TWI396054B - 微影裝置和感測器校準方法 - Google Patents

Description

微影裝置和感測器校準方法

本發明係關於用於校準輔助感測器系統之方法、微影裝置及用以量測物件之位置的位置量測系統。

微影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)的機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在該狀況下，圖案化設備(其或者被稱作光罩或主光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上的電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包括晶粒之一部分、一個晶粒或若干晶粒)上。圖案之轉印通常係經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。一般而言，單一基板將含有經順次圖案化之鄰近目標部分的網路。習知微影裝置包括：所謂的步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標部分上來照射每一目標部分；及所謂的掃描器，其中藉由在給定方向("掃描"方向)上經由輻射光束而掃描圖案同時平行或反平行於此方向而同步地掃描基板來照射每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上來將圖案自圖案化設備轉印至基板。

在微影裝置中已提議利用編碼器量測系統來量測基板平台之位置。此外，基板平台可具備編碼器感測器，其將量測光束引導至格柵。格柵可連接至微影裝置之結構，諸如，微影裝置之度量衡框架。然而，參考結構可能經受振 動或其他機械干擾，此可導致附著至其之格柵的振動。自然地，該等振動可能導致編碼器量測系統之不精確性，因為格柵相對於其所要位置之移位可能導致對應編碼器之讀出的誤差。

為了處理此問題，可提供輔助感測器系統以量測格柵相對於參考之位置。藉由針對如由輔助感測器系統所提供之格柵的位置偏差來校正編碼器系統之讀出，可增加編碼器量測系統之量測精確性，藉此可能地減少所提及之振動或其他干擾的效應。

需要促進輔助感測器系統之校準。

根據本發明之一實施例，提供一種校準輔助感測器系統之方法。輔助感測器系統可用以量測格柵相對於參考之位置，格柵形成用以量測微影裝置之基板台之位置之編碼器量測系統的一部分，其中編碼器量測系統進一步包含安裝至基板台之感測器。該方法包含：．激勵格柵以在輔助感測器系統之至少一量測方向上進行移動；．在移動期間自感測器系統獲得輔助感測器系統輸出信號；及．基於移動期間所獲得之輸出信號來調整輔助感測器系統之參數，以藉此校準輔助感測器系統。

在本發明之另一實施例中，提供一種微影裝置，其包含： ．照明系統，照明系統經組態以調節輻射光束；．支撐件，支撐件經建構以支撐圖案化設備，圖案化設備能夠在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以形成經圖案化輻射光束；．基板台，基板台經建構以固持基板；及．投影系統，投影系統經組態以將經圖案化輻射光束投影至基板之目標部分上。

微影裝置進一步包含用以量測基板台位置之編碼器量測系統。編碼器量測系統包含安裝至基板台之感測器，及包含格柵之感測器目標。輔助感測器系統經提供以量測格柵相對於參考之位置，且激勵設備經提供以激勵格柵。微影裝置經配置以：．藉由激勵設備來激勵格柵，以藉此在輔助感測器系統之至少一量測方向上移動格柵；．在移動期間自感測器系統獲得輔助感測器系統輸出信號；及．自所獲得輸出信號調整輔助感測器系統之參數，以藉此校準輔助感測器系統。根據本發明之另一實施例，提供一種微影裝置，其包含：．照明系統，照明系統經組態以調節輻射光束；．支撐件，支撐件經建構以支撐圖案化設備，圖案化設備能夠在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以形成經圖案化輻射光束； ．基板台，基板台經建構以固持基板；及．投影系統，投影系統經組態以將經圖案化輻射光束投影至基板之目標部分上。

