。
【０１００】
実施例３
フタルイミド２５.５ｇおよびパラホルムアルデヒド７.４ｇを撹拌下に交互に少量ずつ２５℃で３.６質量％の発煙硫酸５６０ｇ中に添加した。この混合物を５０℃に加熱し、３０分間この温度で攪拌した。実施例１に記載されたように、得られたＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８ １００ｇを添加した後、この混合物を１００℃に加熱し、更に３時間この温度で攪拌した。
【０１０１】
次いでこの反応混合物を水３５００ｇ中に添加し、６０℃で３０分間攪拌した。このようにして沈殿した生成物を濾別し、水で中性まで洗浄し、真空乾燥棚中で９０℃で乾燥した。
【０１０２】
キノフタロン誘導体Ｉｃ
【０１０３】
【化１３】
【０１０４】
１２１.２ｇが金黄色の粉末として得られ、これは収率９９％に相当する。
【０１０５】
分析データ：
元素分析（計算値／測定値の質量％）：
Ｎ：４.９／４.９；Ｃｌ：３３.３／３２.４。
【０１０６】
実施例４
ａ）クロロスルホン酸１２００ｇおよび実施例１に記載されたように、得られたＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８ ２００ｇからなる混合物を１２０℃に加熱し、この温度で２時間攪拌した。≦８０℃に冷却し、塩化チオニル１２３ｇを添加を添加した後、８０℃で更に３０分間攪拌した。
【０１０７】
２５℃に冷却した後、反応混合物を氷／水混合物３５００ｇ中に添加し、その際この温度が３℃を越えないような量の氷を添加した。
【０１０８】
１５分間の後攪拌の後、沈殿した生成物を濾別し、水でスルフェート不含になるまで洗浄し、乾燥することなく更に次の反応に使用する。
【０１０９】
ｂ）氷／水−混合物１０００ｇおよび工程ａ）からの水分含有生成物６１４ｇからなる混合物（含有量約１８.５％）を＜２℃に冷却した。混合物のｐＨ値を炭酸ナトリウム約８ｇの添加により８.７に調節した。引き続き、氷酢酸８.１５ｇでｐＨ値７に調節した、トリデシルアミン２９ｇと水１００ｇとからなる混合物を３０分かけて撹拌下に滴加した。その際５.７に低下したｐＨ−値を炭酸ナトリウムの添加により７に調節した。
【０１１０】
１時間の後攪拌の後、生成物を濾別し、水で中性に洗浄し、真空乾燥棚中で９０℃で乾燥した。
【０１１１】
キノフタロン誘導体Ｉｄ
【０１１２】
【化１４】
【０１１３】
１３１ｇが黄色粉末として得られ、これは収率９５％に相当する。
【０１１４】
分析データ：
元素分析（計算値／測定値の質量％）：
Ｃ：４９.０／４９.５；Ｎ：４.４／４.４；Ｃｌ：２９.７／３０.４。
【０１１５】
Ｂ）本発明による顔料組成物の製造および使用
実施例５〜２６
変法Ａ
振動ミル（容積１ｌ）中でＤＥ−Ａ−１７７０９６０の実施例１により得られた粗顔料の形のＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８ １００ｇを約１９００ｇの鉄製ボール（直径２ｃｍ）と共に４０時間振動台上で振動した。
【０１１６】
粉砕物９７ｇ、キノフタロン誘導体Ｉｘｇ、アミンＡｙｇおよびキシレン３００ｇからなる混合物を次いで、６５℃で５時間攪拌した。引き続き、溶剤を真空中で１２０℃で留去し、生成物をキシレン含量が＜０.１％になるまで乾燥した。
【０１１７】
変法Ｂ
粉砕を変法Ａと同様に実施するが、粗顔料９７ｇをキノフタロン誘導体Ｉｘｇの存在で粉砕した。
【０１１８】
得られた粉砕物を変法Ａと同様にアミンＡｙｇの添加下にキシレン中で再結晶した。
【０１１９】
両方の変法において、再形成処理した顔料を引き続き粉末とし、検査した。
【０１２０】
全ての変法において、得られた再形成処理したＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８が電子顕微鏡による検査において、粒度分布±２０ｎｍの範囲で平均粒度（ｄ５０−値）５０〜１００ｎｍの範囲を示した。
【０１２１】
それぞれ得られた顔料は非常に容易に全ての適用媒体中に分散可能である。アルキド／メラミン−アニール塗布において、透明な非常に帯緑色の光沢のある黄色の色調が得られる。
【０１２２】
この実験の詳細は第１表から明らかである。
【０１２３】
その際、以下の記号を使用した：
アミンＡ１：ジ獣脂ジメチルアンモニウムクロリド（Arquad HC, Akzo Chemicals）
アミンＡ２：ジ獣脂メチルアミン（Armeen（Ｒ） M2HT, Akzo Chemicals）
アミンＡ３：デヒドロアビエチルアミン（アミンＤ, Hercules）
【０１２４】
【表１】
【０１２５】
Ｃ）インク・ジェット・インキの製造
実施例２７
実施例５からの顔料組成物１５ｇ、ＵＳ−Ａ−４２１８２１８中に分散化剤１３として記載されている、オキシアルキル化フェノールをベースとする分散化剤Ｄ１０ｇ、１,２−プロピレングリコール５ｇおよび水性プロピレングリコール中の１,２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンの１０質量％溶液（殺生剤Ｅ１）０.５ｇを完全脱塩水で総質量１００ｇにし、ミル中で捏ねた。
【０１２６】
最終調節（４質量％の組成物）のために、得られた混合物２６.７ｇをトリエチレングリコールモノブチルエーテル３ｇ、ポリエチレングリコール５ｇ（Ｍｗ４００ｇ／ｍｏｌ）、ポリテトラヒドロフラン２５０（Ｍｗ２５０ｇ／ｍｏｌ、BASF）、グリセリン６ｇ、更なる殺生剤Ｅ１ ０.４ｇ、最初にエトキシル化し次いでプロポキシル化した２−（３−ヒドロキシプロピル）ヘプタメチルトリシロキサン（ＥＯ１１ｍｏｌ／ＰＯ５ｍｏｌ）をベースとする湿潤剤Ｆ０.５ｇおよび尿素１ｇと混合し、水で総質量１００ｇまで満たし、混合しかつ孔径１μｍの篩を介して濾過した。
【０１２７】
実施例２８および２９
実施例２８および２９のインク・ジェット・インキを実施例２７と同様にして製造した。
