JP4905876B2 - 導電性接触子ホルダの製造方法および導電性接触子ホルダ - Google Patents

導電性接触子ホルダの製造方法および導電性接触子ホルダ Download PDF

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Description

本発明は、半導体集積回路などの回路構造の通電検査に用いる導電性接触子を収容する導電性接触子ホルダの製造方法および導電性接触子ホルダに関する。
従来、半導体集積回路などの所定の回路構造の通電検査を行う際には、その回路構造が有する外部接続用電極に対応して複数の導電性接触子(コンタクトプローブ)を所定の位置に収容する導電性接触子ユニットが用いられる。この導電性接触子ユニットは、複数の導電性接触子を収容するために絶縁性部材を用いて形成される導電性接触子ホルダを備える。かかる導電性接触子ホルダとして、収容した導電性接触子の位置精度を向上させるとともに、導電性接触子ホルダ自体の強度を保つため、合成樹脂製のホルダ部材に金属プレートを埋設して一体成形する技術が開示されている(例えば、特許文献1を参照)。
特許第3500105号公報
ところで、例えば高い周波数で駆動する回路構造に対応した導電性接触子ユニットを実現する際には、導電性接触子の全長を従来の導電性接触子の全長よりも短くするとともに、導電性接触子ホルダを薄型化する必要がある。しかしながら、注型成形やインサートモールド成形等の技術によって導電性接触子ホルダを製造する場合、強度を保ちつつ薄型化を実現することが難しかった。
また、注型成形やインサートモールド成形等の技術によって導電性接触子ホルダを一体成形する場合には、完成するまでに長い時間(例えば1週間程度)を要するため、迅速に製造することができず、製造コストがかさんでしまうという問題もあった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、強度を保ちながら薄型化を実現することができ、製造時間の短縮および製造コストの低減を達成することができる導電性接触子ホルダの製造方法および導電性接触子ホルダを提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、発明に係る導電性接触子ホルダの製造方法は、回路構造との間で信号の入出力を行う複数の導電性接触子を保持するホルダ部材と、前記ホルダ部材を嵌入可能な中空部を有する基板とを備えた導電性接触子ホルダを製造する導電性接触子ホルダの製造方法であって、絶縁性材料を用いることによって前記ホルダ部材を形成するホルダ部材形成工程と、導電性材料を用いることによって前記基板を形成する基板形成工程と、前記基板形成工程で形成した前記基板が有する前記中空部に対して前記ホルダ部材形成工程で形成した前記ホルダ部材を嵌入して固着する固着工程と、を有することを特徴とする。
発明に係る導電性接触子ホルダの製造方法は、上記発明において、前記固着工程は、前記ホルダ部材と前記基板とをねじで締結することを特徴とする。
発明に係る導電性接触子ホルダの製造方法は、上記発明において、前記固着工程は、前記ホルダ部材と前記基板とをねじで締結することを特徴とする。
発明に係る導電性接触子ホルダの製造方法は、上記発明において、前記基板形成工程は、前記基板の表面に絶縁層を形成する絶縁層形成工程を含むことを特徴とする。
発明に係る導電性接触子ホルダの製造方法は、上記発明において、前記ホルダ部材形成工程は、当該ホルダ部材を貫通し、前記複数の導電性接触子を個別に収容する複数のホルダ孔を形成するホルダ孔形成工程を含むことを特徴とする。
発明に係る導電性接触子ホルダの製造方法は、上記発明において、前記ホルダ部材形成工程は、前記ホルダ孔形成工程で形成された前記複数のホルダ孔同士を互いに連通して気体を流動させるホルダ流路を形成するホルダ流路形成工程を含むことを特徴とする。
発明に係る導電性接触子ホルダの製造方法は、上記発明において、前記基板形成工程は、前記ホルダ流路形成工程で形成されたホルダ流路を介して当該基板の異なる側面同士を貫通して気体を流動させる基板流路を形成する基板流路形成工程を含むことを特徴とする。
