JP4906378B2 - レーザ加工用マスクの姿勢検出方法及びステージ精度評価方法 - Google Patents
レーザ加工用マスクの姿勢検出方法及びステージ精度評価方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4906378B2 JP4906378B2 JP2006078923A JP2006078923A JP4906378B2 JP 4906378 B2 JP4906378 B2 JP 4906378B2 JP 2006078923 A JP2006078923 A JP 2006078923A JP 2006078923 A JP2006078923 A JP 2006078923A JP 4906378 B2 JP4906378 B2 JP 4906378B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaluation
- mask
- transfer
- image
- transfer image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
(a)ある間隔を隔てて配置された第1及び第2の評価用パターンが形成された評価用マスクを通して、評価用基板にレーザビームを入射させて、該第1及び第2の評価用パターンを該評価用基板上に転写し、該第1及び第2の評価用パターンがそれぞれ転写された第1及び第2の転写イメージを形成する工程と、
(b)前記評価用基板を、走行軸に平行に、かつ前記第1の転写イメージが前記第2の転写イメージよりも移動方向の前方に配置される向きに、前記第1及び第2の転写イメージの中心間の間隔に相当する距離だけ該評価用基板を並進移動させる工程と、
(c)前記工程bにおける並進移動後、前記評価用マスクを通して、前記評価用基板にレーザビームを入射させて、前記第1及び第2の評価用パターンを該評価用基板上に転写し、該第1及び第2の評価用パターンがそれぞれ転写された第3及び第4の転写イメージを形成する工程と、
(d)前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの両方を、撮像装置の視野内に同時に配置して、前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの位置関係を計測する工程と、
(e)前記工程dで計測された位置関係、及び前記評価用マスクに形成されている第1の評価用パターンと第2の評価用パターンとの間隔に基づいて、前記走行軸に対する前記評価用マスクの姿勢を求める工程と
を有するレーザ加工用マスクの姿勢検出方法が提供される。
(a)ある間隔を隔てて配置された第1及び第2の評価用パターンが形成された評価用マスクを通して、ステージに保持された評価用基板にレーザビームを入射させて、該第1及び第2の評価用パターンを該評価用基板上に転写し、該第1及び第2の評価用パターンがそれぞれ転写された第1及び第2の転写イメージを形成する工程と、
(b)前記評価用基板を、走行軸に平行に、かつ前記第1の転写イメージが前記第2の転写イメージよりも移動方向の前方に配置される向きに、前記第1及び第2の転写イメージの中心間の間隔に相当する距離だけ該評価用基板が並進移動するように前記ステージを制御する工程と、
(c)前記工程bにおける並進移動後、前記評価用マスクを通して、前記評価用基板にレーザビームを入射させて、前記第1及び第2の評価用パターンを該評価用基板上に転写し、該第1及び第2の評価用パターンがそれぞれ転写された第3及び第4の転写イメージを形成する工程と、
(d)前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの両方を、撮像装置の視野内に同時に配置して、前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの位置関係を計測する工程と、
(e)前記工程dで計測された位置関係、及び前記評価用マスクに形成されている第1の評価用パターンと第2の評価用パターンとの間隔に基づいて、前記ステージの移動距離の精度を算出する工程と
を有するレーザ加工用のステージ精度評価方法が提供される。
L×sinθ=Dy
が成り立つ。間隔Lは既知であるため、ずれ量Dyを測定することにより、角度θを求めることができる。
L×cosθ+Dx=L+ΔL
L×sinθ=Dy
が成立する。ずれ量Dx及びDyを測定すると、上記2つの式から、角度θ及びずれ量ΔLを算出することができる。このように、ずれ量Dx及びDyの2つを測定することにより、XYステージの移動距離の精度を評価することも可能になる。
2 XYステージ
3 マスクステージ
5 上側支持部材
10 レーザ光源
11 ホモジナイザ
13 折返しミラー
14 イメージングレンズ系
20 マスク
20A 評価用マスク
20B 加工用マスク
21 マスク用撮像装置
25 加工対象物
26 加工対象物用撮像装置
30 制御装置
40 第1の評価用パターン
40a、41a、40b、41b、101、102、110A、111A 転写イメージ
41 第2の評価用パターン
42、46 アライメントマーク
45 マスクパターン
100A、100B ラインアンドスペースパターン
110、111 評価用パターン
112 視野
Claims (4)
- (a)ある間隔を隔てて配置された第1及び第2の評価用パターンが形成された評価用マスクを通して、評価用基板にレーザビームを入射させて、該第1及び第2の評価用パターンを該評価用基板上に転写し、該第1及び第2の評価用パターンがそれぞれ転写された第1及び第2の転写イメージを形成する工程と、
(b)前記評価用基板を、走行軸に平行に、かつ前記第1の転写イメージが前記第2の転写イメージよりも移動方向の前方に配置される向きに、前記第1及び第2の転写イメージの中心間の間隔に相当する距離だけ該評価用基板を並進移動させる工程と、
(c)前記工程bにおける並進移動後、前記評価用マスクを通して、前記評価用基板にレーザビームを入射させて、前記第1及び第2の評価用パターンを該評価用基板上に転写し、該第1及び第2の評価用パターンがそれぞれ転写された第3及び第4の転写イメージを形成する工程と、
(d)前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの両方を、撮像装置の視野内に同時に配置して、前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの位置関係を計測する工程と、
(e)前記工程dで計測された位置関係、及び前記評価用マスクに形成されている第1の評価用パターンと第2の評価用パターンとの間隔に基づいて、前記走行軸に対する前記評価用マスクの姿勢を求める工程と
を有するレーザ加工用マスクの姿勢検出方法。 - 前記工程dにおいて、前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの両方の画像データを取得し、画像分析を行うことにより、両者の位置関係を計測する請求項1に記載のレーザ加工用マスクの姿勢検出方法。
- (a)ある間隔を隔てて配置された第1及び第2の評価用パターンが形成された評価用マスクを通して、ステージに保持された評価用基板にレーザビームを入射させて、該第1及び第2の評価用パターンを該評価用基板上に転写し、該第1及び第2の評価用パターンがそれぞれ転写された第1及び第2の転写イメージを形成する工程と、
(b)前記評価用基板を、走行軸に平行に、かつ前記第1の転写イメージが前記第2の転写イメージよりも移動方向の前方に配置される向きに、前記第1及び第2の転写イメージの中心間の間隔に相当する距離だけ該評価用基板が並進移動するように前記ステージを制御する工程と、