【０１２８】
得られたインク・ジェット・インキのその他の記載に関しては第２表にまとめた。パーセンテージの記載は質量％を意味する。殺生剤Ｅ２は水性エチレングリコール中の１,２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンの２０質量％溶液を表す。
【０１２９】
【表２】
本発明は、一般式Ｉ
【０００２】
【化６】
［式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５は相互に独立して、水素、ハロゲンまたはＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表し；
Ｒ４は−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ３ -Ｎ＋Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｒ９、−ＳＯ２ＮＲ６Ｒ７、−ＣＨ２ＮＲ６Ｒ７、−ＣＨ２Ｒ１０、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ-Ｎ＋Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｒ９、−ＣＯＯＲ１１、−ＣＯＲ１１、−ＮＯ２またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表し；
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は相互に独立して、水素；炭素鎖がそれぞれ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−、−ＣＯ−または−ＳＯ２−の群から選択された基１個または複数個で中断されていてよく、かつ／またはヒドロキシ、ハロゲン、アリール、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシおよび／またはアセチル基１個または複数個で置換されていてよいＣ１〜Ｃ２２−アルキルまたはＣ２〜Ｃ２２−アルケニル；炭素骨格が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−または−ＣＯ−の群から選択された基１個または複数個で中断されていてよく、かつ／またはヒドロキシ、ハロゲン、アリール、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシおよび／またはアセチル基１個または複数個で置換されていてよいＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル；デヒドロアビエチルまたはアリールを表し；Ｒ６およびＲ７もしくはＲ６、Ｒ７およびＲ８は一緒になって窒素原子を有する５〜７員の環状基を表し、これは更にヘテロ原子を有していてよい；
Ｒ１０は基
【０００４】
【化７】
を表し；
Ｒ１１はアルキル基Ｒ６の１つを表し；
Ｒ１２は水素またはＣ１〜Ｃ４−アルキルを表し；
Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は相互に独立して、アリーレンを表し、これはハロゲン、アリールスルホニルまたは−ＣＯＲ１３または−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−ＣＯ−により置換されていてよく；
Ｒ１３はＣ１〜Ｃ３−アルキルまたはフェニル基を表す］のキノフタロン誘導体およびその有機顔料のための結晶化改質剤としての使用に関する。
【０００６】
更に、本発明はキノフタロン顔料を微細な顔料形にするための方法に関する。
【０００７】
更に、本発明は等長の粒形を有し、粒度５０〜２００ｎｍ、粒度分布の幅±２０ｎｍを有する、一般式ＩＩ
【０００８】
【化８】
［式中、Ｒ２は水素、ハロゲンまたはＣ１〜Ｃ４−アルキルを表し；
Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６の１つは基
【００１０】
【化９】
を表し、他の基Ｒ１４〜Ｒ１６は水素を表し；
Ｘ１およびＸ２は相互に独立して、ハロゲン、アリールスルホニルまたは−ＣＯＲ１２または−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−ＣＯ−により置換されていてよいアリーレンを表し；
Ｒ１２はＣ１〜Ｃ３−アルキルまたはフェニル基を表す］のキノフタロン顔料、並びに
Ａ）式ＩＩのキノフタロン顔料少なくとも１種および
Ｂ）式Ｉのキノフタロン誘導体少なくとも１種を含有する顔料組成物、および
プラスチック、塗料、プリントインキ、インク・ジェット・インキ、カラーフィルターおよび電子写真トナーを着色するためのその使用に関する。
【００１２】
キノフタロン顔料はその安定性、特にその高い耐光性および耐候性並びに熱安定性のために、重要な黄色顔料を形成する。この顔料クラスの特に重要な代表としてはＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８を挙げることができる（参照ＤＥ−Ａ−１７７０９６０）。その他のキノフタロン顔料はＤＥ−Ａ−２６２６２７１、２６３８５２８および２７０６８７２中に記載されている。
【００１３】
合成の際に、キノフタロン顔料は不均一な粒度分布を有する粗な結晶形で析出する。適用のために好適で色的に価値のある顔料形に変換するために、この粗顔料を通常、再形成処理（Formierung）する。
【００１４】
ＤＥ−Ａ−２３５７０７７にはこの目的のために粗顔料の粉砕および引き続き粉砕物の再結晶を有機溶剤中で実施することが記載されており、ＤＥ−Ａ−２７４６１６４中には水性懸濁液の形で湿式粉砕を高速攪拌ボールミル中で実施することが記載されている。
