JP4830260B2 - 膜厚検出方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明の実施の形態1を説明するための膜厚検出装置の構成図である。なお、実施の形態1の説明において、図3,図4にて説明した構成要素と同じものについては同じ符号を用いて詳しい説明は省略する。本実施の形態では、Mg系の蒸着源2をスパッタして透明なガラスからなる基板3に対して成膜する装置を例にして説明する。
図2は本発明の実施の形態2を説明するための膜厚検出装置の構成図である。なお、実施の形態2の説明において、図1,図3,図4にて説明した構成要素と同じものについては同じ符号を用いて詳しい説明は省略する。
2 蒸着源
3 基板
5 電源
6 プラズマ
7 膜(薄膜)
11 光度計
12 フィルタ
13 第2の光度計
14 シャッタ
15 電力導入部
Claims (1)
- 基板上の薄膜の膜厚を測定/検出する膜厚検出方法であって、前記基板の成膜面とは反対側であって膜分子が到達しない位置にフィルタと光度計を配置し、前記フィルタを介して前記光度計により、プラズマ光の発光における特定波長の膜による吸収または透過率を測定して、該膜の膜厚を検出する膜厚検出方法において、
前記フィルタは選択する波長が異なる複数のフィルタで構成され、前記フィルタを切り替えることにより、前記基板に堆積する材料の励起波長の光量、及び、前記基板に堆積する材料以外のガスの励起波長の光量を測定し、当該双方の測定結果を用いて、プラズマ状態の経時変化による前記基板に堆積する材料の経時変化を補正しながら、前記膜厚を検出することを特徴とする膜厚検出方法。
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