微影裝置進一步包含用以量測基板台及支撐件中之一者之位置的編碼器量測系統。編碼器量測系統包含安裝至基板台及支撐件中之一者之感測器，及包含格柵之感測器目標。輔助感測器系統經提供以量測格柵相對於參考之位置，且激勵設備經提供以激勵格柵。微影裝置經配置以：．藉由激勵設備來激勵格柵，以藉此在感測器系統之至少一量測方向上移動格柵；．在移動期間自輔助感測器系統獲得輔助感測器系統輸出信號；及．自所獲得輸出信號調整輔助感測器系統之參數，以藉此校準輔助感測器系統。

根據本發明之又一實施例，提供一種用以量測物件之位置的位置量測系統，位置量測系統包含安裝至物件之感測器，及包含格柵之感測器目標。位置量測系統進一步包含用以量測格柵相對於參考之位置的輔助感測器系統，及用以激勵格柵之激勵設備。位置量測系統經配置以：．藉由激勵設備來激勵格柵，以藉此在輔助感測器系統之至少一量測方向上移動格柵；．在移動期間自感測器系統獲得輔助感測器系統輸出信號；及．自所獲得輸出信號調整輔助感測器系統之參數，以藉此 校準輔助感測器系統。

根據本發明之再一實施例，提供一種校準增量感測器系統之方法，感測器系統用以量測格柵相對於參考之位置。格柵為用以量測物件之位置之編碼器量測系統的一部分。編碼器量測系統進一步包含安裝至物件之感測器。該方法包含：．激勵格柵以在感測器系統之至少一量測方向上進行移動；．在移動期間自感測器系統獲得感測器系統輸出信號；及．基於移動期間所獲得之輸出信號來調整感測器系統之參數，以藉此校準感測器系統。

現將參看隨附示意性圖式而僅藉由實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中，對應參考符號指示對應部分。

圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。該裝置包括：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，UV輻射或任何其他適當輻射)；光罩支撐結構(例如，光罩台)MT，其經建構以支撐圖案化設備(例如，光罩)MA且連接至第一定位設備PM，第一定位設備PM經組態以根據某些參數來精確地定位圖案化設備。該裝置亦包括基板台(例如，晶圓台)WT或"基板支撐件"，其經建構以固持基板(例如，塗覆抗蝕劑之晶圓)W且連接至第二定位設備PW，第二定位設備PW經組態以根據某些參數來精確地定位基板。該裝置進一步包括投影系統(例 如，折射投影透鏡系統)PS，其經組態以將由圖案化設備MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如，包括一或多個晶粒)上。

照明系統IL可包括用於引導、成形或控制輻射之各種類型的光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。

光罩支撐結構MT支撐(亦即，承載)圖案化設備MA。光罩支撐結構MT以視圖案化設備MA之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如，圖案化設備MA是否固持於真空或低(氣體、空氣或預定氣體混合物)壓力環境中)而定的方式來固持圖案化設備MA。光罩支撐結構MT可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術來固持圖案化設備MA。光罩支撐結構MT可為(例如)框架或台，其可根據需要而為固定或可移動的。光罩支撐結構MT可確保圖案化設備MA(例如)相對於投影系統PS而處於所要位置。可認為本文對術語"主光罩"或"光罩"之任何使用均與更通用之術語"圖案化設備"同義。

本文所使用之術語"圖案化設備"應被廣泛地解釋為指代可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板W之目標部分C中形成圖案的任何設備。應注意，例如，若被賦予至輻射光束B之圖案包括相移特徵或所謂的輔助特徵，則該圖案可能不會精確地對應於基板W之目標部分C中的所要圖案。通常，被賦予至輻射光束B之圖案將對應於目標部分C中所形成之設備(諸如，積體電路)中 的特定功能層

圖案化設備MA可為透射或反射的。圖案化設備之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影術中為熟知的，且包括諸如二元交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中之每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束。傾斜鏡面將圖案賦予於由鏡面矩陣所反射之輻射光束中。

本文所使用之術語"投影系統"應被廣泛地解釋為涵蓋任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁性、電磁及靜電光學系統或其任何組合，其適合於所使用之曝光輻射，或適合於諸如浸沒液體之使用或真空之使用的其他因素。可認為本文對術語"投影透鏡"之任何使用均與更通用之術語"投影系統"同義。