発明に係る導電性接触子ホルダは、回路構造との間で信号の入出力を行う複数の導電性接触子を収容保持する導電性接触子ホルダであって、絶縁性材料から成り、当該ホルダ部材を貫通し、前記複数の導電性接触子を個別に収容する複数のホルダ孔を有するホルダ部材と、導電性材料から成り、前記ホルダ部材を嵌入可能な中空部を有し、該中空部に嵌入された前記ホルダ部材と固着される基板と、前記基板の表面に形成された絶縁層と、前記ホルダ部材および前記基板を一括して貫通するとともに前記複数のホルダ孔同士を互いに連通して気体を流動させる流路と、を備えたことを特徴とする。
発明に係る導電性接触子ホルダは、上記発明において、前記ホルダ部材と前記基板とは、ねじで締結することによって固着されたことを特徴とする。
本発明によれば、絶縁性材料を用いることによって複数の導電性接触子を保持するホルダ部材を形成するホルダ部材形成工程と、導電性材料を用いることによって前記ホルダ部材を嵌入可能な中空部を有する基板を形成する基板形成工程と、前記基板形成工程で形成した前記基板が有する前記中空部に対して前記ホルダ部材形成工程で形成した前記ホルダ部材を嵌入して固着する固着工程と、を有することにより、強度を保ちながら薄型化を実現することができ、製造時間の短縮および製造コストの低減を達成することができる導電性接触子ホルダの製造方法を提供することが可能となる。
また、本発明によれば、絶縁性材料によって形成され、回路構造との間で信号の入出力を行う複数の導電性接触子を収容するホルダ部材と、導電性材料によって形成され、前記ホルダ部材と固着される基板と、前記複数の導電性接触子の各々の一部を横切るように前記ホルダ部材および前記基板を貫通し、各導電性接触子の周囲の空気を外部に流出させる流路と、を備えることにより、強度を保ちながら薄型化を実現することができ、製造時間の短縮および製造コストの低減を達成することができる導電性接触子ホルダを提供することが可能となる。かかる導電性接触子ホルダによれば、電流による導電性接触子およびその周辺の発熱を急速に冷却することができるとともに、高温負荷テストでの導電性接触子ホルダおよび導電性接触子ホルダ周辺の高温環境を迅速に作ることも可能となる。
以下、添付図面を参照して本発明を実施するための最良の形態(以後、「実施の形態」と称する)を説明する。なお、図面は模式的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、それぞれの部分の厚みの比率などは現実のものとは異なる場合もあることに留意すべきであり、図面の相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれる場合があることは勿論である。
図1は、本発明の一実施の形態に係る導電性接触子ホルダの構成を示す斜視図である。また、図2は図1のA−A線要部断面図であり、図3は図1のB−B線要部断面図である。これらの図1〜図3に示す導電性接触子ホルダ1は、ICチップ等の半導体集積回路の電気的特性を検査する導電性接触子ユニットの少なくとも一部をなすものであり、検査対象である半導体集積回路と検査用回路とを接続し、信号の送受信を行う複数の導電性接触子2を収容する。
導電性接触子ホルダ1の具体的な構成を説明する。導電性接触子ホルダ1は、検査対象である半導体集積回路の配線パターンに応じて複数の導電性接触子2を収容するホルダ部材3と、このホルダ部材3の周囲を包囲するようにしてホルダ部材3に固着された基板4と、を備える。この導電性接触子ホルダ1を半導体集積回路の検査に用いる場合には、図1の上面側の外周に半導体集積回路の位置ズレを防止するガイド部材が配設される一方、図1の底面側には検査用回路を備えた回路基板が配設され、全体としてソケット型の導電性接触子ユニットを構成する。
ホルダ部材3は、図2および図3にも示すように、上面側に位置する第1部材31と下面側に位置する第2部材32とが積層されて成る。第1部材31および第2部材32には、複数の導電性接触子2を収容するためのホルダ孔33および34がそれぞれ同数ずつ形成され、同じ導電性接触子2を収容するホルダ孔33および34は、互いの軸線が一致するように形成されている。ホルダ孔33および34の形成位置は、半導体集積回路の配線パターンに応じて定められる。
