JP4845410B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
このような半導体装置は、例えば、一般に電源制御IC(Integrated Circuit)と呼ばれるボルテージレギュレータやボルテージディテクタ、LCD(Liquid Crystal Display)駆動用のDC/DCコンバーター、各種高電圧を扱うドライバーICに応用される。
LDMOSトランジスタの性能指標として、トランジスタ耐圧とオン抵抗がある。トランジスタ耐圧とは、電源制御用ICとしては最も重要な要素であり、各種接合の不純物濃度や深さ、ゲート酸化膜厚など基本的な構造が耐圧から概ね決定される。オン抵抗は、単位面積あたりの電流駆動能力を示し、できるだけ小さいことが望まれる。
ESDは電荷を帯びた人間や物が半導体装置に触れる際に生じるパルス状の高エネルギーとして捉えることができる。ESDから半導体装置を保護する方法としては、内部の素子と出力ピンの間に保護抵抗を挿入し、電圧のレベルを低下させるのが有効であるが、上述のように低いオン抵抗を有するLDMOSトランジスタに抵抗をつけることは得策ではない。
そこで、電源ICでは従来から保護ダイオードを用いて、ESDから素子を守る手段を取っている。しかし、高耐圧であるために寄生ダイオードでは有効な保護能力が得られないため、特別に高耐圧ダイオードを作成しなければならず、またダイオードに大きな領域確保を余儀なくされ、コストアップの要因となっていた。
P型半導体基板(Psub)2にN型のウエル領域(NW)4が形成されている。ウエル領域4内にN型のガードリング領域(N+)67が形成されている。半導体基板2に、ガードリング領域67に対向してP型の基板ピックアップ領域(P+)69が形成されている。
特許請求の範囲及び本明細書において、基板ピックアップ領域と接している半導体基板領域は、第1導電型のウエル領域も含まれる。また、第1導電型はP型又はN型を意味し、第2導電型は第1導電型とは反対導電型のN型又はP型を意味する。
また、上記厚膜酸化膜はLOCOS酸化膜である例を挙げることができる。
このLDMOSトランジスタでは、P型チャネル拡散層8のゲート電極18直下の領域表面がチャネル領域になる。
N型ガードリング領域22、N型ドレイン10間のN型ウエル領域4表面にLOCOS酸化膜20bが形成されている。N型ガードリング領域22はLOCOS酸化膜20b,20cをマスクにして形成されたものである。
P型ウエル領域6表面、及びP型高濃度拡散層26に対してN型ガードリング領域22とは反対側のP型低濃度拡散層24表面にLOCOS酸化膜20dが形成されている。
P型低濃度拡散層24及びP型高濃度拡散層26はLOCOS酸化膜20c,20dをマスクにして形成されたものである。
Nチャネル型LDMOSの形成領域を囲んで、N型ガードリング領域22、N型ウエル領域4、P型低濃度拡散層24及びP型高濃度拡散層26からなる保護ダイオードが形成されている。
なお、この熱処理は、後工程で行なう絶縁層間膜となるBPSG(boro-phospho silicon glass)膜のリフローと兼ねてもよい。
その後、図示していないが通常のCMOSプロセス技術を用いてBPSG膜などの絶縁層間膜を形成し、続いて電気的接続用のホール形成、電気接続用配線、及びパッシベーション保護膜などを形成する。
定格電圧やLDMOSの耐圧が変更になれば寸法Aを最適化することで、所望のブレークダウン電圧を有する保護ダイオードを特別な工程の追加なしに実現することができる。
さらに、LDMOSトランジスタは、ドレイン側のゲート電極18の側面の下に、LOCOS酸化膜20aを備えているので、LDMOSトランジスタのドレイン耐圧を向上させることができる。
さらに、P型低濃度拡散層24はLDMOSトランジスタのP型チャネル拡散層8と同時に形成されたものであるので、製造工程を増やすことなく、P型低濃度拡散層24を形成することができる。
ただし、本発明の半導体装置において、保護ダイオードはトランジスタの形成領域の外周全体に形成されている必要はない。
例えば、基板ピックアップ領域を構成するP型低濃度拡散層24及びP型高濃度拡散層26を(A)に示すようにN型ウエル領域4の四辺に対応させて配置してもよし、(B)に示すようにN型ウエル領域4の二辺に対応させて配置してもよい。また、N型ウエル領域4の一辺に対応して配置してもよい。このように、本発明の半導体装置において保護ダイオードを配置する位置は任意であり、トランジスタの周囲の一部に設けてもよい。
