JP4959147B2 - 画像表示装置 - Google Patents
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Description
[1] 支持体上に、透明電極層と、ゲート絶縁膜及び有機化合物を含有する半導体活性層を有する電界効果型トランジスタと、電界に応じて光学特性が変化する表示層と、200nm以上410nm以下の光を90%以上吸収し410nmを超えて500nm以下の光を放射する蛍光増白剤を含む層と、をこの順に有することを特徴とする画像表示装置。
一般式(1)
[9] 前記二色性色素の含有率が、ホスト液晶の含有率に対して0.1質量%以上15質量%以下であることを特徴とする前記[8]に記載の画像表示装置。
[10] 前記ゲストホスト液晶方式の表示層の厚さが、1μm以上100μm以下であることを特徴とする前記[6]に記載の画像表示装置。
半導体活性層に有機化合物が用いられると、紫外線等に対する耐久性に問題が生じる場合があったが、本発明では、200nm以上410nm以下の光を90%以上吸収し410nmを超えて500nm以下の光を放射する蛍光増白剤を含む層を別途設けることで、耐久性を高めることに成功した。
なお、半導体活性層に紫外線吸収剤を含有させる場合に比べ、蛍光増白剤を含む層を別途設けると、半導体活性層における半導体の性能を低下させることなく、耐久性を高めることができる点で好適である。
本発明に用いられる支持体としては、プラスチック基板、ガラス基板、紙、金属基板などが用いられるが、好ましくは、プラスチック基板である。プラスチック基板としては、たとえば、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シンジオタクチックポリスチレンン(SPS)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート(PAr)、ポリスルフォン(PSF)、ポリエステルスルフォン(PES)、ポリエーテルイミド(PEI)、環状ポリオレフィン、ポリイミド(PI)などが挙げられる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレート(PET)である。
熱硬化性樹脂の例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂などが挙げられる。
架橋方法としては共有結合を形成する反応であれば特に制限なく用いることができ、ポリアルコール化合物とポリイソシアネート化合物を用いて、ウレタン結合を形成するような室温で反応が進行する系も特に制限なく使用できる。ただし、このような系は製膜前のポットライフが問題になる場合が多く、通常、製膜直前にポリイソシアネート化合物を添加するような2液混合型として用いられる。一方で1液型として用いる場合、架橋反応に携わる官能基を保護しておくことが有効であり、ブロックタイプ硬化剤として市販もされている。市販されているブロックタイプ硬化剤として、三井武田ケミカル(株)製B−882N、日本ポリウレタン工業(株)製コロネート2513(以上ブロックポリイソシアネート)、三井サイテック(株)製サイメル303(メチル化メラミン樹脂)などが知られている。また、エポキシ樹脂の硬化剤として用いることのできるポリカルボン酸を保護した下記B−1で表されるようなブロック化カルボン酸も知られている。
ラジカル硬化性樹脂の代表的な硬化方法として、電子線を照射する方法、紫外線を照射する方法が挙げられる。通常、紫外線を照射する方法においては紫外線照射によりラジカルを発生する重合開始剤を添加する。なお、加熱によりラジカルを発生する重合開始剤を添加すれば、熱硬化性樹脂として用いることもできる。
カチオン硬化性樹脂の硬化性成分としては、分子内に複数個のカチオン重合性基を有する化合物が用いられ、代表的な硬化方法として紫外線の照射により酸を発生する光酸発生剤を添加し、紫外線を照射して硬化する方法が挙げられる。カチオン重合性化合物の例としては、エポキシ基などの開環重合性基を含む化合物やビニルエーテル基を含む化合物を挙げることができる。
さらにいずれの場合もヘイズは3%以下が好ましく、より好ましくは2%以下、さらに好ましくは1%以下、全光透過率は70%以上が好ましく、より好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。ヘイズは、ヘイズメーター(例えば、日本電色工業製)によって測定され、全光透過率は、可視・紫外吸収スペクトロスコピーによって測定される。
透明電極層としては、例えば、酸化インジウム、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化スズ等から形成することができる。透明電極については、たとえば、「液晶デバイスハンドブック」(日本学術振興会第142委員会編、日刊工業新聞社、1989年)の第232〜239頁に記載のものが用いられる。
透明電極は、スパッタ法、ゾルゲル法、印刷法により形成することができる。
本発明の画像表示装置に用いられる電界効果型トランジスタは、ゲート絶縁膜、半導体活性層を有し、更にゲート電極、ソース電極、及びドレイン電極を有する。
図1に電界効果型トランジスタの構成の概略断面図を示す。基板(支持体)1上にゲート電極2を設け、その上にゲート絶縁膜3を備える。更にその上に、ソース電極4及びドレイン電極5を設け、その上に半導体活性層6を備える有機TFT7である。
半導体活性層6は有機化合物で構成され、該有機化合物としてはπ共役系化合物が好ましく、たとえば、ポリチオフェン誘導体、ポリエチレンとポリチオフェンの共重合体誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、フタロシアニン誘導体、ペンタセン誘導体、フラーレン誘導体、カーボンナノチューブ誘導体などが挙げられる。
より好ましくは、ペンタセン誘導体、ポリチオフェン誘導体であり、具体的には、ヘキシルオリゴチオフェン、ペンタセン、カーボンナノチューブ等である。
上記非水系有機溶媒の例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン、キシレン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明にかかる電界効果トランジスタのゲート領域、ソース領域、ドレイン領域に用いる電極としては、導電性材料であれば特に限定されず、白金、金、銀、ニッケル、クロム、銅、鉄、錫、アンチモン鉛、タンタル、インジウム、アルミニウム、亜鉛、マグネシウム、及びこれらの合金や、インジウム・錫酸化物等の導電性金属酸化物、あるいはドーピング等で導電率を向上させた無機及び有機半導体、例えばシリコン単結晶、ポリシリコン、アモルファスシリコン、ゲルマニウム、グラファイト、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、ポリパラフェニレンビニレン等、さらにはこれらの複合体が挙げられる。