ホルダ孔33および34は、ともに貫通方向に沿って径が異なる段付き孔形状をなしている。すなわち、ホルダ孔33は、導電性接触子ホルダ1の上端面に面する開口を有する小径部33aと、この小径部33aよりも径が大きい大径部33bとからなる。他方、ホルダ孔34は、導電性接触子ホルダ1の下端面に面する開口を有する大径部33bとからなる。これらのホルダ孔33および34の形状は、収容する導電性接触子2の構成に応じて定められる。
第1部材31の下端面および第2部材32の上端面には、溝部33cおよび34cがそれぞれ形成されている。図2に示す場合、この溝部33cおよび34cは図で鉛直方向に上下対象であり、両溝部が合わさって外部との間で気体を流動させるためのホルダ流路6aを形成している。このホルダ流路6aの図2の水平方向の幅は、導電性接触子2の径と比較して十分に大きく、ホルダ部材3が保持する全てのホルダ孔33および34に連通するように形成されている。なお、ホルダ流路6aの大きさや形状は図示されるものに限られているわけではなく、検査対象や検査する際の状況等に応じて設計変更を行うことが可能である。
以上の構成を有するホルダ部材3は、絶縁性が高い合成樹脂材などの絶縁性材料を用いて形成され、数百〜数千本程度の導電性接触子2を収容可能な容積を有している。
なお、図2および図3においては、ホルダ孔33および34の構成を説明するために一部の導電性接触子2を省略して記載しているが、実際の導電性接触子ホルダ1においては、これらのホルダ孔33および34にも導電性接触子2が収容されていることはいうまでもない。
基板4は、高強度かつ耐熱性を有し、熱膨張係数が小さい導電性材料を用いて形成され、ホルダ部材3を嵌入可能な中空部を有する。かかる導電性材料としては、例えばインバー材やコバール材(登録商標)などの低熱膨張金属、半導体、セラミック、ガラス等を用いることができる。基板4の表面には、被膜状の絶縁層41が設けられている。この絶縁層41の厚み(膜厚)は数十〜数百μm、より具体的には30〜50μm程度であり、従来のように注型成形やインサートモールド成形によって形成する場合の絶縁層の厚み(加工上0.3〜0.5mm程度は必要とされる)1/10程度の膜厚を実現している。この結果、本実施の形態と従来方とによって同じ板圧の導電性接触子ホルダを作る場合を考えると、基板4の板厚を従来法よりも0.6〜1.0mm程度厚くすることができる。したがって、従来法によって絶縁層を形成した導電性接触子ホルダよりも高い強度を確保することが可能となる。
ホルダ部材3および基板4には、両者を組み合わせたときに互いに同軸をなすねじ孔が所定箇所に形成されており(図1に示す場合には8箇所)、その各々にねじ5を螺着することによって両部材が締結、固着されている。
基板4の板厚方向略中央部には、導電性接触子ホルダ1を組み立てた状態でホルダ流路6aを介して導電性接触子ホルダ1の対向する側面同士を貫通する基板流路6bが形成され、この基板流路6bとホルダ流路6aとで一つの流路6をなしている。この基板流路6bの大きさや形状も、ホルダ流路6aの場合と同様、図示されるものに限られているわけではなく、検査対象や検査する際の状況等に応じて適宜設計変更を行うことが可能である。
流路6は、外部からの送風または加圧によって導電性接触子ホルダ1内部、特に導電性接触子2の周囲の気体(空気)を流動させて外部へ流出させることを目的として形成されたものである。このような流路6を形成することにより、例えば高周波回路の通電検査のように、大電流が流れることによって導電性接触子2が発熱する場合にも、外部から空気を流入させることによって導電性接触子2およびその周辺の発熱を急速に冷却することができる。また、流路6に外部から高温の熱風を流入することにより、高温負荷テストでの導電性接触子ホルダ1および導電性接触子ホルダ1周辺の高温環境を迅速に作ることが可能となる。
以上の構成を有する基板4は、導電性接触子ホルダ1の強度を向上する機能に加えて、導電性接触子2を電気信号が通過する際に発生し放射される電磁波や、外部から伝播されてくる電磁波が、他の導電性接触子2に達するのを防止する電磁波遮蔽機能を有する。また、基板4にとって個々の導電性接触子2は無視しうる程度の大きさしか有しないので、導電性接触子2から与えられる電荷によって基板4の電位はほとんど変動せず、その0電位が安定的に維持される。このように、基板4が電磁波を遮蔽したりその0電位を安定的に維持する機能を十分に発揮するためには、ホルダ部材3の体積固有抵抗が1010Ω・m以下であることが好ましい。