【００１５】
記載された方法を用いて、部分的には高い時間の消費下に、粒子砕解およびこうして顔料の改良された色特性が達せられるが、得られる顔料の粒度を調節することは困難であり、この顔料は粒度分布が広すぎるので、一般に一連の適用、例えばインク・ジェット・インキ、カラーフルターおよび電子写真用のトナー中への着色剤としての適用には不十分である。
【００１６】
従って、本発明の課題は、これらの欠点を取り除き、有利な適用特性、特に有利な粒度分布を有するキノフタロン顔料を製造することにある。
【００１７】
こうして冒頭に定義した一般式Ｉのキノフタロン誘導体および有機顔料のための結晶化改質剤としてのその使用が見いだされた。
【００１８】
有利なキノフタロン誘導体Ｉは従属請求項から明らかである。
【００１９】
更に、キノフタロン粗顔料を微細な顔料形に変換するための方法が見いだされ、この方法はキノフタロン粗顔料をキノフタロン誘導体Ｉの存在下に再形成処理することを特徴とする。
【００２０】
更に、冒頭に定義した、等長の粒形を有し、粒度５０〜２００ｎｍ、粒度分布の幅±２０ｎｍを有する一般式ＩＩのキノフタロン顔料並びに顔料組成物が見いだされ、この組成物は
Ａ）式ＩＩのキノフタロン顔料少なくとも１種および
Ｂ）式Ｉのキノフタロン誘導体少なくとも１種を含有し、
更にプラスチック、塗料、プリントインキ、インク・ジェット・インキ、カラーフィルターおよび電子写真トナーを着色するためのその使用も見いだされた。
【００２１】
式Ｉおよび引き続いて記載される式Ｉ、ＩＩおよびＩＩＩ中に記載されている全てのアルキル鎖およびアルケニル鎖は直鎖または分枝鎖であってよい。
【００２２】
アルキル基の例としては、個別に例として以下に挙げる：メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、２−メチルペンチル、ヘプチル、１−エチルペンチル、オクチル、２−エチルヘキシル、イソオクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、イソトリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプチルデシル、オクタデシル、ノナデシルおよびエイコシル（前記のイソオクチル、イソノニル、イソデシルおよびイソトリデシルは慣用名であり、オキソ合成により得られたアルコールに由来する）。
【００２３】
炭素鎖がそれぞれ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−、−ＣＯ−または−ＳＯ２−の群から選択された基１個または複数個で中断されていてよいアルキル基、もしくはアルコキシ−およびアルカノイル置換アルキル基に関しての例としては以下の基を挙げることができる：
２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、２−プロポキシエチル、２−イソプロポキシエチル、２−ブトキシエチル、２−および３−メトキシプロピル、２−および３−エトキシプロピル、２−および３−プロポキシプロピル、２−および３−ブトキシプロピル、２−および４−メトキシブチル、２−および４−エトキシブチル、２−および４−プロポキシブチル、３,６−ジオキサヘプチル、３,６−ジオキサオクチル、４,８−ジオキサノニル、３,７−ジオキサオクチル、３,７−ジオキサノニル、４,７−ジオキサオクチル、４,７−ジオキサノニル、２−および４−ブトキシブチル、４,８−ジオキサデシル、３,６,９−トリオキサデシル、３,６,９−トリオキサウンデシル、３,６,９−トリオキサドデシル、３,６,９,１２−テトラオキサトリデシルおよび３,６,９,１２−テトラオキサテトラデシル；
２−メチルチオエチル、２−エチルチオエチル、２−プロピルチオエチル、２−イソプロピオチオエチル、２−ブチルチオエチル、２−および３−メチルチオプロピル、２−および３−エチルチオプロピル、２−および３−プロピルチオプロピル、２−および３−ブチルチオプロピル、２−および４−メチルチオブチル、２−および４−エチルチオブチル、２−および４−プロピルチオブチル、３,６−ジチアヘプチル、３,６−ジチアオクチル、４,８−ジチアノニル、３,７−ジチアオクチル、３,７−ジチアノニル、４,７−ジチアオクチル、４,７−ジチアノニル、２−および４−ブチルチオブチル、４,８−ジチアデシル、３,６,９−トリチアデシル、３,６,９−トリチアウンデシル、３,６,９−トリチアドデシル、３,６,９,１２−テトラチアトリデシルおよび３,６,９,１２−テトラチアテトラデシル；
２−モノメチル−および２−モノエチルアミノエチル、２−ジメチルアミノエチル、２−および３−ジメチルアミノプロピル、３−モノイソプロピルアミノプロピル、２−および４−モノプロピルアミノブチル、２−および４−ジメチルアミノブチル、６−メチル−３,６−ジアザヘプチル、３,６−ジメチル−３,６−ジアザヘプチル、３,６−ジアザオクチル、３,６−ジメチル−３,６−ジアザオクチル、９−メチル−３,６,９−トリアザデシル、３,６,９−トリメチル−３,６,９−トリアザウンデシル、１２−メチル−３,６,９,１２−テトラアザトリデシルおよび３,６,９,１２−テトラメチル−３,６,９,１２−テトラアザトリデシル；
プロパン−２−オン−１−イル、ブタン−３−オン−１−イル、ブタン−３−オン−２−イルおよび２−エチル−ペンタン−３−オン−１−イル；
２−メチルスルホニルエチル、２−エチルスルホニルエチル、２−プロピルスルホニルエチル、２−イソプロピルスルホニルエチル、２−ブチルスルホニルエチル、２−および３−メチルスルホニルプロピル、２−および３−エチルスルホニルプロピル、２−および３−プロピルスルホニルプロピル、２−および３−ブチルスルホニルプロピル、２−および４−メチルスルホニルブチル、２−および４−エチルスルホニルブチル、２−および４−プロピルスルホニルブチルおよび４−ブチルスルホニルブチル。