特にソース領域、ドレイン領域に用いる電極は、上に挙げた中でも半導体活性層との接触面において電気抵抗が少ないものが好ましい。
ゲート絶縁膜としては、誘電率が高く、導電率が低いものが好ましい。例としては、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、ポリエチレン、ポリイミド等が挙げられる。
ゲート絶縁膜の厚さは、0.01μm〜100μmが好ましく、より好ましくは0.05μm〜10μmである。
本発明にかかる電界効果型トランジスタにおいて、チャネル長さは、0.01〜100μmであることが好ましく、より好ましくは0.05〜10μmである。チャネル幅は、0.01〜100mmであることが好ましく、0.1〜10mmであることがより好ましい。
オン・オフ比は、102〜108であることが好ましく、103〜107であることがより好ましい。
本発明において、前記電界効果型トランジスタの上に、電界に応じて光学特性が変化する表示層を設ける。電界に応じて光学特性が変化する表示層としては、電気泳動表示層、コレステリック液晶表示層、高分子分散型液晶表示層などが好適に用いられる。
電気泳動表示層としては、着色された荷電微粒子がマイクロカプセル中の分散媒体中に分散された方式、着色された荷電微粒子がエンボス加工により形成させた鋳型中の分散媒体中に分散された方式などを利用することができる。互いに異なる色と荷電を有する粒子を用いることもできる。また、分散媒体中に染料を溶解させて、分散媒体を着色することもできる。
荷電粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化タングステン、酸化亜鉛、酸化スズ、チタン酸バリウムなどの無機粒子あるいはポリマー、カーボンブラックなどの有機粒子のいずれであってもよい。白色の荷電粒子として好ましくは、酸化チタン、シリカゲル(SiO2)、アルミナ、ポリマー粒子、黒色の荷電粒子として好ましくは、カーボンブラックからなる荷電粒子である。
荷電粒子は、分散媒への分散安定性を高める目的で、表面を修飾することが好ましい。表面を修飾する方法としては、チタンカップリング剤(イソプロピルトリイソステアロイルチタネートなど)、シランカップリング剤(ペンタデカフルオロデシルトリメチルシランなど)、アルミニウムカップリング剤(アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレートなど)、グラフト重合などが挙げられる。グラフト重合は、酸化チタンに対してはポリエチレングラフト重合、ポリスチレングラフト重合が、シリガゲルに対してはシラノール基を利用したグラフト重合が利用できる。
分散媒体は、電子ペーパー用途との関連において、屈折率、比重、粘度、抵抗率、誘電率などを調整することが好ましい。この調製には、複数の溶媒を混合して行うことができる。分散媒体には、酸、アルカリ、塩、分散安定剤、酸化防止や紫外線吸収などを目的とした安定剤、抗菌剤、防腐剤などを添加することができる。
本発明のゲストホスト方式液晶層とは、液晶中に二色性色素を溶解させた液晶組成物をセル中に封入し、これに電場を与え、電場による液晶の動きに合わせて、二色性色素の配向を変化させ、セルの吸光状態を変化させることによって表示する方式である。
本発明において、二色性色素に用いられる発色団はいかなるものであってもよいが、高いオーダーパラメーターを示す、ホスト液晶への溶解性が高いという効果をより得やすくするという観点からは、例えば、アゾ色素、アントラキノン色素、ペリレン色素、メロシアニン色素、アゾメチン色素、フタロペリレン色素、インジゴ色素、アズレン色素、ジオキサジン色素、ポリチオフェン色素、フェノキサゾン色素(フェノキサジン−3−オン)などが挙げられ、具体的には、「Dichroic Dyes for Liquid Crystal Display」(A.V.Ivashchenko著、CRC社、1994年)に記載されているものが挙げられる。
ハロゲン原子(例えば塩素、臭素、沃素、フッ素)、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数1〜10、好ましくは炭素数2〜8、さらに好ましくは炭素数2〜5のカルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基)、炭素数0〜10、好ましくは炭素数2〜8、さらに好ましくは炭素数2〜5のスルファモイル基(例えばメチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、ピペリジノスルホニル基)、ニトロ基、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−フェニルエトキシ基)、炭素数6〜20、好ましくは炭素数6〜12、さらに好ましくは炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、p−メチルフェノキシ基、p−クロロフェノキシ基、ナフトキシ基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のアシル基(例えば、アセチル基、ベンゾイル基、トリクロロアセチル基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のアシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜8のスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜8のスルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜12、さらに好ましくは炭素数1〜8の置換又は無置換のアミノ基(例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アニリノ基、ジフェニルアミノ基、4−メチルフェニルアミノ基、4−エチルフェニルアミノ基、3−n−プロピルフェニルアミノ基、4−n−プロピルフェニルアミノ基、3−n−ブチルフェニルアミノ基、4−n−ブチルフェニルアミノ基、3−n−ペンチルフェニルアミノ基、4−n−ペンチルフェニルアミノ基、3−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、4−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、2−ピリジルアミノ基、3−ピリジルアミノ基、2−チアゾリルアミノ基、2−オキサゾリルアミノ基、N,N−メチルフェニルアミノ基、N,N−エチルフェニルアミノ基)、