如此處所描繪，該裝置為透射類型(例如，使用透射光罩)。或者，該裝置可為反射類型(例如，使用如以上所提及之類型的可程式化鏡面陣列，或使用反射光罩)。

微影裝置可為具有兩個(雙平台)或兩個以上基板台或"基板支撐件"(及/或兩個或兩個以上光罩台或"光罩支撐件")的類型。在該等"多平台"機器中，可並行地使用額外台或支撐件，或可在一或多個台或支撐件上執行預備步驟，同時將一或多個其他台或支撐件用於曝光。

微影裝置亦可為如下類型：其中基板W之至少一部分可 由具有相對較高折射率之液體(例如，水)覆蓋，以便填充投影系統PS與基板W之間的空間。亦可將浸沒液體施加至微影裝置中之其他空間，例如，光罩MA與投影系統PS之間。浸沒技術可用以增加投影系統PS之數值孔徑。如本文所使用之術語"浸沒"不意謂諸如基板W之結構必須浸漬於液體中，而是僅意謂液體在曝光期間位於投影系統PS與基板W之間。

參看圖1，照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。舉例而言，當輻射源SO為準分子雷射器時，輻射源SO與微影裝置可為單獨實體。在該等狀況下，不認為輻射源SO形成微影裝置之一部分，且輻射光束B借助於包括(例如)適當引導鏡面及/或光束放大器之光束傳送系統BD而自輻射源SO傳遞至照明器IL。在其他狀況下，例如，當輻射源SO為汞燈時，輻射源SO可為微影裝置之整體部分。輻射源SO及照明器IL連同光束傳送系統BD(在需要時)可被稱作輻射系統。

照明器IL可包括經組態以調整輻射光束B之角強度分布的調整器AD。通常，可調整照明器IL之瞳孔平面中之強度分布的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。此外，照明器IL可包括各種其他組件，諸如，積光器IN及聚光器CO。照明器IL可用以調節輻射光束B，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分布。

輻射光束B入射於被固持於光罩支撐結構(例如，光罩台 MT)上之圖案化設備(例如，光罩MA)上，且由圖案化設備MA圖案化。在橫穿光罩MA後，輻射光束B穿過投影系統PS，投影系統PS將光束B聚焦至基板W之目標部分C上。借助於第二定位設備PW及位置感測器IF(例如，干涉量測設備、線性編碼器，或電容性感測器)，基板台WT可精確地移動，例如，以便在輻射光束B之路徑中定位不同目標部分C。類似地，第一定位設備PM及另一位置感測器(其未在圖1中被明確地描繪)可用以(例如)在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於輻射光束B之路徑來精確地定位光罩MA。一般而言，可借助於形成第一定位設備PM之一部分的長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現光罩台MT之移動。類似地，可使用形成第二***PW之一部分的長衝程模組及短衝程模組來實現基板台WT或"基板支撐件"之移動。在步進器(與掃描器相對)之狀況下，光罩台MT可僅連接至短衝程致動器，或可為固定的。可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準光罩MA及基板W。儘管如所說明之基板對準標記P1、P2佔用專用目標部分，但其可位於目標部分之間的空間中(此等被稱為切割道對準標記)。類似地，在一個以上晶粒提供於光罩MA上之情形中，光罩對準標記可位於該等晶粒之間。

所描繪裝置可用於以下模式中之至少一者中：1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束B之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使光罩台MT或"光罩支撐 件"及基板台WT或"基板支撐件"保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT或"基板支撐件"在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。在步進模式中，曝光場之最大尺寸限制單次靜態曝光中所成像之目標部分C的尺寸。