図4は、導電性接触子ホルダ1に収容される導電性接触子2の詳細な構成を示す図である。また、図5は、導電性接触子ホルダ1を用いた検査時の状態すなわち導電性接触子2が所定の電極に接触している状態を示す図である。これらの図に示す導電性接触子2は、半導体集積回路100を装着したときにその半導体集積回路100の接続用電極(バンプ)101に接触する針状部材21と、検査回路を備えた回路基板200の電極201に接触する針状部材22と、針状部材21と22との間に設けられて二つの針状部材21および22を伸縮自在に連結するバネ部材23とを備える。同じ導電性接触子2を構成する針状部材21および22、ならびにバネ部材23は同一の軸線を有しており、半導体集積回路100を装着する際には、この軸線方向にバネ部材23が伸縮することによって半導体集積回路100の接続用電極への衝撃を和らげる。
針状部材21の先端部は、複数の爪が先端方向に突出した形状をなす。このような形状をなすことにより、針状部材21は、球面状の接続用電極101を確実に保持することができる。他方、針状部材21の基端部には、バネ部材23の端部に当接するフランジ部21aが設けられている。このフランジ部21aは、第1部材31のホルダ孔33のうち大径部33bと小径部33aとの境界をなす階段状部分に当接することにより、導電性接触子2のホルダ部材3からの抜止機能を有する。
針状部材22は、回路基板200上に形成された電極201に当接する先鋭端を備える。この針状部材22は、バネ部材23の伸縮作用によって軸線方向に移動が可能であり、バネ部材23の弾性力によって電極方向に付勢され、接触抵抗を低減した状態で回路基板200の電極と接触する。この針状部材22にも、第2部材32のホルダ孔34のうち大径部34bと小径部34aとの境界をなす階段部分に当接することによって導電性接触子2のホルダ部材3からの抜止機能を有するフランジ部22aが設けられている。
バネ部材23は、針状部材21側が密巻き部23aである一方、針状部材22側が粗巻き部23bである。密巻き部23aの端部はフランジ部21aに当接する一方、粗巻き部23bの端部はフランジ部22aに当接しており、針状部材21および22とバネ部材23とは、バネの巻き付き力および/または半田付けによって接合されている。
導電性接触子2は、半導体集積回路100に供給する信号の種類などに応じて3種類に大別される。すなわち、導電性接触子2は、半導体集積回路100に対して電気信号を入出力する信号用導電性接触子と、半導体集積回路100に対してアース電位を供給するアース用導電性接触子と、半導体集積回路100に対して電力を供給する給電用導電性接触子とに大別される。本実施の形態においては、導電性接触子ホルダ1における導電性接触子2の種類ごとの配置パターンは重要ではなく、導電性接触子2の種類を区別して記載する必要がないので、全ての種類の導電性接触子を「導電性接触子2」と総称している。
次に、以上の構成を有する導電性接触子ホルダの製造方法について説明する。本実施の形態においては、ホルダ部材3と基板4とを組み立てる前に、その両部材を個別の形成工程によって形成する。この場合の形成工程の順序が任意であることはいうまでもない。
まず、ホルダ部材3を形成するホルダ部材形成工程について、図6−1〜図6−3を参照して説明する。図6−1は、ホルダ部材3のうち第1部材31要部の構成を示す図であり、図2と同じ切断面(図1のA−A線断面に相当)を有する断面図である。この図6−1に示す第1部材31は、平板状の絶縁性材料に対して、エッチングまたは打抜成形を行うか、レーザ、電子ビーム、イオンビーム、ワイヤ放電等を用いた加工を行うことにより、小径部33aと大径部33bとからなるホルダ孔33、溝部33c、およびねじ孔35を所定の位置に形成する。このうちねじ孔35は、ねじ5のねじ頭を挿入可能な大径部35aと、ねじ5のねじ部を螺着するためにねじ山(図示せず)が形成された小径部35bとを有する段付き形状をなすように形成する。
図6−2は、ホルダ部材3の第2部材32の要部の構成を示す図であり、図6−1に対応する切断面で見た断面図である。この図6−2に示す第2部材32には、小径部34aと大径部34bとによって段付き形状をなすホルダ孔34、および溝部34cが、上述した第1部材31の場合と同様の加工によって所定の位置に形成されている。