0〜30、更に好ましくは炭素数0〜10の2価の連結基である。
また、Q1が表す2価の連結基としては、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アミド基、エーテル基、エルテル基、スルホアミド基、スルホン酸エステル基、ウレイド基、スルホニル基、スルフィニル基、チオエーテル基、カルボニル基、−NR−基(ここで、Rは水素原子又はアルキル基、アリール基を表す)、アゾ基、アゾキシ基、複素環2価基を1つ又はそれ以上組み合わせて構成される2価の連結基が挙げられる。
Q1で表されるアルケニレン基として、好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜10のアルケニレン基であり、例えば、エテニレン基を挙げることができる。
Q1で表されるアルキニレン基として、好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜10のアルキニレン基であり、例えば、エチニレン基を挙げることができる。
−NR−基におけるRの表すアルキル基において、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、Rの表すアリール基において、好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜10のアリール基である。
Q1で表される複素環として、好ましくは、ピペラジン基であり、例えば、ピペラジン−1,4−ジイル基を挙げることができる。
C1として好ましくは、炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12、さらに好ましくは炭素数1〜8のアルキル基又はシクロアルキル基、炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜20、より好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のアシルオキシ基、炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12、さらに好ましくは炭素数1〜8のアシル基、又は炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基である。
C1で表されるアルキル基の置換基としては、置換基群Vのうち、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子)、ヒドロキシ基、アルコキシ基(特にメトキシ基)、アリール基(特にフェニル基)であることが好ましい。
C1で表されるアルコキシ基としての具体例は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−フェニルエトキシ基、トリフルオロメトキシ基を挙げることができる。
C1で表されるアシルオキシ基としての具体例は、例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基を挙げることができる。
C1で表されるアシル基としての具体例は、例えば、アセチル基、ホルミル基、ピバロイル基、2−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、p−n−オクチルオキシフェニルカルボニル基を挙げることができる。
C1で表されるアルコキシカルボニル基としての具体例は、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2−ベンジルオキシカルボニル基を挙げることができる。
p、q、rは、各々独立に0〜5の整数を表し、nは1〜3の整数を表す。B1とB2で表される基の総数、すなわち(p+r)×nは、3〜10の整数であり、より好ましくは、3〜6の整数である。p、q又はrが2以上の時、2以上のB1、Q1及びB2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、nが2以上の時、2以上の{(B1)p−(Q1)q−(B2)r}は、それぞれ、同一でも異なっていてもよい。
(i) p=3、q=0、r=0、n=1
(ii) p=4、q=0、r=0、n=1
(iii) p=5、q=0、r=0、n=1
(iv) p=2、q=0、r=1、n=1
(v) p=2、q=1、r=1、n=1
(vi) p=1、q=1、r=2、n=1
(vii) p=3、q=1、r=1、n=1
(viii) p=2、q=0、r=2、n=1
(ix) p=1、q=1、r=1、n=2
(x) p=2、q=1、r=1、n=2
〔1〕 Hetが硫黄原子であり、B1がアリール基又はヘテロアリール基を表し、B2がシクロヘキサン−1,4−ジイル基を表し、C1がアルキル基を表し、j=1、p=2、q=0、r=1及びn=1を表す構造。
〔2〕 Hetが硫黄原子であり、B1がアリール基又はヘテロアリール基を表し、B2がシクロヘキサン−1,4−ジイル基を表し、C1がアルキル基を表し、j=1、p=1、q=0、r=2及びn=1を表す構造。
〔I〕 Hetが硫黄原子を表し、B1が1,4−フェニレン基を表し、B2がトランス−シクロヘキシル基を表し、C1がアルキル基(好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基)を表し、j=1、p=2、q=0、r=1及びn=1である下記一般式(a−1)で表される構造、
〔2〕 Hetが硫黄原子を表し、B1が1,4−フェニレン基を表し、B2がトランス−シクロヘキサン−1,4−ジイル基を表し、C1がアルキル基(好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又はヘキシル基)を表し、j=1、p=1、q=0、r=2及びn=1である下記一般式(a−2)で表される構造、
である。
