JP4831096B2 - ガラス基板用洗浄剤及びガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
1.少なくとも、アスコルビン酸、無機酸、塩化アルミニウム及び水を含有することを特徴とするガラス基板用洗浄剤(以下、この洗浄剤を本発明の洗浄剤という。)。
2.前記洗浄剤中のフッ素イオンの濃度が0.03質量%以下であることを特徴とする、前記1に記載のガラス基板用洗浄剤。なお、フッ素イオンの濃度が0.03質量%以下であるとはフッ素イオンの濃度が0質量%すなわちフッ素イオンを含有しない場合を含む。
3.アスコルビン酸を0.01〜5質量%、無機酸を1〜10質量%、塩化アルミニウムを0.05〜30質量%含む、前記1または2に記載のガラス基板用洗浄剤。
4.前記無機酸が、硝酸、塩酸または臭化水素である、前記1〜3のいずれか1項に記載のガラス基板用洗浄剤。
5.酸化セリウムを含有する研磨剤を用いてガラス基板を研磨する研磨工程と、研磨後の該基板を前記1〜4のいずれか1項に記載の洗浄剤により洗浄する洗浄工程とを含むことを特徴とする、ガラス基板の製造方法。
6.ガラス基板が磁気ディスク用ガラス基板である前記5に記載のガラス基板の製造方法。
アスコルビン酸は、酸化セリウム(CeO2)中のセリウムを選択的に溶解し還元する作用を有し、本発明の洗浄剤に必須の成分である。なお、アスコルビン酸にはL体とD体とが存在し、いずれも使用することができるが、好ましくはL体である。
無機酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、亜塩素酸、亜硫酸、亜硝酸、リン酸及び臭化水素からなる群より選ばれる1種以上の無機酸が挙げられる。なかでも、Ce(NO3)3の水に対する溶解性に優れるとともに、酸化力の強いオキソ酸である、硝酸、塩酸または臭化水素が好ましく、硝酸がより好ましい。
塩化アルミニウムは、砥粒の成分であるランタン及びフッ素から生成するフッ化ランタンを溶解する作用を有し、本発明の洗浄剤に必須の成分である。塩化アルミニウムの含有量は、好ましくは0.05質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、特に好ましくは1質量%以上とする。0.05質量%未満では、フッ化ランタンを溶解する作用が充分ではなく、酸化セリウムを主成分とする研磨砥粒に対する溶解が充分ではない。また、塩化アルミニウムの含有量は、30質量%以下であることが好ましい。30質量%を超えると、溶解度を超えてしまう恐れがある。溶解時間を短くしたいなどの場合はたとえば10質量%以下とすることが好ましく、また、洗浄する基板の枚数が少ないなどの場合はたとえば3質量%以下とすればよい。
水は、上記したアスコルビン酸、無機酸及びアルミニウムを溶解するための溶媒である。水としては、例えば、脱イオン水、超純水、電荷イオン水、水素水及びオゾン水などが挙げられる。なお、水は本発明の洗浄剤の流動性を制御する機能を有するので、その含有量は、洗浄速度等の目標とする洗浄特性に合わせて適宜設定することができるが、典型的には55〜98質量%である。
表1に示す還元剤を0.1M、表1に示す酸化剤を1Nの濃度で含有するエッチャント溶液を10mL作製した。当該水溶液に対し、それぞれ酸化セリウム粒子(三井金属製E20、平均粒径:1〜1.5μm)50mgを投入し、室温下で10分間の超音波処理を行った後、水溶液中に溶出したCe量を、誘導結合プラズマ発光法により測定した。結果を表1に示す。
硝酸を3質量%、アスコルビン酸を1質量%含有する水溶液を100mL作製した。また、硝酸、アスコルビン酸を含有する水溶液に、塩化アルミニウムを0.1、1.0、2.0質量%含有する塩化アルミニウム6水和物を投入し、硝酸を3質量%、アスコルビン酸を1質量%、塩化アルミニウムを0.055、0.55、1.1質量%含有する水溶液を各100mL作製した。これら水溶液に対し、攪拌後、それぞれ酸化セリウム粒子(三井金属製E20、平均粒径:1〜1.5μm)1gを投入し、40℃下で24時間溶解し、残留物の質量から酸化セリウムの溶解量を測定した。結果を表2に示す。
硝酸を3質量%、アスコルビン酸を1質量%含有する水溶液を100mL作製した。また、硝酸、アスコルビン酸を含有する水溶液に、フッ化カリウムを投入し、硝酸が3質量%、アスコルビン酸が1質量%、フッ素イオン濃度が0.003、0.016、0.033質量%である水溶液を各100mL作製した。これら水溶液を攪拌後、それぞれに酸化セリウム粒子(三井金属製E20、平均粒径:1〜1.5μm)1gを投入し、40℃下で24時間溶解し、残留物の質量から酸化セリウムの溶解量を測定した。結果を表3に示す。
硝酸を3質量%、アスコルビン酸を1質量%、塩化アルミニウムを2質量%含有する水溶液を100mL作製した。また、硝酸、アスコルビン酸を含有する水溶液に、フッ化カリウムを投入し、硝酸が3質量%、アスコルビン酸が1質量%、フッ素イオン濃度が0.003、0.016、0.033質量%である水溶液を各100mL作製した。これら水溶液を攪拌後、それぞれに酸化セリウム粒子(三井金属製E20、平均粒径:1〜1.5μm)1gを投入し、40℃下で24時間溶解し、残留物の質量から酸化セリウムの溶解量を測定した。結果を表4に示す。
硝酸を3質量%含有する水溶液を100mL作製した。また、硝酸を含有する水溶液に、アスコルビン酸を投入し、硝酸を3質量%、アスコルビン酸を0.01、0.1、0.5、1.0、3.0、10.0質量%含有する水溶液を各100mL作製した。これら水溶液を攪拌後、それぞれ酸化セリウム粒子(三井金属製E20、平均粒径:1〜1.5μm)1gを投入し、40℃下で24時間溶解し、残留物の質量から酸化セリウムの溶解量を測定した。結果を表5に示す。
Claims (6)
- 少なくとも、アスコルビン酸、無機酸、塩化アルミニウム及び水を含有することを特徴とするガラス基板用洗浄剤。
- 前記洗浄剤中のフッ素イオンの濃度が0.03質量%以下であることを特徴とする、請求項1に記載のガラス基板用洗浄剤。
- アスコルビン酸を0.01〜5質量%、無機酸を1〜10質量%、塩化アルミニウムを0.05〜30質量%含む、請求項1または2に記載のガラス基板用洗浄剤。
- 前記無機酸が、硝酸、塩酸または臭化水素である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガラス基板用洗浄剤。
- 酸化セリウムを含有する研磨剤を用いてガラス基板を研磨する研磨工程と、研磨後の該基板を請求項1〜4のいずれか1項に記載の洗浄剤により洗浄する洗浄工程とを含むことを特徴とする、ガラス基板の製造方法。
- ガラス基板が磁気ディスク用ガラス基板である請求項5に記載のガラス基板の製造方法。
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