この後、導電性接触子2をホルダ孔33および34に挿入し、第1部材31と第2部材32とを重ね合わせる。この際には、第1部材31および第2部材32の適当な位置に両部材を同軸的に貫通する位置決め孔を形成しておき、その位置決め孔に位置決め用のピンを挿通することによって両部材の位置合わせを行ってもよい。図6−3は、以上説明したホルダ部材形成工程によって形成されたホルダ部材3要部の構成を示す図であり、図2に対応する断面図である。この図6−3に示すホルダ部材3は、第1部材31の溝部33cと第2部材32の溝部34cとが向かい合うことによって気体流動用のホルダ流路6aが形成される。
以上説明したホルダ部材形成工程によって形成されたホルダ部材3の図6−3とは異なる断面のうち、図1のB−B線要部断面に相当する断面が、図3に示す断面図と同じになることは勿論である。
なお、本実施の形態において、必ずしもホルダ部材を二つの基板を組み合わせて形成する必要はない。例えば、導電性接触子が、後工程でホルダ孔に収容可能な形状をなしている場合には、一つの絶縁性材料にホルダ孔、流路、ねじ孔を上記同様に形成することによってホルダ部材を構成してもよい。また、ホルダ部材を3枚以上の平板状の部材を積層することによって形成してもよい。
続いて、基板4を形成する基板形成工程について説明する。平板状の基板4に対して、ホルダ部材3を嵌入可能な中空部4aと、ホルダ部材3を固着するねじ5を螺着するためのねじ孔4bを所定の位置に形成する。この中空部4aやねじ孔4bを形成する際には、基板4に対してエッチング、レーザー、プレス、または他の適当な加工を施す。図7−1は、基板4に対して中空部4aおよびねじ孔4bを形成した状態を示す図であり、図2と同じ切断面(図1のA−A線断面に相当)で見た断面図である。
この後、基板4の表面に絶縁性を有する合成樹脂材等をコーティングすることによって被膜状の絶縁層41を形成する(絶縁層形成工程)。図7−2は、基板4に絶縁層41を形成した状態を示す図であり、図7−1と同じ切断面で見た断面図である。この絶縁層形成工程を行う際には、塗装、カレンダー加工、押出し、浸漬、スプレー、スプレッド、電着などの加工法を用いることができる。絶縁層41は、ホルダ部材3と同種の絶縁性材料であってもよいし、異種の絶縁性材料であってもよい。後者の場合、コーティング材として絶縁性が高く、かつホルダ部材3を構成する絶縁性材料との接合力が高い絶縁性材料を用いて絶縁層41を形成すれば、ホルダ部材3と基板4とをより強固に固着させることができ、両者の密着性を高めるとともに高い絶縁性を発揮させることができる。
なお、絶縁層41を形成する際には、化学気相蒸着法(CVD:Chemical Vapor Deposition)、スパッタリング、またはメッキ等の加工方法を用いてもよい。また、アルマイト等の酸化膜によって形成した絶縁被膜を絶縁層41としてもよい。
この後、基板4の中央部付近に基板4の板厚方向と直交する方向に基板4を貫通する基板流路6bを形成する。図8は、基板流路6bを形成した後の基板4の構成を示す図であり、図3と同じ切断面(図1のB−B線断面に相当)で見た断面図である。
上記の如く個別の形成工程によってそれぞれ形成されたホルダ部材3と基板4とを固着する固着工程について説明する。この固着工程では、ホルダ部材3を基板4の中空部4aに嵌入し、互いに軸線が一致するねじ孔4bおよび35に対してねじ5を螺着する。これにより、ホルダ部材3は基板4に締結固着され、図1〜図3に示す導電性接触子ホルダ1が完成する。なお、ホルダ部材3および基板4に両部材を同軸的に貫通する位置決め孔を形成しておき、この位置決め孔に所定の位置決めピンを挿通することによって位置決めを行えば、精度よく組み立てることができるのでより好ましい。
上述した固着工程では、ねじ5のみを用いてホルダ部材3と基板4を固着したが、さらに絶縁性を有する接着剤を用いて両部材を固着することも可能である。この場合には、両部材の境界面に接着剤を予め塗布しておくか、あるいは組立後に両部材の境界の隙間にその接着剤を注入すればよい。例えば、エポキシ系接着剤やシアノアクリレート系(瞬間)接着剤をホルダ部材3と基板4との境界に注入し、両部材の間の隙間を埋めることにより、熱膨張を考慮する必要がある温度(50℃以上)での使用が想定される場合にも、ホルダ部材3を構成する合成樹脂材等の膨張をより適確に抑えることが可能となる。