Ra1〜Ra12は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子(特にフッ素原子)、アルキル基、アリール基、アルコキシ基であるのことが好ましい。Ra1〜Ra12で表わされるアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基のうち、好ましいものは、前述の置換基群Vに記載のアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基と同義である。
アゾ色素に含まれる環構造としては芳香族環(ベンゼン環、ナフタレン環など)のほかヘテロ環(キノリン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリミジン環など)であってもよい。
該置換基の置換数はいかなる数であってもよいが、ジ置換、トリ置換、テトラキス置換が好ましく、特に好ましくはジ置換、トリ置換である。該置換基の置換位置はいかなる場所であってもよいが、好ましくは1,4位ジ置換、1,5位ジ置換、1,4,5位トリ置換、1,2,4位トリ置換、1,2,5位トリ置換、1,2,4,5位テトラ置換、1,2,5,6位テトラ置換構造である。
−(Het)j−{(B1)p−(Q1)q−(B2)r}n−C1において、Hetは酸素原子又は硫黄原子であり、B1及びB2は、各々独立に、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又は2価の環状脂肪族炭化水素基を表し、Q1は2価の連結基を表し、C1はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表し、jは0又は1を表し、p、q及びrはそれぞれ0〜5の整数を表し、nは1〜3の整数を表す。(p+r)×nは3〜10の整数を表し、より好ましくは、3〜6の整数である。p、q及びrがそれぞれ2以上の時、2以上のB1、Q1及びB2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、nが2以上の時、2以上の{(B1)p−(Q1)q−(B2)r}は同一でも異なっていてもよい。
ここで、Het,B1、B2、Q1、C1、j、p、q、r、及びnの好ましい範囲は、それぞれ前記一般式(2)で記載したHet、B1、B2、Q1、C1、j、p、q、r、及びnの好ましい範囲と同様である。
−(Het)j−{(B1)p−(Q1)q−(B2)r}n−C1において、Hetは酸素原子又は硫黄原子であり、B1及びB2は、各々独立に、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又は2価の環状脂肪族炭化水素基を表し、Q1は2価の連結基を表し、C1はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表し、jは0又は1を表し、p、q及びrはそれぞれ0〜5の整数を表し、nは1〜3の整数を表す。(p+r)×nは3〜10の整数であり、より好ましくは、3〜6の整数である。p、q及びrがそれぞれ2以上の時、2以上のB1、Q1及びB2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、nが2以上の時、2以上の{(B1)p−(Q1)q−(B2)r}は同一でも異なっていてもよい。
ここで、B1、B2、Q1、C1、p、q、r、及びnの好ましい範囲は、それぞれ前記一般式(2)で記載したB1、B2、Q1、C1、p、q、r、及びnの好ましい範囲と同様である。
二周波駆動液晶の場合には、低周波領域及び高周波領域の電圧が用いられる。低周波数領域として用いられるのは、一般的には0.1Hz〜100kHzであることが好ましく、1Hz〜10kHzであることがより好ましく、10Hz〜10kHzであることがさらに好ましい。また、高周波数領域としては、一般的には100Hz〜10MHzであることが好ましく、100Hz〜1MHzであることがより好ましく、1kHz〜1MHzであることがさらに好ましい。
また、ホスト液晶及び二色性色素の含有量は、双方を含む液晶組成物を調整し、その液晶組成物を封入した液晶セルの吸収スペクトルをそれぞれ測定して、液晶セルとして所望の光学濃度を示すのに必要な色素濃度を決定することが望ましい。
本発明にかかる蛍光増白剤は、200〜410nmの波長の光を吸収して、約410〜約500nmの波長の光を放射する性質を有する化合物を含有することが好ましい。これらの蛍光増白剤は本来の黄色い反射光のほかに、新たに蛍光増白剤により発光される約410〜約500nmの波長の青色光が付加されるため反射光は白色になり、かつ、蛍光効果による分だけ可視光のエネルギーが増加するため結果として増白されたことになる。
なお、本発明の画像表示装置では、可視光領域の光を透過して表示するため、蛍光増白剤は、表示に利用する可視光領域の光(波長410nm〜800nm)を吸収しないことが好ましい。すなわち、可視光領域の最短波長付近である410nmを境界として、410nm以下の波長の光を吸収して、410nmより長い波長の光を放射する蛍光増白剤を用いることが、画像の表示には極めて効率的である。
光の吸収率は、可視・紫外吸収スペクトロスコピーによって測定される。
R21及びR24は、好ましくは水素原子又はアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。
更に詳しくは、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−オクチル、n−ヘキサデカニル(セチル)、イソプロピル、イソブチル、2−エチルヘキシル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチル、シクロペンチル又はシクロヘキシル等のアルキル基を表す。
R23は、好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル又は2−エチルヘキシル基であり、より好ましくは、メチル、n−ブチル、n−オクチル又は2−エチルヘキシル基である。
好ましくは以下に示す置換アリール又はエテニル基である。
mは1〜5の整数を表し、好ましくは、1〜3の整数を表す。
X及びYで表されるアルキル基としては、メチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル又はシクロヘキシル等を挙げることができる。
X及びYで表されるアリール基としては、フェニル、トリル又はナフチル等を挙げることができる。
X及びYで表されるアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ又はイソプロポキシ等を挙げることができる。