例えば図5に示すように、N型ドレイン10とN型ガードリング領域22(例えば図1参照。)をチャネル長方向に連続して形成したN型拡散層(N+)28を備えているようにしてもよい。
また、図6に示すように、N型ドレイン10とN型ガードリング領域22(例えば図1参照。)を連続して形成したN型拡散層(N+)30を備えているようにしてもよい。
このように、LDMOSトランジスタのN型ドレインと保護ダイオードのN型ガードリング領域を連続して形成すれば、LDMOSトランジスタ及び保護ダイオードの形成領域の面積、ひいてはチップ面積を小さくすることができ、製造コストを低減することができる。
例えば図7に示すように、LOCOS酸化膜20a,20b,20c,20d(例えば図1を参照。)に換えて、半導体基板2に埋め込まれずに形成され、かつ厚み方向の断面形状が略台形に形成されている厚膜酸化膜32a,32b,32c,32dを備えているようにしてもよい。厚膜酸化膜32a,32b,32c,32dは、半導体基板2上全面に例えば300〜500nm程度の酸化膜を形成した後、写真製版技術及びウエットエッチング技術によりパターニングすることで形成できる。
この実施例によれば、LDMOSトランジスタにおいて、酸化膜32aとしてLOCOS酸化膜を用いる場合に比べて、オン抵抗を小さくすることができる。
N型ウエル領域4内にN型チャネル拡散層(Nbody)34とP型低濃度ドレイン(P−)36が隣接して形成されている。P型低濃度ドレイン36内にP型ドレイン(P+)38が形成されている。N型チャネル拡散層34内に、P型ソース(P+)40と、P型ソース40に対してP型ドレイン38とは反対側の領域にN型チャネル拡散層ピックアップ領域(N+)42が形成されている。
このLDMOSトランジスタでは、N型チャネル拡散層34のゲート電極18直下の領域表面がチャネル領域になる。
N型ガードリング領域22の形成領域を囲んで、N型ウエル領域4の周縁部上に、N型ウエル領域4及びP型ウエル6に接してP型低濃度拡散層(Pbody)24が枠状に形成されている。P型低濃度拡散層22内にP型高濃度拡散層(P+)が枠状に形成されている。
Pチャネル型LDMOSの形成領域を囲んで、N型ガードリング領域22、N型ウエル領域4、P型低濃度拡散層24及びP型高濃度拡散層26からなる保護ダイオードが形成されている。
なお、この熱処理は、後工程で行なう絶縁層間膜となるBPSG膜のリフローと兼ねてもよい。
その後、図示していないが通常のCMOSプロセス技術を用いてBPSG膜などの絶縁層間膜を形成し、続いて電気的接続用のホール形成、電気接続用配線、及びパッシベーション保護膜などを形成する。
また、P型低濃度拡散層24とP−ドレイン36を同時に形成するようにすれば、製造工程を増やすことなく、P型低濃度拡散層24を形成することができる。
N型ウエル領域4内に2つのP型低濃度拡散層(P−)44,44が間隔をもって形成されている。両P型低濃度ドレイン44内にP型高濃度拡散層(P+)46が形成されている。P型低濃度拡散層44及びP型高濃度拡散層46はソース及びドレインを構成する。
N型ガードリング領域22の形成領域を囲んで、N型ウエル領域4の周縁部上に、N型ウエル領域4及びP型ウエル6に接してP型低濃度拡散層(Pbody)24が枠状に形成されている。P型低濃度拡散層22内にP型高濃度拡散層(P+)が枠状に形成されている。
Pチャネル型LDMOSの形成領域を囲んで、N型ガードリング領域22、N型ウエル領域4、P型低濃度拡散層24及びP型高濃度拡散層26からなる保護ダイオードが形成されている。
なお、この熱処理は、後工程で行なう絶縁層間膜となるBPSG膜のリフローと兼ねてもよい。
その後、図示していないが通常のCMOSプロセス技術を用いてBPSG膜などの絶縁層間膜を形成し、続いて電気的接続用のホール形成、電気接続用配線、及びパッシベーション保護膜などを形成する。
N型低濃度拡散層48がN型チャネル拡散層34と同時に形成されたものであるようにすれば、製造工程を増加させることなくN型低濃度拡散層48を形成することができる。ただし、N型低濃度拡散層48はN型チャネル拡散層34と同時に形成されたものに限定されるものではない。
N型ウエル領域4内にP型チャネル拡散層(Pbody)8とN型ドレイン(N+)10が間隔をもって形成されている。P型チャネル拡散層8内に、N型ソース(N+)12とP型チャネル拡散層ピックアップ領域(P+)14が形成されている。
N型ソース12、N型ドレイン10間の半導体基板2表面に、ゲート酸化膜16を介してゲート電極18が形成されている。ゲート電極18はLOCOS酸化膜20a上に延伸して形成されている。