以上説明した本発明の一実施の形態に係る導電性接触子ホルダの製造方法によれば、絶縁性材料を用いることによって複数の導電性接触子を保持するホルダ部材を形成するホルダ部材形成工程と、導電性材料を用いることによってホルダ部材を嵌入可能な中空部を有する基板を形成する基板形成工程と、前記基板形成工程で形成した前記基板が有する前記中空部に対して前記ホルダ部材形成工程で形成した前記ホルダ部材を嵌入して固着する固着工程と、を有することにより強度を保ちながら薄型化を実現することができ、製造時間の短縮および製造コストの低減を達成することができる。
また、本実施の形態によれば、個別に製造したホルダ部材と基板とを固着することによって導電性接触子ホルダを製造するので、一体成形する場合と比較して製造時間を短縮することができ、製品の製造および納入をより迅速に行うことが可能となる。
さらに、本実施の形態によれば、基板に結合用のねじ孔を設けてホルダ部材とねじで締結、固着することにより、ねじ山の強度を高くしてねじの締め付け力を増大させることができ、ホルダ部材との結合状態が安定化する。また、繰り返しの取り付け取り外しにもねじ山が損傷し難く、メンテナンス性が良い。
加えて、本実施の形態によれば、絶縁性材料からなり、複数の導電性接触子を個別に収容し、各導電性接触子の両端部を外部に露出させる複数のホルダ孔を有するホルダ部材と、導電性材料からなり、前記ホルダ部材を嵌入する中空部を有し、該中空部に嵌入される前記ホルダ部材を固着する基板と、前記基板の表面に形成された被膜状の絶縁層と、を備え、当該導電性接触子ホルダの内部に、前記ホルダ部材と前記基板とを貫通するとともに前記複数のホルダ孔同士を互いに連通して気体を流動させる流路を形成するため、強度を保ちながら薄型化を実現することができ、製造時間の短縮および製造コストの低減を達成することができる導電性接触子ホルダを提供することが可能となる。
本実施の形態において、被膜状に形成される絶縁層の厚み(膜厚)は、注型成形やインサートモールド成形等によって形成した場合の絶縁層の厚みの1/10程度とすることができる。この結果、同じ板厚を有する導電性接触子ホルダを形成する場合、絶縁層を肉薄にした分だけ基板の本体部分である導電性材料の板厚を従来法よりも大きくすることができる。したがって、導電性接触子を冷却するために気体を流動させる流路の形成が比較的容易になり、高周波回路の通電検査を行う場合のように、全長が短く、検査時に大電流が流れることによって発熱しやすい導電性接触子を収容保持するのに好適な導電性接触子ホルダを製造することができる。
このように、本実施の形態によれば、導電性接触子ホルダを薄型化しても高い強度を確保することができるとともに、導電性接触子の耐久性をも向上させることが可能となる。したがって、検査時の雰囲気や検査後の残留加工歪みによる経時変化に起因する寸法の変化などに影響されずに高精度に保持し得るため、長期に渡って安定した検査を行うことが可能となる。
以上、本発明を実施するための最良の形態を詳述してきたが、本発明は上記一実施の形態によってのみ限定されるべきものではない。例えば、上述した導電性接触子の形状はあくまでも一例であり、他の形状をなす導電性接触子に対しても本発明を適用することが可能である。
また、上記一実施の形態においては、導電性接触子ユニットを半導体集積回路の検査に用いる場合を想定していたが、他にも半導体チップを搭載したパッケージ基板やウェハレベルの検査に用いる高密度プローブユニットに適用可能であり、その場合にもホルダの強度が高く、経時変化などによる接触位置精度が使用によって劣化しないという効果が得られる。
このような例からも明らかなように、本発明は、ここでは記載していないさまざまな実施の形態等を含みうるものであり、特許請求の範囲により特定される技術的思想を逸脱しない範囲内において種々の設計変更等を施すことが可能である。