X及びYで表されるアルキルアミノ基としては、アミノメチル、エチルアミノ、オクチルアミノ、ジメチルアミノ又はN−メチル−N−エチルアミノ等を挙げることができる。 X及びYで表されるアリールアミノ基としては、アニリノ、4−トリルアミノ又はN−メチルアニリノ等を挙げることができる。
X及びYで表されるこれらの基は、更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記置換基群Vを挙げることができる。
X及びYは、好ましくはアリール基、アルコキシ基又はアニリノ基である。
これらの化合物は特開平11−29556号公報記載の方法で合成することができる。
これら透明樹脂成分を塗布する方法は任意であるが、スプレー法、ディッピング法、ローラーコート法、フローコーター法、流し塗り法などがある。塗布後の乾燥は透明樹脂成分によって異なるが、概ね室温〜120℃で10〜90分程度行うことが望ましい。
本発明の画像表示装置には、各種の機能層を付与することができる。機能層として例えば、帯電防止層、硬化樹脂層(透明ハードコート層)、反射防止層、白色反射層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。本技術のこれらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられる。また、本発明のフイルムには、カール防止加工を施すこともできる。
本発明の画像表示装置には、バリア層と有機層と積層した積層体を設けることが好ましい。このような積層体を設けることで、水及び/又は酸素の浸入を防ぐことができ、本発明の半導体活性層の性能低下を抑えることができる。
また、層の数は、特に定めるものではないが、好ましくは、バリア層と有機層とを組み合わせを1セットとすると、1〜5セットであり、より好ましくは、1〜3セットである。
バリア層及び有機層の積層体の全体の厚みは、1μm〜100μmであることが好ましく、1μm〜50μmであることがより好ましい。
本発明において、バリア層とは、水及び/又は酸素の通過を阻止するために設けられる層をいう。
本発明のバリア層の作製方法は、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に定めるものではないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法などが適しており、特許第3400324号、特開2002−322561号、特開2002−361774号の各公報記載の方法を好ましく採用することができる。
珪素酸化物はSiOxと表記され、例えば、バリア層としてSiOxを用いる場合、より良好な水蒸気バリア性と高い光線透過率を得るためには、1.6<x<1.9であることが好ましい。
珪素酸化窒化物はSiOxNyと表記されるが、このxとyの比率は、密着性をより向上させるためには、酸素リッチの膜とし、1<x<2、0<y<1が好ましく、水蒸気バリア性向上をより向上させるためには、窒素リッチの膜とし、0<x<0.8、0.8<y<1.3が好ましい。
前記バリア層の脆性を改良し及びバリア性を向上させる為に、本発明では、バリア層と有機層を積層する。
本発明におけるゾル−ゲル法では、好ましくは溶液中、又は塗膜中で金属アルコキシドを加水分解、縮重合させて、緻密な薄膜を得る。またこの時、樹脂を併用して、有機−無機ハイブリッド材料にしても良い。
金属アルコキシドとしては、アルコキシシラン及び/又はアルコキシシラン以外の金属アルコキシドを使用する。アルコキシシラン以外の金属アルコキシドとしては、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、アルミニウムアルコキシド等が好ましい。
水素結合形成基を有する樹脂の例としては、ヒドロキシル基を有するポリマーとその誘導体(ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、フェノール樹脂、メチロールメラミン等とその誘導体);カルボキシル基を有するポリマーとその誘導体(ポリ(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の重合性不飽和酸の単位を含む単独又は共重合体と、これらのポリマーのエステル化物(酢酸ビニル等のビニルエステル、メタクリル酸メチル等の(メタ)アクリル酸エステル等の単位を含む単独又は共重合体)等);エーテル結合を有するポリマー(ポリアルキレンオキサイド、ポリオキシアルキレングリコール、ポリビニルエーテル、珪素樹脂等);アミド結合を有するポリマー(>N(COR)−結合、すなわち、N(COR)からなる3価の基(式中、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を示す)を有するポリオキサゾリンやポリアルキレンイミンのN−アシル化物);>NC(O)−結合、すなわち、NC(O)からなる3価の基を有するポリビニルピロリドンとその誘導体;ウレタン結合を有するポリウレタン;尿素結合を有するポリマー等を挙げることができる。
樹脂の使用量は、金属アルコキシド1モルに対して、0.1〜100モルであり、より好ましくは0.5〜50モルである。
モノマーの使用量は、金属アルコキシド1モルに対して、0.1〜100モルであり、より好ましくは0.5〜50モルである。
酸の使用量は、金属アルコキシド(アルコキシシラン及び他の金属アルコキシドを含有する場合には、アルコキシシラン+他の金属アルコキシド)1モル当たり、好ましくは0.0001〜0.05モルであり、より好ましくは0.001〜0.01モルである。
加水分解後、無機塩基やアミンなどの塩基性化合物を添加して溶液のpHを中性付近にし、縮重合を促進しても良い。
溶媒の使用量は、金属アルコキシド1当量当たり、好ましくは1〜100,000質量%であり、より好ましくは10〜10,000質量%である。
このβ−ジケトン類及び/又はβ−ケトエステル類の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、アセト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−tert−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘプタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン類及び/又はβ−ケトエステル類は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することもできる。
これらの多座配位可能な化合物は、ゾル−ゲル触媒として前記の金属キレート化合物を用いた場合、その反応速度を調節する目的にも用いることができる。