(c)前記工程bにおける並進移動後、前記評価用マスクを通して、前記評価用基板にレーザビームを入射させて、前記第1及び第2の評価用パターンを該評価用基板上に転写し、該第1及び第2の評価用パターンがそれぞれ転写された第3及び第4の転写イメージを形成する工程と、
(d)前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの両方を、撮像装置の視野内に同時に配置して、前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの位置関係を計測する工程と、
(e)前記工程dで計測された位置関係、及び前記評価用マスクに形成されている第1の評価用パターンと第2の評価用パターンとの間隔に基づいて、前記ステージの移動距離の精度を算出する工程と
を有するレーザ加工用のステージ精度評価方法。 - 前記工程dにおいて、前記第2の転写イメージと前記第3の転写イメージとの両方の画像データを取得し、画像分析を行うことにより、両者の位置関係を計測する請求項3に記載のレーザ加工用のステージ精度評価方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006078923A JP4906378B2 (ja) | 2006-03-22 | 2006-03-22 | レーザ加工用マスクの姿勢検出方法及びステージ精度評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006078923A JP4906378B2 (ja) | 2006-03-22 | 2006-03-22 | レーザ加工用マスクの姿勢検出方法及びステージ精度評価方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007258348A JP2007258348A (ja) | 2007-10-04 |
JP4906378B2 true JP4906378B2 (ja) | 2012-03-28 |
Family
ID=38632295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006078923A Expired - Fee Related JP4906378B2 (ja) | 2006-03-22 | 2006-03-22 | レーザ加工用マスクの姿勢検出方法及びステージ精度評価方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4906378B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6875177B2 (ja) * | 2017-04-03 | 2021-05-19 | タカノ株式会社 | レーザー照射装置、及び、素子の生産方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2802891B2 (ja) * | 1994-08-03 | 1998-09-24 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ加工装置 |
JP3450752B2 (ja) * | 1999-06-25 | 2003-09-29 | 住友重機械工業株式会社 | 矩形ビーム用マスクアライメント方法 |
JP4555033B2 (ja) * | 2003-12-25 | 2010-09-29 | 株式会社 液晶先端技術開発センター | 結晶化装置並びに方法、電子デバイスの製造方法、及び光変調素子 |
-
2006
- 2006-03-22 JP JP2006078923A patent/JP4906378B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007258348A (ja) | 2007-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5253916B2 (ja) | マスクレス露光方法 | |
KR20180105079A (ko) | 레이저 가공 장치 | |
KR102192600B1 (ko) | 마킹 장치 및 패턴 생성 장치 | |
JP2010509067A (ja) | 太陽電池パネルのスクライブのためのレーザビームアラインメントの方法および装置 | |
JP2008119718A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2000346618A (ja) | 矩形ビーム用精密アライメント装置と方法 | |
CN109916342A (zh) | 一种定位平台直线度测量***及方法 | |
CN101097407B (zh) | 描图***、描图资料修正装置及方法、基板的制造方法 | |
JPH09260250A (ja) | 露光装置および露光方法 | |
US20170139332A1 (en) | Exposure apparatus and article manufacturing method | |
JPH09260274A (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP4906378B2 (ja) | レーザ加工用マスクの姿勢検出方法及びステージ精度評価方法 | |
JP2006263803A (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 | |
JP2007305696A (ja) | 位置決め装置の精度測定方法 | |
JP2012133122A (ja) | 近接露光装置及びそのギャップ測定方法 | |
EP2637828B1 (en) | Component position measurement method | |
JPH0581357B2 (ja) | ||
JP2005197338A (ja) | 位置合わせ方法及び処理装置 | |
JP2006100590A (ja) | 近接露光装置 | |
JPH08330219A (ja) | 走査型露光装置 | |
JP6926596B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
KR102345439B1 (ko) | 롤투롤 노광 시스템 | |
JP4487688B2 (ja) | ステップ式近接露光装置 | |
KR102627053B1 (ko) | 레이저 가공 장치 | |
JP4184983B2 (ja) | 位置合わせ方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080416 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110512 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110531 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110719 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120110 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120110 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4906378 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |