JP4902685B2 - ステージシステム、当該ステージシステムを含むリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (18)
- 可動ステージと、
エンコーダターゲット構造に対する前記可動ステージの位置を表すエンコーダ信号を供給するようにそれぞれが構成された、少なくとも2つのエンコーダヘッドと、
前記ステージの位置を制御するように構成され、前記エンコーダヘッドのそれぞれの前記エンコーダ信号が供給される、コントローラと
を備え、
前記コントローラが、重み関数を前記エンコーダ信号に適用するように構成され、かつ前記加重されたエンコーダ信号から前記ステージの位置を導出するように構成され、
前記コントローラがフィードフォワード経路を備え、
前記フィードフォワード経路が、前記ステージの加重された伝達関数の逆数を近似する伝達関数を有し、
前記伝達関数が、前記ステージの伝達関数と前記重み関数とを含む、
ステージシステム。 - 前記重み関数が、前記ステージの位置信号に依存する、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記位置信号が位置設定点信号を含む、請求項2に記載のステージシステム。
- 前記エンコーダターゲット構造が、少なくとも2つの隣接するグリッドプレートを備え、
前記重み関数が、前記グリッドプレートに沿って前記ステージの前記位置に依存し、かつ、前記グリッドプレート間の境界に対して実質的に対称である、請求項1に記載のステージシステム。 - 前記フィードフォワード経路の前記伝達関数が、加重された逆有限インパルス応答モデルの逆数を備える、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記フィードフォワード経路の前記伝達関数が、加重された有限インパルス応答モデルを備える、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記フィードフォワード経路の前記伝達関数が、加重された逆自己回帰モデルの逆数を備える、請求項1に記載のステージシステム。
- 前記フィードフォワード経路の前記伝達関数が、加重された自己回帰モデルを備える、請求項1に記載のステージシステム。
- 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングされた放射ビームを形成するように、前記放射ビームにその断面でパターンを与えるように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイスサポートと、
基板を保持するように構成された基板サポートと、
前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、
前記サポートのうちの一方を移動するように構成されたステージシステムと
を備え、前記ステージシステムが、
可動ステージと、
エンコーダターゲット構造に対する前記可動ステージの位置を表すエンコーダ信号を供給するようにそれぞれが構築された、少なくとも2つのエンコーダヘッドと、
前記ステージの位置を制御するコントローラであって、前記エンコーダヘッドのそれぞれの前記エンコーダ信号が供給される、コントローラと
を含み、
前記コントローラが、重み関数を前記エンコーダ信号に適用するように構成され、かつ前記加重されたエンコーダ信号から前記ステージの位置を導出するように構成され、
前記コントローラがフィードフォワード経路を備え、
前記フィードフォワード経路が、前記ステージの加重された伝達関数の逆数を近似する伝達関数を有し、
前記伝達関数が、前記ステージの伝達関数と前記重み関数とを含む、
リソグラフィ装置。 - 前記重み関数が、前記ステージの位置信号に依存する、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置信号が位置設定点信号を含む、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記エンコーダターゲット構造が、少なくとも2つの隣接するグリッドプレートを備え、前記重み関数が、前記グリッドプレートに沿って前記ステージの前記位置に依存し、かつ前記グリッドプレート間の境界に対して実質的に対称である、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィードフォワード経路の前記伝達関数が、加重された逆有限インパルス応答モデルの逆数を備える、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィードフォワード経路の前記伝達関数が、加重された有限インパルス応答モデルを備える、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィードフォワード経路の前記伝達関数が、加重された逆自己回帰モデルの逆数を備える、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィードフォワード経路の前記伝達関数が、加重された自己回帰モデルを備える、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスサポートによって支持されたパターニングデバイスを用いて、パターニングされた放射ビームを形成するように放射ビームをパターニングするステップと、
基板サポートによって支持された基板上に、前記パターニングされた放射ビームを投影するステップと、
前記サポートのうちの一方の位置を制御するステップと
を含み、
前記制御するステップが、
エンコーダターゲット構造に対する前記サポートの位置をそれぞれが表す少なくとも2つのエンコーダ信号を供給するステップと、
重み関数を前記エンコーダ信号に適用するステップと、
前記加重されたエンコーダ信号から前記サポートの位置を導出するステップと
を含み、
前記制御するステップは、フィードフォワード経路により実装され、
前記フィードフォワード経路が、ステージの加重された伝達関数の逆数を近似する伝達関数を有し、
前記伝達関数が、ステージの伝達関数と前記重み関数とを含む、
デバイス製造方法。 - 前記重み関数が、前記ステージの位置信号に依存する、請求項17に記載の方法。
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