多座配位可能な化合物の使用量は、金属アルコキシド1モルに対して、0.1〜100モルであり、より好ましくは0.5〜50モルである。
この場合、加水分解のタイミングは製造工程中の如何なる時期であっても構わない。例えば、予め必要な組成の液を加水分解部分縮合して目的のゾル液を調製し、それを塗布し、乾燥する方法、必要な組成の液を調製し塗布と同時に加水分解部分縮合させながら乾燥する方法、塗布し一次乾燥後、加水分解に必要な水含有液を重ねて塗布し加水分解させる方法等を好適に採用できる。また、塗布方法としては、様々な形態をとることが可能であるが、生産性を重視する場合には多段の吐出口を有するスライドギーサー上で下層塗布液と上層塗布液のそれぞれが必要な塗布量になる様に吐出流量を調整し、形成した多層流を連続的に支持体に乗せ、乾燥させる方法(同時重層法)が好適に用いられる。
照射強度は好ましくは30mJ/cm2〜500mJ/cm2であり、より好ましくは50mJ/cm2〜400mJ/cm2である。照射温度は室温から支持体の変形温度の間を制限無く採用することが可能であり、好ましくは30℃〜150℃、より好ましくは50℃〜130℃である。
モノマーを紫外線又は電子線で架橋させて有機層を形成する場合について説明する。モノマーとしては、紫外線或いは電子線で架橋できる基を含有していれば特に限定は無いが、アクリロイル基又はメタクリロイル基、オキセタン基を有するモノマーを用いることが好ましい。
例えば、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどのうち、2官能以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマーを架橋させて得られる高分子を主成分とすることが好ましい。これらの2官能以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマーは2種類以上を混合して用いても、また1官能の(メタ)アクリレートを混合して用いてもよい。
また、オキセタン基を有する物としては、特開2002−356607号公報の一般式(3)〜(6)に記載されている構造を有する物を使うことが好ましい。この場合、これらを任意に混合しても良い。
例えば、真空成膜法で有機層を形成する場合、蒸着、プラズマCVD等の成膜方法が好ましく、有機物質モノマーの成膜速度を制御しやすい抵抗加熱蒸着法がより好ましい。
塗布方式で作製する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。
また、本発明では、基板と有機層及びバリア層からなる積層体との間、該積層体の最上層、有機層とバリア層との間、又は、有機層若しくはバリア層中に、以下に示すような水吸収剤を併用してもよい。
水吸収剤は、アルカリ土類金属を中心に、水吸収機能を有する化合物から選択することができる。例えば、BaO、SrO、CaO、及びMgOなどが挙げられる。さらに、Ti、Mg、Ba、Caの様な金属元素から選択する事もできる。
水吸収剤の塗布量は、10-4g/m2〜102g/m2であることが好ましく、10-3g/m2〜10g/m2であることがより好ましい。
有機層に添加する場合には、有機物に水吸収剤を混合して塗布することで作製することが好ましい。
本発明の画像表示装置では、酸化チタン等を含む白色反射層を支持体に設けてもよい。 なお、、支持体において説明したように、光反射性を有する白色の支持体を用いることができる。この場合には、支持体として酸化チタン、酸化亜鉛などの無機顔料を添加したプラスチック基板を用いることもできる。
本発明の画像表示装置の構成は、表示層がいずれの形式であっても、少なくとも、支持体と、透明電極と、上記電界効果型トランジスタ(以下、「有機TFT」と称する。)と、上記表示層と、蛍光増白剤を含有する層と、を有する。
また、蛍光増白剤を含有する層は、支持体において表示層側ではない側に設けることが好ましい。表示層側に設けると、液晶層に印加される実行電圧が低下し、表示性能が低下するためである。
更に、有機TFT側の支持体1の表面に、白色反射層11を設けることも好適である。
また、支持体において説明したように、光反射性を有する白色の支持体を用いることができる。この場合には、支持体として酸化チタン、酸化亜鉛などの無機顔料を添加したプラスチック基板を用いてもよいし、酸化チタン等を含む白色反射層を支持体に設けてもよい。
2つの支持体(基板)1,15の間に、有機TFT7と、電気泳動表示層8と、透明電極10と、が積層して形成され、透明電極10側の支持体15の表面に、蛍光増白剤を含有する層16を有し、有機TFT7側の支持体1の表面に、白色反射層11を有する。
図2に本実施例における画像表示装置の構成を示す。但し実施例1では、図2の白色反射層11は設けなかった。
図1に本実施例におけるπ−共役系樹状高分子電界効果型トランジスタの構造を示す。
まず、無アルカリガラス基板1上にクロムを蒸着し、ゲート電極2とした。次にスパッタ法により、2000オングストロームの酸化シリコン膜3を製膜した後、クロム、金の順に蒸着を行い、通常の光リソグラフィー技術でソース電極4、ドレイン電極5を形成した。
続いて、上記ゲート電極2、酸化シリコン膜3、ソース電極4及びドレイン電極5を形成した基板を10%濃度のフッ酸に浸漬することにより表面親水化処理をした後、この基板のソース電極4及びドレイン電極5側をヘキシルオリゴチオフェン化合物(アルドリッチ社製)の2質量%クロロホルム溶液に浸漬してからゆっくり引き上げることにより、半導体活性層6を作製した。
白色荷電粒子として酸化チタン粒子を、黒色荷電粒子としてカーボンブラックを、絶縁性液体としてパラフィンを用いた分散液を調整して、ポリウレタンを壁材としたマイクロカプセルを界面重合法により作製した。マイクロカプセルの平均粒子サイズは50μm、マイクロカプセルの平均壁厚4μmであった。
このマイクロカプセルを上記有機TFT7上に塗布し、電気泳動層8を作製した。
他方、別途、前述のガラス基板15に、インジウムスズオキサイドの透明電極(ITO電極)10を作製した。
この基板15と先に作製した電気泳動表示層8を有するガラス基板1とを、図2に示すように、電気泳動表示層8を挟むように接着した。
アクリテック(大日本インキ製商品名)100質量%に対し、式(14)の化合物を5.0質量%、及び2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール1.1質量%を加えたもの15gに対し、トルエン:メチルエチルケトン=1:1を85g加え固形分を溶解し蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む組成物を得た。