【００２４】
Ｃ２〜Ｃ２２−アルケニル基の例としては例えばオレイル、リノレイルおよびリノレニルを挙げることができる。
【００２５】
アルコキシ基の例としてはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシおよびｔ−ブトキシを挙げることができる。
【００２６】
シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルおよびシクロオクチルを挙げることができる。ヘテロ原子を含有するシクロアルキル基は例えばジオキサニル、モルホリニル、テトラヒドロフリル、ピロリジニルおよびピペリジニルを挙げることができる。
【００２７】
アリール基は例えばフェニルおよび１−および２−ナフチルである。
【００２８】
ハロゲンは特に塩素または臭素であり、この際塩素が有利である。
【００２９】
置換されたアルキル基は有利に炭素原子を６個まで有し、有利に１または２個の置換基を有する鎖である。例えば以下のものである：２−ヒドロキシエチル、２−および３−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシプロプ−２−イルおよび２−および４−ヒドロキシブチルおよびベンジル。
【００３０】
Ｒ６およびＲ７もしくはＲ６〜Ｒ８から構成された窒素原子含有の５〜７員の環状基であって、ベンゼン環が縮合していてよい環状基の例は以下の基である：モルホリニル、ピロリジニル、ピペリジル、ピリル（Pyrryl）、ピリジル、ピリミジル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、トリアジル、キナルジル（Chinaldyl）、キノリニル、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾイミジゾリルおよびイソキノリル。
【００３１】
アリーレン基および置換されたアリーレン基Ｘ１〜Ｘ３の例は１,２−フェニレン、テトラクロロ−およびテトラブロモ−１,２−フェニレン、１,２−ナフチレン、２,３−ナフチレン、１,８−ナフチレンおよび２,２′−ビフェニレンであり、その際１,２−フェニレンおよびテトラクロロ−１,２−フェニレンが有利である。
【００３２】
アシル基は例えばアセチル、プロピオニル、ブチリルおよびベンジルである。
【００３３】
好適なアルコキシカルボニル基は例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルビニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニルおよびヘキソキシカルボニルである。
【００３４】
アシル基の例はメチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、ブチルカルボニルおよびペンチルカルボニルである。
【００３５】
アリールスルホニル基の例としては特にフェニルスルホニルおよび置換されたフェニルスルホニル、例えばｐ−トリルスルホニル、ｐ−クロロフェニルスルホニルおよびｐ−ブロムフェニルスルホニルを挙げることができる。
【００３６】
キノフタロン誘導体Ｉの製造のためには有利に一般式ＩＩＩ
【００３７】
【化１０】
のキノフタロンから出発する。
【００３９】
キノフタロンＩＩＩと発煙硫酸との反応により、Ｒ４が−ＳＯ３Ｈである一般式Ｉのキノフタロン誘導体が得られる。
【００４０】
このスルホン化のために、三酸化硫黄含量が０.１〜６５質量％、特に５〜２５質量％の発煙硫酸を使用するのが有利である。
【００４１】
発煙硫酸の量はそれほど厳密ではない。発煙硫酸は同時に溶剤としても働くので、少なくとも溶液が攪拌可能である程度に発煙硫酸を使用するべきである。通常、キノフタロンＩＩＩ １ｇあたり発煙硫酸１〜１０ｇ、有利には約３〜７ｇを使用する。
【００４２】
反応温度は一般に０〜２００℃、有利に５０〜１００℃である。
【００４３】
反応時間は１〜２０時間であってよい。一般に、レギオ選択性に行われるスルホン化は約６時間内に終了する。
【００４４】
生成物の単離は通常反応混合物の氷水中での加水分解の後に濾過により行われる。
【００４５】
その後のアミンまたは四級アンモニウム塩との反応によりスルホン化したキノフタロン誘導体Ｉを相応するアンモニウム塩Ｉ（Ｒ４：−ＳＯ３ -Ｎ＋Ｒ６Ｒ７Ｒ８Ｒ９）に変換することができ、これはスルホン化キノフタロン誘導体Ｉより強く結晶成長を阻止し、かつ特に良好な分散性の顔料の形成に作用する。
【００４６】
アミンとしては第１、第２および第３アミンを考慮することができる。第２および第３アミンはそれぞれ同じまたは異なるアルキル基を有していてよい。例えば線状、水素化または不飽和アルキル基を有する脂肪族アミンも好適である。炭素原子６個までの短いアルキル基は有利でありかつ／またはヒドロキシ、アセチル、メトキシ、エトキシ、塩素および臭素からなる有利な群からの２個までの置換基を有しているのが有利である。
【００４７】
特に有利なアミンおよびアンモニウム塩の例は、ステアリルアミン、メチルジステアリルアミン、ジメチルステアリルアミンおよびデヒドロアビエチルアミンおよびジメチルジステアリルアンモニウム塩である。
【００４８】
アンモニウム塩形成は一般に通常の方法で有機溶剤、水または水性／有機性媒体中で実施することができる。好適な反応温度は一般に２０〜１００℃である。生成物は同様に濾過により単離することができる。
【００４９】
しかしながら、アンモニウム塩は、本発明による、粉砕および再結晶を包含する顔料再形成処理法において、スルホキノフタロン誘導体Ｉおよびアミンもしくはアンモニウム塩の約当量をこの両方の再形成処理工程の一方で添加することにより、初めて製造することができる。
【００５０】
一般式Ｉのキノフタロン誘導体（Ｒ４が−ＳＯ２ＮＲ６Ｒ７を表す）の製造は、有利にスルホクロル化、引き続きアミド化により行うことができる。