2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束B之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描光罩台MT或"光罩支撐件"及基板台WT或"基板支撐件"(亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT或"基板支撐件"相對於光罩台MT或"光罩支撐件"之速度及方向。在掃描模式中，曝光場之最大尺寸限制單次動態曝光中之目標部分的寬度(在非掃描方向上)，而掃描運動之長度判定目標部分之高度(在掃描方向上)。

3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，使光罩台MT或"光罩支撐件"保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化設備，且移動或掃描基板台WT或"基板支撐件"。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT或"基板支撐件"之每一移動之後或在掃描期間的順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化設備。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化設備(諸如，如以上所提及之類型的可程式化鏡面陣列)之無光罩微影術。

亦可使用對以上所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同的使用模式。

圖2高度示意性地描繪本文中亦被指示為基板平台之晶圓平台WT。基板平台WT固持待經由投影系統PS所照射之基板W。為了量測基板平台WT之位置，提供：編碼器，其包含格柵GT，格柵GT包含一維或二維圖案；及編碼器感測器ES，其可包含用以產生被引導至格柵GT之光束之光源與用以偵測返回於編碼器感測器ES處之光束之感測器的組合。基板平台WT之移位將導致編碼器感測器ES相對於格柵GT之移位，其歸因於格柵上之一維或二維圖案而將提供由編碼器感測器ES所提供之信號的對應改變，因為返回至感測器ES之光學能量將歸因於格柵GT之元素(諸如，線、條紋、點，等等)的通路而更改。在此實施例中，格柵GT連接至度量衡框架MF，其可提供微影裝置之參考結構。投影系統PS亦可以剛性方式或藉由主動或被動之剛性或彈性座架(未圖示)而由度量衡框架MF固持。

問題為度量衡框架MF可能經受振動、干擾或其他效應，其可能導致格柵GT相對於參考(在此實例中為投影系統PS，或更精確地為投影系統PS之光軸AX)而移動。格柵GT之該等移動可能導致由編碼器(格柵GT為其一部分)所進行之量測的不精確性。格柵GT之移位的其他原因可能存在且可能(例如)在熱膨脹等等中被發現。

為了能夠在一定程度上補償該等效應，可提供輔助感測器系統ASS，其量測格柵GT相對於參考(在此實例中為投影系統PS，更精確地為投影系統PS之光軸AX)之位置。輔助感測器系統ASS又可包含量測輔助系統部分ASP1相對於 輔助系統部分ASP2之位置的編碼器。輔助系統部分ASP2可(例如)連接至投影系統PS之下游投影透鏡的透鏡座架。對輔助感測器系統ASS之解析度的需求可能較高，且可相當於或低於基板平台WT之定位精確性需求，因為輔助感測器系統ASS之任何量測誤差將導致基板平台WT相對於投影系統PS或其光軸AX之量測誤差。因此，輔助感測器系統ASS之週期性校準可為需要或所需的。輔助感測器系統ASS可(例如)包含增量編碼器(諸如，光學增量編碼器)，但亦可使用其他類型之感測器，諸如，電容性感測器、電感性感測器(例如，渦電流、LVDT(線性可變差動變壓器))、干涉計。在增量編碼器之狀況下，各種效應可能導致其不精確性，例如，光強度及反射變化、一信號週期內之非線性，等等。為了能夠考慮到該等效應，可能需要週期性校準。

本發明可用以處理與將輔助感測器系統ASS校準至高達所需要之精確性位準相關聯的挑戰。輔助感測器系統ASS之移除及微影裝置外之校準可能不為可行選擇，因為移除及替換自身可能產生誤差，其可能不被校準考慮在內。實情為，根據本發明之一態樣，可藉由激勵格柵以在輔助感測器系統ASS之至少一量測方向(在此實例中為圖2中由MD示意性地所指示之量測方向)上進行移動、在移動期間自輔助感測器系統ASS獲得輔助感測器系統輸出信號及基於因此所獲得之輸出信號來調整輔助感測器系統ASS之參數而執行校準。為了執行校準，可調整輔助感測器系統ASS 之各種參數，例如，雷射功率、雷射波長、增益及/或其偏移。又，可校準輔助感測器系統ASS之非線性，因為輔助感測器系統輸出信號之圖案可與移動比較，以導出輔助感測器系統ASS與其所要回應相比之任何回應偏差。

