JP5275210B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Claims (15)
- パターニングデバイスを支持するパターニングデバイス支持体であって、前記パターニングデバイスが、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイス支持体と、
基板を支持する基板支持体と、
前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
前記パターニングデバイス上に提供された格子を用いて前記パターニングデバイス支持体上に支持された前記パターニングデバイスの位置量を決定する測定システムであって、少なくとも前記基板の前記ターゲット部分への前記パターン付放射ビームの投影の間、連続して前記パターニングデバイスの前記位置量を決定する測定システムと、
を備え、
前記測定システムが、前記パターニングデバイス支持体上に装着されたエンコーダヘッドと、前記投影システム又は前記投影システムを支持するフレーム上に提供された第2の格子とを備え、前記エンコーダヘッドが、前記パターニングデバイスの格子に対する前記第2の格子の位置量を決定する、リソグラフィ装置。 - 前記測定システムが、基準グリッドと、測定グリッドとを備え、前記基準グリッドが、前記パターニングデバイス上の前記格子によって形成され、前記測定グリッドが、前記第2の格子によって形成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングデバイス支持体が、ロングストローク部と、ショートストローク部とを備え、前記エンコーダヘッドが、前記支持体の前記ロングストローク部上に装着される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記エンコーダヘッドが、前記パターニングデバイス上の前記格子に対する位置量を決定する第1の測定ビームと、前記第2の格子に対する位置量を決定する第2の測定ビームとを送信し、これらの位置量の組合せが、それぞれ前記投影システム又は前記フレームに対する前記パターニングデバイスの位置量を提供する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定システムが、前記パターニング支持体上に装着された3つ以上のエンコーダヘッドと、第1の方向の位置量を測定する2つのエンコーダヘッドと、前記第1の方向に実質的に垂直の第2の方向の位置量を測定する別のエンコーダヘッドとを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の方向が、スキャン方向であり、前記第2の方向が、前記パターニングデバイスの主平面に実質的に平行である、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定システムが、前記支持体上に装着された第4のエンコーダヘッドを備え、前記第4のエンコーダヘッドが、前記第2の方向の位置量を測定する、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定システムが、前記投影システム又は前記投影システムを支持するフレーム上に装着されたエンコーダヘッドを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記エンコーダヘッドが、前記パターン付放射ビームが投影される領域に近接して装着される、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定システムが、前記投影システム又は前記投影システムを支持するフレーム上に装着された2つ以上のエンコーダヘッドを備え、前記エンコーダヘッドが、前記パターン付放射ビームが投影される領域の向かい合う両側に配置される、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定システムが、前記投影システム又は前記投影システムを支持するフレーム上に装着された3つ以上のエンコーダヘッドを備え、2つのエンコーダヘッドが、第1の方向の位置量を測定し、別のエンコーダヘッドが、前記第1の方向に実質的に垂直な第2の方向の位置量を測定する、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の方向が、前記スキャン方向であり、前記第2の方向が、前記パターニングデバイスの主平面に実質的に平行である、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定システムが、前記支持体上に装着された第4のエンコーダヘッドを備え、前記第4のエンコーダヘッドが、前記第2の方向の位置量を測定する、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングデバイス支持体上に支持された前記パターニングデバイスの位置を前記測定システムによって決定された前記位置に基づいて制御するコントローラを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するパターニングデバイス支持体と、
基板を支持する基板支持体と、
前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
前記基板上に提供された格子を用いて前記基板支持体上に支持された前記基板の位置量を決定する測定システムであって、少なくとも前記基板のターゲット部分への前記パターン付放射ビームの投影の間、連続して前記基板の位置量を決定する測定システムと、
を備え、
前記測定システムが、前記パターニングデバイス支持体上に装着されたエンコーダヘッドと、前記投影システム又は前記投影システムを支持するフレーム上に提供された第2の格子とを備え、前記エンコーダヘッドが、前記パターニングデバイスの格子に対する前記第2の格子の位置量を決定する、リソグラフィ装置。
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