【００５１】
キノフタロンＩＩＩのスルホクロル化のためには通常クロロスルホン酸を使用する。全てのスルホン酸基が酸クロリドに変換されていることを確実にするために、得られた生成物を付加的に更に塩化チオニルと反応させるのが有利である。
【００５２】
クロロスルホン酸の量は同様に厳密ではない。しかしながら、攪拌可能な溶液を得るために、キノフタロンＩＩＩ １ｇ当たり、クロロスルホン酸を通常１〜１０ｇ、有利に約４ｇの量で使用する。
【００５３】
一般に、この反応を８０〜１８０℃、有利に１００〜１３０℃で実施し、約１〜２０時間、有利に約２時間続ける。
【００５４】
生成物を後から更に塩化チオニルと反応させる場合、この得られた反応混合物を有利に約７０〜８０℃に冷却し、次いで一般にキノフタロンＩＩＩ １ｇ当たり塩化チオニルを一般に０.３ｇ〜１ｇ、特に０.４〜０.７ｇ添加する。
【００５５】
一般に０.５〜２時間の更なる反応時間の後に、部位選択性モノスルホクロル化生成物を氷水中での加水分解の後濾別により単離することができる。通常、次いで予め乾燥することなくアミド化を実施する。アミド化は第１または第２アミンを用いて実施する。前記のアミンをこの反応に使用するのが有利である。
【００５６】
有利にアミド化をほぼ中性の、水性媒体中で実施する。ｐＨ値を約７に保持するために、緩衝剤、例えば酢酸ナトリウムの存在で実施するのが推奨される。通常、アミド化を０〜２０℃の温度で実施し、約０.５〜５時間、特に１〜２時間続ける。
【００５７】
Ｒ４が−ＣＨ２ＮＲ６Ｒ７または−ＣＨ２Ｒ１０を表す一般式Ｉのキノフタロン誘導体はチェルニアック・アインホルン反応（Tscherniac-Einhorn-Reaktion）でキノフタロンＩＩＩのメチルアミド化により得ることができる。
【００５８】
有利なフタルイミドメチルキノフタロンＩはパラホルムアルデヒドおよびフタルイミドを、三酸化硫黄を０.１〜１０質量％、有利に３質量％含有していてよい濃硫酸（０.１〜１０質量％の、有利に３質量％の発煙硫酸）中で反応させることにより製造することができる。
【００５９】
一般に、キノフタロンＩＩＩ １ｇ当たりパラホルムアルデヒド０.０５〜０.２ｇ、有利に０.０６〜０.１ｇおよびフタルイミド０.１〜０.３ｇ、有利に０.２〜０.２５ｇを使用する。
【００６０】
硫酸もしくは発煙硫酸の量は厳密ではない。一般にキノフタロンＩＩＩ １ｇ当たり１〜１０ｇ、特に約５ｇを使用する。
【００６１】
有利にはこの反応法は技術的に硫酸または発煙硫酸を装入し、フタルイミドおよびパラホルムアルデヒドを交互に添加し、４０〜６０℃において約０.５〜２時間の反応時間の後、キノフタロンＩＩＩを添加し、この混合物を８０〜１２０℃で約２〜５時間反応させる。
【００６２】
生成物の単離は通常水中での反応混合物の加水分解の後、濾別することにより行われる。
【００６３】
式中Ｒ４が−ＣＯＲ１１またはＣ１〜Ｃ４−アルキル基を表す、一般式Ｉのキノフタロン誘導体はキノフタロンＩＩＩの通常のフリーデル・クラフト・アシル化もしくはフリーデル・クラフト・アルキル化により得ることができる。Ｒ４が−ＣＯＯＨまたは−ＣＯＯＲ１１を表す式Ｉのキノフタロン誘導体はＩＩＩのフリーデル・クラフト・アシル化および引き続き水またはアルコールとの反応により得られる。ニトロ基を置換基Ｒ４として有するキノフタロン誘導体Ｉは最終的にキノフタロン誘導体ＩＩＩのニトロ化により得られる。
【００６４】
キノフタロン誘導体Ｉは有機顔料のための結晶化改質剤として著しく優れている。これは粗顔料を適用のために好適な微細な、狭い粒度分布を有する顔料形にすることを可能にする。
【００６５】
これはキノフタロン顔料のための、有利に冒頭に挙げた式ＩＩのキノフタロン顔料のための、特に有利に式中Ｒ２、Ｒ１４およびＲ１５が水素を表す式ＩＩのキノフタロン顔料のための、より有利にはＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８のための結晶化改質剤として特に重要である。
【００６６】
キノフタロン顔料の微細な顔料形への変換のための本発明による方法において、粗顔料再形成処理を１種または複数種のキノフタロン誘導体Ｉの存在下に実施する。
【００６７】
本発明による方法の有利な変法は、合成の際に生じる粗顔料を、有利に粉砕助剤の存在下に粉砕し、引き続き得られた粉砕物をキノフタロン誘導体Ｉの存在で有機溶剤中または有機溶剤と水とからなる混合物中で再結晶させることよりなる。
【００６８】
第２の有利な変法は、キノフタロン誘導体Ｉの存在下に粉砕を実施し、引き続き得られた粉砕物を有機溶剤または有機溶剤と水とからの混合物中で再結晶するということからなる。
【００６９】
もちろん、キノフタロン誘導体Ｉを再形成処理工程とは異なる工程中に部分量で添加することもできる。
【００７０】
最後に、粉砕を再結晶に作用する溶剤、例えばＣ２〜Ｃ４−アルカノール、グリコール、グリコールエーテルおよびフタル酸ジアルキルエステル、特にフタル酸ジエチルエステルおよび殊にフタル酸ジメチルエステルの存在で直接実施することもできる。この場合、引き続く再結晶工程は実施する必要はない。
【００７１】
一般に、粗顔料に対してキノフタロン誘導体Ｉを０.１〜１０質量％、有利に２〜５質量％使用する。
【００７２】
粉砕はボールミル、振動ミル、遊星形ミルまたは攪拌ボールミル中で実施することができる。好適な粉砕体は、例えば鉄製ボール、シリコン／アルミニウム／酸化ジルコニウムビーズ、ガラスビーズ、メノウボールおよび砂粒であって、その直径は０.１〜５ｃｍの範囲である。
【００７３】
有利には粉砕物が平均１次粒度＜３０ｎｍを有するまで粉砕する。これに相応して粉砕時間は通常１０〜６０時間、特に３０〜５０時間である。
【００７４】
引き続き再結晶のためには多くの有機溶剤を使用することができる。
【００７５】