歸因於格柵GT至度量衡框架MF之安裝的高硬度，及將因此為格柵GT之該移動所需要的較高力，可與格柵之共振頻率同步地提供激勵，以藉此以相對較低力來提供格柵移動之相對較大振幅。其實例提供於圖3A中，其中與格柵之共振同步地提供脈衝式激勵力EF，格柵藉此提供如圖3A所描繪之移位D。

或者，可藉由階梯函數(如圖3B所描繪)或脈衝函數(如圖3C所描繪)來提供激勵以產生格柵之共振。

本發明之本文所揭示態樣亦可應用於所謂的雙平台微影裝置之量測平台中。又，在量測循環期間，量測基板W之表面上及/或基板台WT上的對準標記。輔助感測器系統ASS可能(但未必)需要提供在一或多個水平方向上之量測。

圖4示意性地展示格柵GT及投影系統PS之俯視圖。在此實例中，提供兩個輔助感測器系統ASS，亦即，輔助感測器系統ASS1及輔助感測器系統ASS2，然而，在其他實施例中，可提供更多輔助感測器。輔助感測器系統ASS1量測在量測方向MD1上格柵GT相對於投影系統PS之位置，而輔助感測器系統ASS2量測在第二量測方向MD2上格柵GT相對於投影系統PS之位置。在此實例中，第一量測方 向MD1及第二量測方向MD2彼此垂直，兩個量測方向沿格柵GT之表面且在晶圓平台WT之移動方向上。

圖4進一步展示藉由激勵力EF來提供格柵GT之激勵的激勵設備ED，力之方向使得格柵歸因於激勵力之移動相對於第一量測方向MD1及第二量測方向MD2而在大體上45度之角度下。藉此，格柵GT之單一移動可足以提供格柵GT在約第一量測方向MD1及第二量測方向MD2上之移動，且允許自相同移動校準第一輔助感測器系統ASS1及第二輔助感測器系統ASS2。

可應用各種致動器，例如，氣動致動器、液壓致動器、氣體流動致動器(提供(例如)脈衝式氣體流動)、抽吸氣動致動器、壓電致動器、平移動力(traverse power)激勵串致動器(其中在格柵上拉動之串具備平移力，以根據需要而藉由串來增加牽引)、電磁致動器、聲學致動器，等等。

在以上實例中，已假定致動器作用於格柵GT。然而，可提供許多其他可能性：例如，致動器有可能存在於微影裝置之透鏡座架處。在一些微影裝置設計中，投影系統PS之透鏡中的一或多者可具備包含致動器之主動透鏡座架以定位所論述之透鏡。藉由致動該等致動器以(例如)提供對應於格柵之共振頻率的頻率，振動圖案可產生於投影系統PS中，且因此產生於度量衡框架及/或格柵中，其可能因此導致格柵共振。作為另一實例，致動器(換言之，激勵設備)可作用於度量衡框架且藉此導致(例如)度量衡框架在與格柵GT之共振模式極大地一致(其可導致格柵共振)的 (非共振或共振)頻率下振動。

儘管在上文中已關於基板平台WT及基板平台定位而描述根據本發明之原理，但此處所描述之主要內容可相等地良好應用於亦被稱作支撐件之光罩平台MT的定位。

另外，在上文中，已參考格柵GT之共振。該共振可包含任何共振模式，其中提供格柵GT在各別量測方向MD、MD1、MD2上之移動。移動方向可包含大體上垂直於投影系統PS之光軸AX的方向。

