JP4820354B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (15)
- 2つの隣接するキャリブレート位置間でエンコーダ測定システムの回折格子をキャリブレーションする方法であって、
選択された速度で、エンコーダタイプセンサを有するセンサオブジェクトおよび回折格子の一方を、サーボコントローラを使用して、前記センサオブジェクトおよび前記回折格子の他方と或る離間距離を保って前記他方に沿って移動させること、および
前記移動中、2つのキャリブレート位置間の複数の位置で前記回折格子に対する前記センサオブジェクトの位置を測定すること、を含み、
前記速度は、前記センサオブジェクトおよび前記回折格子の前記一方についての前記サーボコントローラによる前記離間距離を保つための追従制御が、前記2つのキャリブレート位置間の距離よりも短い距離にわたって延在する前記回折格子中の障害の全部又は一部に関して実質的に不感帯となる速度に選択される、方法。 - 前記速度が、前記2つのキャリブレート位置の間の前記距離によって倍増する前記センサオブジェクトおよび前記回折格子の一方の前記サーボコントローラの帯域幅に少なくともほぼ等しくなるように選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記センサオブジェクトおよび前記回折格子の前記一方の前記サーボコントローラの帯域幅を減少させることで、前記回折格子の前記障害の全部又は一部に関する前記追従制御の能力を低下させる、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記移動および測定を繰り返すこと、および測定値の結果を平均化することをさらに含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記センサオブジェクトまたは前記回折格子の前記一方を同一および/または別の移動方向で前記移動および測定を繰り返すことをさらに含む、請求項4に記載の方法。
- 前記測定の結果を、前記回折格子のメトロロジマップに組み込むことをさらに含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記測定が、前記エンコーダタイプセンサをサンプリングすることを含み、
前記エンコーダタイプセンサのサンプル周波数が、前記センサオブジェクトまたは前記回折格子の一方のサーボコントローラの帯域幅の少なくとも10倍又は少なくとも50倍である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。 - 前記移動および前記測定の前に、少なくとも2つのキャリブレート位置を判定するために前記回折格子の低周波キャリブレーションを実行することを含み、
前記方法が前記回折格子の高周波キャリブレーションとして使用される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 - 前記移動および前記測定を繰り返して、別の隣接するキャリブレート位置間で前記回折格子をキャリブレーションすることをさらに含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法を実行するように構成される位置測定システム。
- 請求項10に記載の前記位置測定システムを備えるリソグラフィ装置。
- 2つの隣接するキャリブレート位置間でエンコーダ測定システムの回折格子をキャリブレーションする方法であって、
選択された速度でセンサおよび回折格子の一方を、サーボコントローラを使用して、前記センサおよび前記回折格子の他方と或る離間距離を保って前記他方に沿って移動させること、および
前記移動中、2つのキャリブレート位置間の複数の位置で前記回折格子に対する前記センサの位置を測定すること、を含み、
前記速度は、前記センサおよび前記回折格子の前記一方についての前記サーボコントローラによる前記離間距離を保つための追従制御が、1)前記2つのキャリブレート位置間の距離よりも少なくとも長い距離にわたって延在する前記回折格子内の障害に関して働き、かつ、2)前記2つのキャリブレート位置間の距離よりも短い距離にわたって延在する前記回折格子内の障害の全部又は一部に関して実質的に不感帯となる、速度に選択される、方法。 - センサおよび回折格子と、
選択された速度で前記センサおよび前記回折格子の一方を前記センサおよび前記回折格子の他方と或る離間距離を保って前記他方に対して移動させるサーボコントローラのコントロールユニットと、を備え、
前記コントロールユニットは、
前記センサおよび前記回折格子の前記一方についての前記サーボコントローラによる前記離間距離を保つための追従制御が、1)前記2つのキャリブレート位置間の距離よりも少なくとも長い距離にわたって延在する前記回折格子内の障害に関して働き、かつ、2)前記2つのキャリブレート位置間の距離よりも短い距離にわたって延在する前記回折格子内の障害の全部又は一部に関して実質的に不感帯となる、速度に前記速度を選択する、位置測定システム。 - 放射ビームを調整する照明システム、
パターン付き放射ビームを形成するために放射ビームをパターン形成するパターニングデバイスを支持するパターンサポート、
基板を支持する基板サポート、
前記基板上に前記パターン付き放射ビームを投影する投影システム、および
前記サポートの1つの位置を測定する位置測定システム
を備えるリソグラフィ装置であって、
前記位置測定システムが、
センサおよび回折格子と、
選択された速度で前記センサおよび前記回折格子の一方を前記センサおよび前記回折格子の他方と或る離間距離を保って前記他方に対して移動させるサーボコントローラのコントロールユニットと、を備え、
前記コントロールユニットは、
前記センサおよび前記回折格子の前記一方についての前記サーボコントローラによる前記離間距離を保つための追従制御が、1)前記2つのキャリブレート位置間の距離よりも少なくとも長い距離にわたって延在する前記回折格子内の障害に関して働き、かつ、2)前記2つのキャリブレート位置間の距離よりも短い距離にわたって延在する前記回折格子内の高度変化の全部又は一部に関して実質的に不感帯となる、速度に前記速度を選択する、リソグラフィ装置。 - 前記位置測定システムが、前記2つのキャリブレート位置間の複数の位置で前記センサによって測定される前記回折格子の障害データを記憶する記憶ユニットをさらに備える、請求項14に記載の装置。
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