好適な溶剤はアルコール、特に炭素原子１０個までを有するアルコール、エーテルアルコール、エーテル、ケトン、カルボン酸、特に炭素原子４個までを有するカルボン酸、カルボン酸アミド、カルボン酸エステル並びに脂環式および芳香族炭化水素である。もちろんこれらの溶剤の混合物も使用することができる。例としては個々に挙げることができる：
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、アミルアルコール、イソアミルアルコール、ヘキサノール、イソヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、２−エチルヘキサノール、エチレングリコール、１,２−および１,３−プロピレングリコール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコールおよび２−フェニルエタノール；
エチレングリコールモノメチル−、−エチル−および−ブチルエーテルおよびジエチレングリコールモノメチル−および−エチルエーテル；
ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチル−および−ジエチルエーテル；
アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノンおよびプロピオフェノン；
蟻酸、酢酸、プロピオン酸および酪酸；
フォルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−およびＮ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−およびＮ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−およびＮ，Ｎ−ジエチルプロピオン酸アミドおよびＮ−メチルピロリドン；
フタル酸ジメチルエステルおよびフタル酸ジエチルエステル；
シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ナフタリンおよびメチルナフタリン。
【００７６】
再結晶のために、後処理の際に例えば水での洗浄、水との共沸蒸留、水蒸気蒸留または全配合物の乾燥により（例えば溶剤の留去により）容易に除去することができる溶剤を使用するのが有利である。
【００７７】
特に有利であるのは、沸点≦１５０℃を有し、分解せずかつ残分を残さずに蒸発可能な、例えばＣ１〜Ｃ５−アルカノール、ケトン、例えばメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフランおよびジオキサンおよび炭化水素、例えばシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびクロロベンゼンおよびこれらの混合物、その際キシレンおよびトルエンは特に有利である。
【００７８】
溶剤の量は一般に厳密ではなく、広い範囲で変化させることができる。一般に粉砕物ｇあたり溶剤３〜６ｇ、有利に４〜５ｇを使用する。通常、再結晶は２５〜１４０℃、特に６０〜１００℃の温度で実施する。
【００７９】
再結晶は粉砕物を溶剤中に分散下にまたは粉砕物を単に溶剤中に放置することによっても実施することができる。粉砕物および溶剤からなる混合物を攪拌するのが有利である。
【００８０】
再結晶工程の時間は温度および溶剤に依存する。一般には再結晶は１〜１０時間で終了する。
【００８１】
本発明による再形成処理法を用いて、得られるキノフタロン顔料の平均粒度をキノフタロン誘導体Ｉの量を介して目的を持って変化させることができ、それぞれ所望の値に、５０〜１００ｎｍの範囲で、粒度分布±２０ｎｍの幅で調節する。
【００８２】
特に微細なキノフタロン顔料の形成は、再形成処理の際に（粉砕および／または再結晶の際に）更なる顔料助剤を添加することにより、支持される。
【００８３】
この際、アリールジイソシアネートへのアミンの二重の付加により得られる、置換した尿素をベースとする添加物が特に好適である。この際、ＤＥ−Ａ−２９０６１１１から公知の式：
【００８４】
【化１１】
［式中、Ｋは１,５−ナフチレンまたは４,４′−ジフェニレンメタンを表し、ＲはＣ１２〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ１２〜Ｃ１８−アルケニル、Ｃ８〜Ｃ１８−アルコキシプロピルまたは−（ＣＨ２）３−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｎ−Ｏ−Ｒ１を表し、Ｒ１はＣ２〜Ｃ８−アルキルまたはフェニルを表し、ｎは１〜４を表す］の尿素誘導体が有利である。有利な助剤の例としてはナフタリン−１,５−ジイソシアネートに３−オクトキシプロピレンアミン２モルを添加することにより得られる生成物を挙げることができる。
【００８６】
このようにして得られる顔料組成物は、この助剤を成分（Ｃ）として有利にキノフタロン顔料（Ａ）に対して１〜１０質量％の量で含有する。
【００８７】
本発明による再形成処理法において得られるキノフタロン顔料およびこれに相応する、（Ａ）少なくとも１種のキノフタロン顔料および（Ｂ）少なくとも１種のキノフタロン誘導体（Ｂ）を含有する、同様に本発明による顔料組成物は、その優れた色彩およびレオロジーに関する特性並びに耐性、特に高い透明性、高い色強度および高い光沢、容易な分散性および申し分のない上塗り耐性（Ueberlackerechtheit）、溶剤耐性および耐候性により優れている。アルキド／メラミン−アニール塗布における適用の際に、通常以下の色彩特性が達せられる：色相（hue）：８２〜８６゜；明度Ｌ≧８０；クロマＣ≧９０；透明性（散乱−デルタ−Ｅ(Streu-Delta-E)で測定）≦９５〜約４０。
【００８８】