上文可能不僅應用於微影裝置，在任何情況下，校準方法均可應用於量測格柵位置之任何輔助感測器系統，格柵形成編碼器量測系統之一部分。

儘管在此本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如，製造積體光學系統、用於磁域記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭，等等。熟習此項技術者應瞭解，在該等替代應用之情境中，可認為本文對術語"晶圓"或"晶粒"之任何使用分別與更通用之術語"基板"或"目標部分"同義。可在曝光之前或之後在(例如)軌道(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文所提及之基板。適用時，可將本文之揭示應用於該等及其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，(例如)以便形成多層IC，使得本文所使用之術語基板亦可指代已經含有多個經處理層之基板。

儘管以上可特定地參考在光學微影術之情境中對本發明之實施例的使用，但應瞭解，本發明可用於其他應用(例如，壓印微影術)中，且在情境允許時不限於光學微影術。在壓印微影術中，圖案化設備中之構形界定形成於基板上之圖案。可將圖案化設備之構形壓入被供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化設備移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。

本文所使用之術語"輻射"及"光束"涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外線(UV)輻射(例如，具有為或約365 nm、248 nm、193 nm、157 nm或126 nm之波長)及遠紫外線(EUV)輻射(例如，具有在5 nm至20 nm之範圍內的波長)；以及粒子束(諸如，離子束或電子束)。

術語"透鏡"在情境允許時可指代各種類型之光學組件中之任一者或組合，包括折射、反射、磁性、電磁及靜電光學組件。

儘管以上已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。舉例而言，本發明可採取如下形式：電腦程式，其含有描述如以上所揭示之方法之機器可讀指令的一或多個序列；或資料儲存媒體(例如，半導體記憶體、磁碟或光碟)，其具有儲存於其中之該電腦程式。

以上描述意欲為說明性而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者而言將顯而易見的是，可在不脫離以下所闡明 之申請專利範圍之範疇的情況下對如所描述之本發明進行修改。

AD‧‧‧調整器

ASP1‧‧‧輔助系統部分

ASP2‧‧‧輔助系統部分

ASS‧‧‧輔助感測器系統

ASS1‧‧‧輔助感測器系統

ASS2‧‧‧輔助感測器系統

AX‧‧‧光軸

B‧‧‧輻射光束

BD‧‧‧光束傳送系統

C‧‧‧目標部分

CO‧‧‧聚光器

D‧‧‧移位

ED‧‧‧激勵設備

EF‧‧‧脈衝式激勵力

ES‧‧‧編碼器感測器

GT‧‧‧格柵

IF‧‧‧位置感測器

IL‧‧‧照明系統

IN‧‧‧積光器

M1‧‧‧光罩對準標記

M2‧‧‧光罩對準標記

MA‧‧‧圖案化設備

MD‧‧‧量測方向

MD1‧‧‧第一量測方向

MD2‧‧‧第二量測方向

MF‧‧‧度量衡框架

MT‧‧‧光罩平台

P1‧‧‧基板對準標記

P2‧‧‧基板對準標記

PM‧‧‧第一定位設備

PS‧‧‧投影系統

PW‧‧‧第二定位設備

SO‧‧‧輻射源

W‧‧‧基板

WT‧‧‧基板台

X‧‧‧方向

Y‧‧‧方向

圖1描繪根據本發明之一實施例的微影裝置；圖2描繪根據本發明之一實施例之微影裝置之一部分的示意圖；圖3A至圖3C描繪格柵及其激勵圖案之移動的時序圖；圖4描繪根據本發明之一實施例之輔助量測系統及激勵設備的示意性俯視圖。

ASP1‧‧‧輔助系統部分

ASP2‧‧‧輔助系統部分

ASS‧‧‧輔助感測器系統

AX‧‧‧光軸

ES‧‧‧編碼器感測器

GT‧‧‧格柵

MD‧‧‧量測方向

MF‧‧‧度量衡框架

PS‧‧‧投影系統

W‧‧‧基板

WT‧‧‧基板台

Claims (26)