本発明の一実施の形態に係る導電性接触子ホルダの構成を示す斜視図である。 図1のA−A線要部断面図である。 図1のB−B線要部断面図である。 導電性接触子ホルダに収容される導電性接触子の構成を示す図である。 導電性接触子ホルダを用いた検査時の状態を示す図である。 本発明の一実施の形態に係る導電性接触子ホルダの製造方法のホルダ部材形成工程において、第1部材に対してホルダ孔、ねじ孔、および溝部を形成した状態を示す図である。 本発明の一実施の形態に係る導電性接触子ホルダの製造方法のホルダ部材形成工程において、第2部材に対してホルダ孔および溝部を形成した状態を示す図である。 本発明の一実施の形態に係る導電性接触子ホルダの製造方法のホルダ部材形成工程において、第1部材と第2部材とを重ね合わせた状態を示す図である。 本発明の一実施の形態に係る導電性接触子ホルダの製造方法の基板形成工程において、基板に対して開口部およびねじ孔を形成した状態を示す図である。 本発明の一実施の形態に係る導電性接触子ホルダの製造方法の基板形成工程において、基板に対して絶縁層を形成した状態を示す図である。 本発明の一実施の形態に係る導電性接触子ホルダの製造方法において、基板に対して基板流路を形成した状態を示す図である。
符号の説明
1 導電性接触子ホルダ
2 導電性接触子
3 ホルダ部材
4 基板
4a 中空部
4b ねじ孔
5 ねじ
6 流路
6a ホルダ流路
6b 基板流路
21、22 針状部材
21a、22a フランジ部
23 バネ部材
23a 密巻き部
23b 粗巻き部
31 第1部材
32 第2部材
33、34 ホルダ孔
33a、34a、35b 小径部
33b、34b、35a 大径部
33c、34c 溝部
35 ねじ孔
41 絶縁層
100 半導体集積回路
101 接続用電極
200 回路基板
201 電極

Claims (7)

  1. 回路構造との間で信号の入出力を行う複数の導電性接触子を保持するホルダ部材と、前
    記ホルダ部材を嵌入可能な中空部を有する基板とを備えた導電性接触子ホルダを製造する
    導電性接触子ホルダの製造方法であって、
    絶縁性材料を用いることによって前記ホルダ部材を形成するホルダ部材形成工程と、
    導電性材料を用いることによって前記基板を形成する基板形成工程と、
    前記基板形成工程で形成した前記基板が有する前記中空部に対して前記ホルダ部材形成
    工程で形成した前記ホルダ部材を嵌入し、前記ホルダ部材と前記基板とをねじでの締結の
    みによって固着する固着工程と、
    を有することを特徴とする導電性接触子ホルダの製造方法。
  2. 前記基板形成工程は、前記基板の表面に絶縁層を形成する絶縁層形成工程を含むことを
    特徴とする請求項1記載の導電性接触子ホルダの製造方法。
  3. 前記ホルダ部材形成工程は、当該ホルダ部材を貫通し、前記複数の導電性接触子を個別
    に収容する複数のホルダ孔を形成するホルダ孔形成工程を含むことを特徴とする請求項1
    または2記載の導電性接触子ホルダの製造方法。
  4. 前記ホルダ部材形成工程は、前記ホルダ孔形成工程で形成された前記複数のホルダ孔同
    士を互いに連通して気体を流動させるホルダ流路を形成するホルダ流路形成工程を含むこ
    とを特徴とする請求項3記載の導電性接触子ホルダの製造方法。
  5. 前記基板形成工程は、前記ホルダ流路形成工程で形成されたホルダ流路を介して当該基
    板の異なる側面同士を貫通して気体を流動させる基板流路を形成する基板流路形成工程を
    含むことを特徴とする請求項4記載の導電性接触子ホルダの製造方法。
  6. 回路構造との間で信号の入出力を行う複数の導電性接触子を収容保持する導電性接触子
    ホルダであって、
    絶縁性材料から成り、当該ホルダ部材を貫通し、前記複数の導電性接触子を個別に収容
    する複数のホルダ孔を有するホルダ部材と、
    導電性材料から成り、前記ホルダ部材を嵌入可能な中空部を有し、該中空部に嵌入され
    た前記ホルダ部材とねじでの締結のみによって固着される基板と、
    前記基板の表面に形成された絶縁層と、
    を備え、
    前記ホルダ部材および前記基板を一括して貫通するとともに前記複数のホルダ孔同士を
    互いに連通して気体を流動させる流路が形成されていることを特徴とする導電性接触子ホ
    ルダ。
  7. 前記ホルダ部材は、
    第1部材と第2部材とが厚さ方向に積層されて成り、
    前記第1および第2部材が積層された状態で対向する端面にはそれぞれ溝部が形成され
    ており、両溝部が合わさって前記流路の一部をなしていることを特徴とする請求項6記載
    の導電性接触子ホルダ。
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