これは多くの適用媒体の、例えばプラスチック、溶剤含有および水をベースとする塗料の着色のために、およびその透明性のために特に全ての汎用されている印刷法、例えばオフセット印刷、凹板印刷、包装印刷、ブリキ印刷および繊維プリントにおいて使用されるプリントインキの着色のために好適である。
【００８９】
特に、その微細な粒状によりインク・ジェット・インキ、カラーフィルターおよび電子写真用トナーおよび現像剤、例えば一成分、二成分および多成分粉末トナー（一成分または二成分現像剤も挙げられる）、マグネットトナー、液体トナー、重合トナーおよびスペシャルトナー（例えばＵＳ−Ａ−５６０７８０４および５６２０８２０を参照）に使用することができる。
【００９０】
もちろん、これをその他の着色剤、例えばモノ−およびジアゾ−およびイソインドリン顔料、例えばＣ.Ｉ.顔料イエロー１２、１３、１４、１７、１３９および１８５と組み合わせて使用することもできる。
【００９１】
実施例
Ａ）本発明によるキノフタロン誘導体Ｉの製造
実施例１
ＤＥ−Ａ−１７７０９６０の実施例１により製造したＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８ １００ｇを撹拌下に、約１０℃に冷却した１１質量％の発煙硫酸５００ｇ中に添加した。次いで、この混合物を９０℃に加熱し、この温度で６時間攪拌した。
【００９２】
２５℃に冷却した後、反応混合物を水５００ｇ中に添加した。このようにして沈殿した生成物を濾別し、水でスルフェート不含になるまで洗浄し、真空乾燥棚中で９０℃で乾燥した。
【００９３】
キノフタロン誘導体Ｉａ
【００９４】
【化１２】
１０８.８ｇが暗黄色粉末として得られ、これは収率９８％に相当する。
【００９６】
分析データ：
元素分析（計算値／測定値の質量％）：
Ｎ：３.６／３.６；Ｓ：４.１／４.０；
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２ＳＯ４）：δ＝８.１；８.１８；８.４７；８.６１ｐｐｍ。
【００９７】
実施例２
水２００ｇおよび実施例１からのキノフタロン誘導体Ｉａ２０ｇからなる混合物にジ獣脂ジメチルアンモニウムクロリド（Ditalgfettdimethylammoniumchlorid: Arquad（Ｒ） HC, Akzo Chemicals）の３３質量％水溶液４３.６５ｇを撹拌下に滴加した。懸濁液を７０℃に加熱し、この温度で３０分間攪拌した。
【００９８】
得られた生成物を濾別し、水で洗浄し、真空乾燥棚中で９０℃で乾燥させた。
【００９９】
ジ獣脂ジメチルアンモニウム塩Ｉｂ２７.４ｇが黄色粉末として得られ、これは収率７９％に相当する。
【０１００】
実施例３
フタルイミド２５.５ｇおよびパラホルムアルデヒド７.４ｇを撹拌下に交互に少量ずつ２５℃で３.６質量％の発煙硫酸５６０ｇ中に添加した。この混合物を５０℃に加熱し、３０分間この温度で攪拌した。実施例１に記載されたように、得られたＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８ １００ｇを添加した後、この混合物を１００℃に加熱し、更に３時間この温度で攪拌した。
【０１０１】
次いでこの反応混合物を水３５００ｇ中に添加し、６０℃で３０分間攪拌した。このようにして沈殿した生成物を濾別し、水で中性まで洗浄し、真空乾燥棚中で９０℃で乾燥した。
【０１０２】
キノフタロン誘導体Ｉｃ
【０１０３】
【化１３】
１２１.２ｇが金黄色の粉末として得られ、これは収率９９％に相当する。
【０１０５】
分析データ：
元素分析（計算値／測定値の質量％）：
Ｎ：４.９／４.９；Ｃｌ：３３.３／３２.４。
【０１０６】
実施例４
ａ）クロロスルホン酸１２００ｇおよび実施例１に記載されたように、得られたＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８ ２００ｇからなる混合物を１２０℃に加熱し、この温度で２時間攪拌した。≦８０℃に冷却し、塩化チオニル１２３ｇを添加を添加した後、８０℃で更に３０分間攪拌した。
【０１０７】
２５℃に冷却した後、反応混合物を氷／水混合物３５００ｇ中に添加し、その際この温度が３℃を越えないような量の氷を添加した。
【０１０８】
１５分間の後攪拌の後、沈殿した生成物を濾別し、水でスルフェート不含になるまで洗浄し、乾燥することなく更に次の反応に使用する。
【０１０９】
ｂ）氷／水−混合物１０００ｇおよび工程ａ）からの水分含有生成物６１４ｇからなる混合物（含有量約１８.５％）を＜２℃に冷却した。混合物のｐＨ値を炭酸ナトリウム約８ｇの添加により８.７に調節した。引き続き、氷酢酸８.１５ｇでｐＨ値７に調節した、トリデシルアミン２９ｇと水１００ｇとからなる混合物を３０分かけて撹拌下に滴加した。その際５.７に低下したｐＨ−値を炭酸ナトリウムの添加により７に調節した。
【０１１０】
１時間の後攪拌の後、生成物を濾別し、水で中性に洗浄し、真空乾燥棚中で９０℃で乾燥した。
【０１１１】
キノフタロン誘導体Ｉｄ
【０１１２】
【化１４】
１３１ｇが黄色粉末として得られ、これは収率９５％に相当する。
【０１１４】
分析データ：
元素分析（計算値／測定値の質量％）：
Ｃ：４９.０／４９.５；Ｎ：４.４／４.４；Ｃｌ：２９.７／３０.４。
【０１１５】
Ｂ）本発明による顔料組成物の製造および使用
実施例５〜２６
変法Ａ
振動ミル（容積１ｌ）中でＤＥ−Ａ−１７７０９６０の実施例１により得られた粗顔料の形のＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８ １００ｇを約１９００ｇの鉄製ボール（直径２ｃｍ）と共に４０時間振動台上で振動した。
【０１１６】
粉砕物９７ｇ、キノフタロン誘導体Ｉｘｇ、アミンＡｙｇおよびキシレン３００ｇからなる混合物を次いで、６５℃で５時間攪拌した。引き続き、溶剤を真空中で１２０℃で留去し、生成物をキシレン含量が＜０.１％になるまで乾燥した。
【０１１７】
変法Ｂ