1. 一種用於校準一輔助感測器系統之方法，該輔助感測器系統經調適以量測一格柵相對於一參考之一位置，該格柵形成一用以量測一微影裝置之一基板台之一位置之編碼器量測系統的一部分，該編碼器量測系統進一步包含一安裝至該基板台之感測器，該方法包含：激勵該格柵以在該輔助感測器系統之至少一量測方向上進行一移動；在該移動期間自該輔助感測器系統獲得一輔助感測器系統輸出信號；及基於該移動期間所獲得之該輸出信號來調整該輔助感測器系統之一參數，以藉此校準該輔助感測器系統。
2. 如請求項1之方法，其中該激勵包含藉由一階梯函數或一脈衝函數來激勵該格柵。
3. 如請求項1之方法，其中該移動在一大體上沿該微影裝置之該基板台之一移動平面的方向上。
4. 如請求項1之方法，其中該參考為一微影裝置投影透鏡及一微影裝置對準量測設備中之一者。
5. 如請求項1之方法，其中該輔助感測器系統之一參數的該調整包含調整該輔助感測器系統之一雷射功率、一雷射波長、一增益及一偏移中的至少一者。
6. 如請求項1之方法，其中該量測方向包含彼此大體上垂直之第一量測方向及第二量測方向，且其中該移動相對於該第一量測方向及該第二量測方向而在大體上45度之 一角度下。
7. 如請求項1之方法，其中藉由一氣動致動器、一液壓致動器、一氣體流動致動器、一抽吸氣動致動器、一壓電致動器、一平移動力激勵串致動器、一電磁致動器及一聲學致動器中之至少一者來激勵該格柵。
8. 如請求項1之方法，其中該格柵之該激勵包含激勵該微影裝置之一透鏡座架致動器。
9. 如請求項1之方法，其中該格柵之該激勵包含在該投影透鏡或該格柵之一共振頻率下致動一度量衡框架。
10. 如請求項1之方法，其中該輔助感測器系統包含一配置在該格柵上之第一輔助感測器系統部分，且其中該激勵包含激勵該格柵以使該第一輔助感測器系統部分在該輔助感測器系統之至少一量測方向上進行一移動。
11. 如請求項10之方法，其中該獲得包含量測該第一輔助感測器系統部分之一位置。
12. 如請求項1之方法，其中該格柵係靜止的。
13. 一種用於校準一輔助感測器系統之方法，該輔助感測器系統經調適以量測一格柵相對於一參考之一位置，該格柵形成一用以量測一微影裝置之一基板台之一位置之編碼器量測系統的一部分，該編碼器量測系統進一步包含一安裝至該基板台之感測器，該方法包含：激勵該格柵以在該輔助感測器系統之至少一量測方向上進行一移動；在該移動期間自該輔助感測器系統獲得一輔助感測器 系統輸出信號；及基於該移動期間所獲得之該輸出信號來調整該輔助感測器系統之一參數，以藉此校準該輔助感測器系統；其中該格柵之該激勵係與該格柵之一諧振頻率同步地執行。
14. 一種微影裝置，其包含：一照明系統，該照明系統經組態以調節一輻射光束；一支撐件，該支撐件經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，該基板台經建構以固持一基板；一投影系統，該投影系統經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一編碼器量測系統，該編碼器量測系統經調適以量測一基板台位置，該編碼器量測系統包含一安裝至該基板台之感測器及一包含一格柵之感測器目標；一輔助感測器系統，該輔助感測器系統經調適以量測該格柵相對於一參考之一位置；及一激勵設備，該激勵設備經調適以激勵該格柵，其中該微影裝置經配置以：藉由該激勵設備來激勵該格柵，以藉此在該輔助感測器系統之至少一量測方向上移動該格柵；在該移動期間自該輔助感測器系統獲得一輔助感測器系統輸出信號；及 自該所獲得輸出信號調整該輔助感測器系統之一參數，以藉此校準該輔助感測器系統。
