JP4835155B2 - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
[技術分野]
本発明は投影光学系と基板との間を液体で満たした状態で基板を露光する露光装置、及びこの露光装置を用いるデバイス製造方法に関するものである。
Re=k1・λ/NA … (1)
δ=±k2・λ/NA2 … (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1、k2はプロセス係数である。(1)式、(2)式より、解像度Reを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。
また本発明によれば、投影光学系の像面側への液体や気体の浸入を防止しつつ露光処理及び計測処理を高精度で行うことができるので、基板を良好に露光できる。
図1は本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。
図1において、露光装置EXは、レチクルRを支持するレチクルステージRSTと、基板Wを支持する基板ステージWSTと、レチクルステージRSTに支持されているレチクルRを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたレチクルRのパターンの像を基板ステージWSTに支持されている基板Wに投影露光する投影光学系PLと、露光装置EX全体の動作を統括制御する制御装置CONTとを備えている。
本発明の露光装置についてさらに図面を参照しながら説明する。図10は本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。
マスクステージMSTは、マスクMを保持して移動可能であって、例えばマスクMを真空吸着(又は静電吸着)により固定している。マスクステージMSTは、リニアモータ等を含むマスクステージ駆動装置MSTDにより、投影光学系PLの光軸AXに垂直な平面内、すなわちXY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微少回転可能である。そして、マスクステージMSTは、X軸方向に指定された走査速度で移動可能となっており、マスクMの全面が少なくとも投影光学系PLの光軸AXを横切ることができるだけのX軸方向の移動ストロークを有している。
なお、図13に示す第1シール部材330の形態は一例であって、空間G301aと空間G301bとの圧力差によって接触部333が光学素子302の側面302Tに密着するように、接触部333(第1シール部材330)を設置したときの姿勢、あるいは本体部331に対する接触部333の位置が最適に設定されていればよい。
Claims (15)
- 液体に接する光学部材及び該光学部材とは異なる複数の光学素子を含む投影光学系を備え、前記投影光学系と前記液体とを介した露光光で基板を露光する露光装置において、
前記複数の光学素子を保持する鏡筒本体と、
前記光学部材を保持する保持部材と、
前記鏡筒本体と前記保持部材とを接続し、前記光学部材を介した前記液体の振動を受けて前記保持部材を前記鏡筒本体に対して変位させ、前記鏡筒本体に伝わる振動を吸収する接続機構と、
前記保持部材の変位に伴い、前記複数の光学素子のうち少なくとも一つの光学素子を駆動して、前記基板上に投影されるパターンの像を調整する像調整機構とを備えることを特徴とする露光装置。 - 前記接続機構は、前記保持部材を前記鏡筒本体に対して変位可能に接続することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記接続機構は、前記保持部材と前記鏡筒本体とを振動的に分離することを特徴とする請求項1又は請求項2記載の露光装置。
- 前記接続機構は、前記光学部材が少なくとも3つの方向に変位可能なように、前記保持部材を保持することを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記光学部材は、所定の光軸を有するレンズ素子であり、
前記3つの方向は、前記光軸方向又は前記光軸と直交する2つの軸周りの方向を含むことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記接続機構は、前記鏡筒本体に対して、前記保持部材を傾斜可能に接続することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記接続機構は弾性部材を含むことを特徴とする請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記弾性部材は、フレクシャを有することを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 前記保持部材の荷重の前記接続機構への作用を低減するための荷重低減機構を備えたことを特徴とする請求項1から請求項8のうちいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記荷重低減機構は、前記保持部材の荷重を非接触で前記鏡筒本体に支持させることを特徴とする請求項9記載の露光装置。
- 前記像調整機構は、前記複数の光学素子に対する前記光学部材の変位に伴って発生し得る投影パターンの像質変化を補償することを特徴とする請求項1から請求項10のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 前記複数の光学素子と前記光学部材との位置関係を検出する第1検出器を備え、
前記像調整機構は、前記第1検出器の検出結果に基づいて像調整を行うことを特徴とする請求項1から請求項11のうちいずれか一項記載の露光装置。 - 前記像調整機構は、前記光学部材と前記基板の露光面との位置関係の変動を補償することを特徴とする請求項1から請求項12のうちいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記光学部材と前記基板の露光面との位置関係を検出する第2検出器を備え、
前記像調整機構は、前記第2検出器の検出結果に基づいて像調整を行うことを特徴とする請求項13記載の露光装置。 - 請求項1から請求項14のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
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