粉砕を変法Ａと同様に実施するが、粗顔料９７ｇをキノフタロン誘導体Ｉｘｇの存在で粉砕した。
【０１１８】
得られた粉砕物を変法Ａと同様にアミンＡｙｇの添加下にキシレン中で再結晶した。
【０１１９】
両方の変法において、再形成処理した顔料を引き続き粉末とし、検査した。
【０１２０】
全ての変法において、得られた再形成処理したＣ.Ｉ.顔料イエロー１３８が電子顕微鏡による検査において、粒度分布±２０ｎｍの範囲で平均粒度（ｄ５０−値）５０〜１００ｎｍの範囲を示した。
【０１２１】
それぞれ得られた顔料は非常に容易に全ての適用媒体中に分散可能である。アルキド／メラミン−アニール塗布において、透明な非常に帯緑色の光沢のある黄色の色調が得られる。
【０１２２】
この実験の詳細は第１表から明らかである。
【０１２３】
その際、以下の記号を使用した：
アミンＡ１：ジ獣脂ジメチルアンモニウムクロリド（Arquad HC, Akzo Chemicals）
アミンＡ２：ジ獣脂メチルアミン（Armeen（Ｒ） M2HT, Akzo Chemicals）
アミンＡ３：デヒドロアビエチルアミン（アミンＤ, Hercules）
【０１２４】
【表１】
Ｃ）インク・ジェット・インキの製造
実施例２７
実施例５からの顔料組成物１５ｇ、ＵＳ−Ａ−４２１８２１８中に分散化剤１３として記載されている、オキシアルキル化フェノールをベースとする分散化剤Ｄ１０ｇ、１,２−プロピレングリコール５ｇおよび水性プロピレングリコール中の１,２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンの１０質量％溶液（殺生剤Ｅ１）０.５ｇを完全脱塩水で総質量１００ｇにし、ミル中で捏ねた。
【０１２６】
最終調節（４質量％の組成物）のために、得られた混合物２６.７ｇをトリエチレングリコールモノブチルエーテル３ｇ、ポリエチレングリコール５ｇ（Ｍｗ４００ｇ／ｍｏｌ）、ポリテトラヒドロフラン２５０（Ｍｗ２５０ｇ／ｍｏｌ、BASF）、グリセリン６ｇ、更なる殺生剤Ｅ１ ０.４ｇ、最初にエトキシル化し次いでプロポキシル化した２−（３−ヒドロキシプロピル）ヘプタメチルトリシロキサン（ＥＯ１１ｍｏｌ／ＰＯ５ｍｏｌ）をベースとする湿潤剤Ｆ０.５ｇおよび尿素１ｇと混合し、水で総質量１００ｇまで満たし、混合しかつ孔径１μｍの篩を介して濾過した。
【０１２７】
実施例２８および２９
実施例２８および２９のインク・ジェット・インキを実施例２７と同様にして製造した。
【０１２８】
得られたインク・ジェット・インキのその他の記載に関しては第２表にまとめた。パーセンテージの記載は質量％を意味する。殺生剤Ｅ２は水性エチレングリコール中の１,２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンの２０質量％溶液を表す。
【０１２９】
【表２】
Claims (8)
- 一般式Ｉ
Ｒ １ 、Ｒ ２ 、Ｒ ３ およびＲ ５ は水素を表し；
Ｒ ４ は−ＳＯ ３ Ｈ、−ＳＯ ３ - Ｎ ＋ Ｒ ６ Ｒ ７ Ｒ ８ Ｒ ９ 、−ＳＯ ２ ＮＲ ６ Ｒ ７ 、−ＣＨ ２ ＮＲ ６ Ｒ ７ または−ＣＨ ２ Ｒ １０ を表し；
Ｒ ６ 、Ｒ ７ 、Ｒ ８ およびＲ ９ は相互に独立して、水素；炭素鎖がそれぞれ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ １２ −、−ＣＯ−または−ＳＯ ２ −の群から選択された基１個または複数個で中断されていてよく、かつヒドロキシ、ハロゲン、アリール、Ｃ １ 〜Ｃ ４ −アルコキシおよび／またはアセチル基１個または複数個で置換されていてよいＣ １ 〜Ｃ ２２ −アルキルまたはＣ ２ 〜Ｃ ２２ −アルケニル；シクロヘキシル；デヒドロアビエチルまたはアリールを表し；
Ｒ １０ は基
Ｒ １２ は水素またはＣ １ 〜Ｃ ４ −アルキル基を表し；
Ｘ １ およびＸ ２ は１,２−フェニレンを表し、これは置換基としてハロゲン原子４個までを有していてよく；
Ｘ ３ はハロゲン、アリールスルホニルまたは−ＣＯＲ １３ または−ＣＯ−Ｃ ６ Ｈ ４ −ＣＯ−により置換されていてよいアリーレンを表し；
Ｒ １３ はＣ １ 〜Ｃ ３ −アルキルまたはフェニル基を表す］のキノフタロン誘導体。 - 請求項１記載の式Ｉのキノフタロン誘導体の有機顔料のための結晶化改質剤としての使用。
- 粗キノフタロン顔料を請求項１記載の式Ｉのキノフタロン誘導体１種または複数種の存在下に再形成処理することを特徴とする、粗キノフタロン顔料の顔料微粒子形への変換法。
- 合成の際に生じた粗キノフタロン顔料を粉砕助剤の不存在下に粉砕し、引き続き得られた粉砕物をキノフタロン誘導体の存在下に有機溶剤中または有機溶剤と水とからなる混合物中で再結晶する、請求項３記載の方法。
- 合成の際に生じた粗キノフタロン顔料をキノフタロン誘導体の存在下に粉砕し、引き続き得られた粉砕物を有機溶剤中または有機溶剤と水とからなる混合物中で加温する、請求項３記載の方法。
- Ａ）一般式ＩＩ
Ｒ １４ 、Ｒ １５ およびＲ １６ の１つは基
Ｘ １ およびＸ ２ は相互に独立して、ハロゲン、アリールスルホニルまたは−ＣＯＲ １２ または−ＣＯ−Ｃ ６ Ｈ ４ −ＣＯ−により置換されていてよいアリーレンを表し；
Ｒ １２ はＣ １ 〜Ｃ ３ −アルキルまたはフェニル基を表す］のキノフタロン顔料少なくとも１種および
Ｂ）請求項１記載の一般式Ｉのキノフタロン誘導体少なくとも１種を含有する、顔料組成物。 - キノフタロン顔料（Ａ）に対して１〜１０質量％のキノフタロン誘導体（Ｂ）を含有する、請求項６記載の顔料組成物。
- 請求項６または７記載のキノフタロン顔料組成物の、プラスチック、塗料、プリントインキ、インク・ジェット・インキ、カラーフィルターおよび電子写真トナーおよび電子写真現像剤を着色するための使用。
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