15. 如請求項14之微影裝置，其中該激勵設備經調適以與該格柵之一共振頻率同步地執行該激勵。
16. 如請求項14之微影裝置，其中該激勵設備經調適以根據一階梯函數或一脈衝函數來執行該格柵之該激勵。
17. 如請求項14之微影裝置，其中該移動在一大體上沿該微影裝置之該基板台之一移動平面的方向上。
18. 如請求項14之微影裝置，其中該參考為一微影裝置投影透鏡或一微影裝置對準量測設備。
19. 如請求項14之微影裝置，其中該微影裝置經調適以藉由校準該感測器系統之一雷射功率、一雷射波長、一增益及一偏移中之至少一者來執行該輔助感測器系統之校準。
20. 如請求項14之微影裝置，其中該量測方向包含彼此大體上垂直之第一量測方向及第二量測方向，且其中該激勵設備經調適以相對於該第一量測方向及該第二量測方向而在大體上45度之一角度下移動該格柵。
21. 如請求項14之微影裝置，其中該激勵設備包含一氣動致動器、一液壓致動器、一氣體流動致動器、一抽吸氣動致動器、一壓電致動器、一平移動力激勵串致動器、一電磁致動器及一聲學致動器中之至少一者。
22. 如請求項14之微影裝置，其中該激勵設備經調適以藉由激勵該微影裝置之一透鏡座架致動器來激勵該格柵。
23. 如請求項14之微影裝置，其中該激勵設備經調適以藉由在該投影透鏡或該格柵之一共振頻率下致動一度量衡框架來激勵該格柵。
24. 一種微影裝置，其包含：一照明系統，該照明系統經組態以調節一輻射光束；一支撐件，該支撐件經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，該基板台經建構以固持一基板；一投影系統，該投影系統經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一編碼器量測系統，該編碼器量測系統用以量測該基板台及該支撐件中之一者的一位置，該編碼器量測系統包含一安裝至該基板台及該支撐件中之該一者的感測器，及一包含一格柵的感測器目標；一輔助感測器系統，該輔助感測器系統用以量測該格柵相對於一參考之一位置；及一激勵設備，該激勵設備經調適以激勵該格柵，其中該微影裝置經配置以：藉由該激勵設備來激勵該格柵，以藉此在該輔助感測器系統之至少一量測方向上移動該格柵；在該移動期間自該輔助感測器系統獲得一輔助感測器系統輸出信號；及自該所獲得輸出信號調整該輔助感測器系統之一參 數，以藉此校準該輔助感測器系統。
25. 一種用以量測一物件之一位置的位置量測系統，該位置量測系統包含：一感測器，該感測器安裝至該物件；一感測器目標，該感測器目標包含一格柵；一輔助感測器系統，該輔助感測器系統經調適以量測該格柵相對於一參考之一位置；及一激勵設備，該激勵設備經調適以激勵該格柵，該位置量測系統經配置以：藉由該激勵設備來激勵該格柵，以藉此在該輔助感測器系統之至少一量測方向上移動該格柵；在該移動期間自該輔助感測器系統獲得一輔助感測器系統輸出信號；及自該所獲得輸出信號調整該輔助感測器系統之一參數，以藉此校準該輔助感測器系統。
26. 一種用於校準一增量感測器系統之方法，其中該增量感測器系統經調適以量測一格柵相對於一參考之一位置，該格柵形成一用以量測一物件之一位置之編碼器量測系統的一部分，該編碼器量測系統進一步包含一安裝至該物件之感測器，該方法包含：激勵該格柵以在該感測器系統之至少一量測方向上進行一移動；在該移動期間自該感測器系統獲得一感測器系統輸出信號；及 基於該移動期間所獲得之該輸出信號來調整該感測器系統之一參數，以藉此校準該感測器系統。