N型ガードリング領域22、N型ドレイン10間のN型ウエル領域4表面にLOCOS酸化膜20bが形成されている。N型低濃度拡散層48及びN型ガードリング領域22はLOCOS酸化膜20b,20cをマスクにして形成されたものである。
P型高濃度拡散層26はLOCOS酸化膜20c,20dをマスクにして形成されたものである。
Nチャネル型LDMOSの形成領域を囲んで、N型ガードリング領域22、N型低濃度拡散層48、P型ウエル領域6及びP型高濃度拡散層26からなる保護ダイオードが形成されている。
N型ウエル領域4内にN型チャネル拡散層(Nbody)34とP型低濃度ドレイン(P−)36が隣接して形成されている。P型低濃度ドレイン36内にP型ドレイン(P+)38が形成されている。N型チャネル拡散層34内に、P型ソース(P+)40とN型チャネル拡散層ピックアップ領域(N+)42が形成されている。
P型ソース40、P型ドレイン38間の半導体基板2表面に、ゲート酸化膜16を介してゲート電極18が形成されている。ゲート電極18はLOCOS酸化膜20a上に延伸して形成されている。
N型ガードリング領域22、N型ドレイン10間のN型ウエル領域4表面にLOCOS酸化膜20bが形成されている。
N型ガードリング領域22、P型高濃度拡散層26間のN型低濃度拡散層48表面及びP型ウエル領域6表面にLOCOS酸化膜20cが形成されている。P型ウエル領域6表面にLOCOS酸化膜20dが形成されている。
Pチャネル型LDMOSの形成領域を囲んで、N型ガードリング領域22、N型低濃度拡散層48、P型ウエル領域6及びP型高濃度拡散層26からなる保護ダイオードが形成されている。
さらに、N型低濃度拡散層48はN型チャネル拡散層34と同時に形成されたものであるので、製造工程を増加させることなく、N型低濃度拡散層48を形成することができる。ただし、N型低濃度拡散層48はN型チャネル拡散層34と同時に形成されたものに限定されるものではない。
P型低濃度拡散層24がP型チャネル拡散層8と同時に形成されたものであるようにすれば、製造工程を増加させることなくP型低濃度拡散層24を形成することができる。ただし、P型低濃度拡散層24はP型チャネル拡散層8と同時に形成されたものに限定されるものではない。
ただし、本発明の半導体装置において、保護ダイオードはトランジスタの形成領域の外周全体に形成されている必要はなく、図4に示した第1態様の実施例と同様に、基板ピックアップ領域を構成するP型高濃度拡散層26をN型ウエル領域4の四辺に対応させて配置してもよし、N型ウエル領域4の二辺に対応させて配置してもよい。また、N型ウエル領域4の一辺に対応して配置してもよい。このように、本発明の半導体装置において保護ダイオードを配置する位置は任意であり、トランジスタの周囲の一部に設けてもよい。
直流電源51からの電源を負荷53に安定して供給すべく、定電圧発生回路55が設けられている。定電圧発生回路55は、直流電源51が接続される入力端子(Vbat、電源端子)57、基準電圧発生回路(Vref)59、演算増幅器61、出力ドライバーを構成するPチャネルMOSトランジスタ63、分割抵抗素子R1,R2及び出力端子(Vout)65を備えている。PチャネルMOSトランジスタ63に保護ダイオード64が接続されている。PチャネルMOSトランジスタ63及び保護ダイオード64は本発明を構成するトランジスタ及び保護ダイオードが適用される。
例えば、N型半導体基板を用い、上記の実施例とは反対導電型の構成により形成することもできる。
4 N型ウエル領域
6 P型ウエル領域
8 P型チャネル拡散層
10 N型ドレイン
12 N型ソース
14 P型チャネル拡散層ピックアップ領域
16 ゲート酸化膜
18 ゲート電極
20a,20b,20c,20d LOCOS酸化膜
22 N型ガードリング領域(ガードリング領域)
24 P型低濃度拡散層(基板ピックアップ領域)
26 P型高濃度拡散層(基板ピックアップ領域)
48 N型低濃度拡散層(ガードリング領域)
Claims (11)
- 第1導電型の半導体基板に形成された第2導電型のウエル領域と、
前記ウエル領域内に形成されたトランジスタと、
前記ウエル領域内の周縁部近傍に形成され、かつ前記ウエル領域よりも第2導電型不純物濃度が高い第2導電型のガードリング領域と、
前記ウエル領域の周縁部上に前記ウエル領域及び前記半導体基板に接して形成され、かつ前記半導体基板よりも第1導電型不純物濃度が高い第1導電型の基板ピックアップ領域と、
前記ガードリング領域と前記基板ピックアップ領域の間の前記半導体基板表面に形成された厚膜酸化膜を備え、