該組成物をガラス基板15の外側(即ち表示層側ではない)表面に塗布し、乾燥後100μmになるよう蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む層16を作製し、本発明にかかる画像表示装置を得た。
なお、蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む組成物は、200nm以上410nm以下の光の吸収率は90%以上であることが、可視・紫外吸収スペクトルの測定によって確認された。
得られた素子を信号発生器(東陽テクニカ(株)製)を用いて、直流電圧を半導体活性層が付設された透明電極側をプラスに、それに対向する透明電極側をマイナスに印加させたところ、黒色カーボンブラック粒子が表示側に移動し黒色に変化した。
また、直流電圧を半導体活性層が付設された透明電極側をマイナスに、それに対向する透明電極側をプラスに印加させたところ、白色酸化チタン粒子が表示側に移動し白色に変化した。
更に、直流電圧のマイナスとプラスを交互に印加させたところ、黒色と白色が交互に変化し、1万回繰り返してもその色の変化の程度は変化しなかった。
実施例1において、蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む層における、式(14)の化合物及び2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾールに代えて、住友スリーエム社製ISCLARL(商品名)を用いて調製した以外は同様にして、比較例1の画像表示装置を得た。
住友スリーエム社製ISCLARL(商品名)を含む組成物は、410nmの光の吸収率は、85%であることが確認された。
この比較例1の画像表示装置について、実施例1と同様に高圧水銀灯の光を120時間照射したところ、発色時の色の濃さが低下することが目視で観測され、また、消色時の透明度も低下することが確認された。
すなわち、本発明の画像表示装置は、比較例1の画像表示装置に比べ、繰り返し時における表示性能が高いことが確認された。
図4に本実施例における画像表示装置の構成を示す。
特開2000−105445号公報の実施例1の試料110の作製と同様にPEN(Dupont−Teijin Q65A)に対し下塗り層及びバック層を作製した。
すなわち、ポリエチレン−2,6−ナフタレートポリマー100重量部と紫外線吸収剤としてTinuvin P.326(チバ・ガイギーCiba−Geigy社製)2重量部とを乾燥した後、300℃にて溶融後、T型ダイから押し出し、140℃で3.3倍の縦延伸を行ない、続いて130℃で3.3倍の横延伸を行い、さらに250℃で6秒間熱固定して厚さ90μmのプラスチック基板1(PEN)を得た。
(下塗層の塗設)
上記プラスチック基板の両面にコロナ放電処理、UV照射処理、さらにグロー放電処理をした後、一方の面にゼラチン0.1g/m2、ソジウムα−スルホジ−2−エチルヘキシルサクシネート0.01g/m2、サリチル酸0.04g/m2、p−クロロフェノール0.2g/m2、(CH2=CHSO2CH2CH2NHCO)2CH20.012g/m2、ポリアミド−エピクロロヒドリン重縮合物0.02g/m2の下塗液を塗布して(10mL/m2、バーコーター使用)、下塗層17を設けた。乾燥は、115℃、6分実施した(乾燥ゾーンのローラーや搬送装置はすべて115℃となっている)。得られたプラスチック基板の熱膨張係数は、15ppm/℃であった。
下塗後の上記支持体において、下塗層を設けていない他方の面にバック層として下記組成の帯電防止層を塗設し、さらに該帯電防止層の上に滑り層を塗設し、支持体−1を得た。
平均粒子サイズ0.005μmの酸化スズ−酸化アンチモン複合物の比抵抗は5Ω・cmの微粒子粉末の分散物(2次凝集粒子サイズ約0.08μm)を0.2g/m2、ゼラチン0.05g/m2、(CH2=CHSO2CH2CH2NHCO)2CH20.02g/m2、ポリオキシエチレン−p−ノニルフェノール(重合度10)0.005g/m2及びレゾルシン0.22g/m2とともに塗布した。
ジアセチルセルロース(25mg/m2)、C6H13CH(OH)C10H20COOC40H81(6mg/m2)/C50H101O(CH2CH2O)16H(9mg/m2)混合物を塗布した。なお、この混合物は、キシレン/プロピレングリコールモノメチルエーテル(1/1)中で、105℃で溶融し、常温のプロピレングリコールモノメチルエーテル(10倍量)に注加分散して作製した後、アセトン中で分散物(平均粒子サイズ0.01μm)にしてから添加した。
マット剤として二酸化ケイ素粒子(0.3μm)を15mg/m2となるように添加した。乾燥は、115℃、6分行なった。尚、乾燥ゾーンのローラーや搬送装置はすべて115℃で行った。
上記支持体−1を用いて、以下処理を行った。
ロールトゥーロール方式のスパッタリング装置を用いた。この装置は真空槽を有しており、その中央部にはプラスチックフィルムを表面に接触させて冷却するためのドラムが配置されている。また、上記真空槽にはプラスチックフィルムを巻くための送り出しロール及び巻き取りロールが配置されている。送り出しロールに巻かれたプラスチック基板はガイドロールを介してドラムに巻かれ、さらにプラスチック基板はガイドロールを介してロールに巻かれる。真空排気系としては排気口から真空ポンプによって真空槽内の排気が常に行われている。成膜系としてはパルス電力を印加できる直流方式の放電電源に接続されたカソード上にターゲットが装着されている。この放電電源は制御器に接続され、さらにこの制御器は真空槽へ配管を介して反応ガス導入量を調整しつつ供給するガス流量調整ユニットに接続されている。また、真空槽には一定流量の放電ガスが供給されるよう構成されている。以下、具体的な条件を示す。
ついで、(1)テトラエチレングリコールジアクリレート、(2)カプロラクトンアクリレート、(3)トリプロピレングリコールモノアクリレートを重量比=7:1.2:1.4で混合した溶液に、ラジカル開始剤(イルガキュアー651:チバガイギー社製)を1wt%添加し溶剤に溶かして、0.1mm厚のポリエーテルサルホンの樹脂基板上に塗布乾燥した後、UV照射により、硬化させ、樹脂基板上に厚さ約1μmの有機層23を作製した。
上記3,4の操作を繰り返し、バリア層及び有機層を各3層ずつ積層したフィルム積層体を作製した。
更に、特開平6−123806号公報記載の方法にて、滑り層の上にハードコート層21を設けた。
実施例1に記載のオリゴチオフェン化合物をペンタセンに変更し、蒸着によりペンタセンを半導体活性層6とし、且つ、基板をガラス基板から上記1〜5で作製したフィルム積層体を有するプラスチック基板に変更した以外は実施例1に準じて電界効果型トランジスタ(有機TFT7)を完成させた。
半導体活性層上にポリイミド垂直配向膜12(JSR製、品番:JALS−2021)を付設し、ホスト液晶として誘電率異方性が負のシアノ系ネマチック液晶ZLI−2806(メルク社製)及び1質量%の割合で下記二色性色素、1質量%の割合でカイラル剤R−811(メルク社製)を含む液晶組成物から構成されるゲストホスト液晶層13を作製した。
他方、別途、前述のプラスチック基板(好ましくは、PEN)15に、インジウムスズオキサイドの透明電極層10、ポリイミド垂直配向膜(日産化学製)14を作製した。
この基板15と先に調製した液晶層13を有するプラスチック基板1とを、図4に示すように、液晶層13を挟んでポリイミド垂直配向膜、透明電極が積層するように接着した。
アクリテック(大日本インキ製商品名)100質量%に対し、式(14)の化合物を5.0質量%、及び2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール1.1質量%を加えたもの15gに対し、トルエン:メチルエチルケトン=1:1を85g加え固形分を溶解し蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む組成物を得た。
該組成物を透明電極とは異なる側のプラスチック基板15表面に塗布し、乾燥後100μmになるよう蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む層16を作製し、本発明の画像表示装置を得た。
なお、蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む組成物は、200nm以上410nm以下の光の吸収率は90%以上であることが、可視・紫外吸収スペクトルの測定によって確認された。
得られた素子を信号発生器(東陽テクニカ(株)製)を用いて、交流電圧(20V、100Hz)を印加させたところ、電圧が印加された部分だけ、黄色に着色した。また、交流電圧のオン・オフを1万回繰り返したところ、黄色と白色が交互に変化し、繰り返してもその色の変化の程度は変化しなかった。
実施例2において、蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む層における、式(14)の化合物及び2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾールに代えて、住友スリーエム社製ISCLARL(商品名)を用いて調製した以外は同様にして、比較例2の画像表示装置を得た。
住友スリーエム社製ISCLARL(商品名)を含む組成物は、410nmの光の吸収率は、85%であることが確認された。
すなわち、本発明の画像表示装置は、繰り返し時における表示性能が高いことが確認された。
実施例2に記載の液晶素子において、ホスト液晶として、上述の二周波駆動用液晶1を用いた以外は実施例2と同様の操作によりゲストホスト液晶素子を作製した。
実施例2において、蛍光増白剤として式(14)の化合物をもちいたところを、式(4)、(13)又は(19)に変更して画像表示装置を作製した。
得られた素子を信号発生器(東陽テクニカ(株)製)を用いて、交流電圧(20V、100Hz)を印加させたところ、電圧が印加された部分だけ、黄色に着色した。また、交流電圧のオン・オフを1万回繰り返したところ、黄色と白色が交互に変化し、繰り返してもその色の変化の程度は変化しなかった。
なお、これらの蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む組成物は、いずれも200nm以上410nm以下の光の吸収率が90%以上であることが確認された。
2 ゲート電極
3 ゲート絶縁膜
4 ソース電極
5 ドレイン電極
6 半導体活性層
7 有機TFT
8 電気泳動表示層
10 透明電極
11 白色反射層
12,14 ポリイミド垂直配向膜
13 ゲストホスト方式液晶層
14 ポリイミド垂直配向膜
16 蛍光増白剤及び紫外線吸収剤を含む層
17 下塗り層
18 帯電防止層
19 滑り層
21 ハードコート層
22,24,26 バリア層
23,25,27 有機層
Claims (10)
- 支持体上に、透明電極層と、ゲート絶縁膜及び有機化合物を含有する半導体活性層を有する電界効果型トランジスタと、電界に応じて光学特性が変化する表示層と、200nm以上410nm以下の光を90%以上吸収し410nmを超えて500nm以下の光を放射する蛍光増白剤を含む層と、をこの順に有することを特徴とする画像表示装置。
- 前記蛍光増白剤を含む層が、更に紫外線吸収剤を含むことを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。
- 前記蛍光増白剤が、ベンゾオキサゾール誘導体であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の画像表示装置。
- 前記ベンゾオキサゾール誘導体が、下記一般式(1)で表されることを特徴とする請求項3に記載の画像表示装置。
〔一般式(1)中、R21及びR24、は水素原子、アルキル基又はアルキコキシ基を表し、R22及びR23はアルキル基を表す。Aは置換アリール又はエテニル基を表す。〕 - 前記表示層が、電気泳動方式の表示層であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の画像表示装置。
- 前記表示層が、ゲストホスト液晶方式の表示層であることを特徴とする請求項1〜請求項4記載のいずれか1項に記載の画像表示装置。
- 前記半導体活性層が、ペンタセン又はオリゴチオフェンで構成されてなることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の画像表示装置。
- 前記ゲストホスト液晶方式に含まれる二色性色素が、アントラキノン色素又はフェノキサジン色素であることを特徴とする請求項6に記載の画像表示装置。
- 前記二色性色素の含有率が、ホスト液晶の含有率に対して0.1質量%以上15質量%以下であることを特徴とする請求項8に記載の画像表示装置。
- 前記ゲストホスト液晶方式の表示層の厚さが、1μm以上100μm以下であることを特徴とする請求項6に記載の画像表示装置。
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