前記ウエル領域、前記ガードリング領域及び前記基板ピックアップ領域からなる保護ダイオードが形成されており、
前記基板ピックアップ領域は、前記厚膜酸化膜をマスクにして自己整合的に形成された、前記半導体基板よりも第1導電型不純物濃度が高い低濃度拡散層と、前記低濃度拡散層よりも第1導電型不純物濃度が高い高濃度拡散層の二重拡散層で形成されており、
前記トランジスタは、前記ウエル領域内に第1導電型のチャネル拡散層と、前記チャネル拡散層内に第2導電型のソースを備え、前記ウエル領域をドレインとし、前記チャネル拡散層のゲート電極直下の領域表面をチャネル領域とするLDMOSトランジスタであり、
前記チャネル領域は前記ピックアップ領域の前記低濃度拡散層と同時に形成されたものである半導体装置。 - 前記LDMOSトランジスタは前記ウエル領域内に第2導電型のドレインコンタクト用拡散層を備えており、
前記ドレインコンタクト用拡散層は前記ガードリング領域に連続して形成されている請求項1に記載の半導体装置。 - 前記ガードリング領域は、前記厚膜酸化膜をマスクにして自己整合的に形成された、前記ウエル領域よりも第2導電型不純物濃度が高い低濃度拡散層と、前記低濃度拡散層よりも第2導電型不純物濃度が高い高濃度拡散層の二重拡散層で形成されている請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 第1導電型の半導体基板に形成された第2導電型のウエル領域と、
前記ウエル領域内に形成されたトランジスタと、
前記ウエル領域内の周縁部上に前記ウエル領域及び前記半導体基板に接して形成され、かつ前記ウエル領域よりも第2導電型不純物濃度が高い第2導電型のガードリング領域と、
前記ウエル領域の外周部の前記半導体基板に形成され、かつ前記半導体基板よりも第1導電型不純物濃度が高い第1導電型の基板ピックアップ領域と、
前記ガードリング領域と前記基板ピックアップ領域の間の前記半導体基板表面に形成された厚膜酸化膜を備え、
前記ウエル領域、前記ガードリング領域及び前記基板ピックアップ領域からなる保護ダイオードが形成されており、
前記ガードリング領域は、前記厚膜酸化膜をマスクにして自己整合的に形成された、前記ウエル領域よりも第2導電型不純物濃度が高い低濃度拡散層と、前記低濃度拡散層よりも第2導電型不純物濃度が高い高濃度拡散層の二重拡散層で形成されており、
前記トランジスタは、前記ウエル領域内に第2導電型のチャネル拡散層と前記チャネル拡散層に接している第1導電型の低濃度ドレインと、前記チャネル拡散層内に第1導電型のソースと、前記低濃度ドレイン内に第1導電型のドレインコンタクト用拡散層を備え、前記チャネル拡散層のゲート電極直下の領域表面をチャネル領域とするLDMOSトランジスタであり、
前記チャネル領域は前記ガードリング領域の前記低濃度拡散層と同時に形成されたものである半導体装置。 - 前記基板ピックアップ領域は、前記厚膜酸化膜をマスクにして自己整合的に形成された、前記半導体基板よりも第1導電型不純物濃度が高い低濃度拡散層と、前記低濃度拡散層よりも第1導電型不純物濃度が高い高濃度拡散層の二重拡散層で形成されている請求項4に記載の半導体装置。
- 前記保護ダイオードは、定格電圧よりも高く、かつ前記トランジスタのブレークダウン電圧よりも低い耐圧に設定されている請求項1から5のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記ガードリング領域と前記基板ピックアップ領域は間隔をもって形成されている請求項1から6のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記トランジスタは、少なくともドレイン側のゲート電極側面の下に、前記厚膜酸化膜と同時に形成された厚膜酸化膜を備えている請求項1から7のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記厚膜酸化膜はLOCOS酸化膜である請求項1から8のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記厚膜酸化膜は、前記半導体基板に埋め込まれずに形成され、かつ厚み方向の断面形状が台形に形成されている請求項1から8のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記ウエル領域は、回路に電源電圧を供給する電源端子に電気的に接続されている請求項1から10のいずれかに記載の半導体装置。
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