JP4810496B2 - パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート - Google Patents
パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート Download PDFInfo
- Publication number
- JP4810496B2 JP4810496B2 JP2007115278A JP2007115278A JP4810496B2 JP 4810496 B2 JP4810496 B2 JP 4810496B2 JP 2007115278 A JP2007115278 A JP 2007115278A JP 2007115278 A JP2007115278 A JP 2007115278A JP 4810496 B2 JP4810496 B2 JP 4810496B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- template
- light
- organic material
- pattern
- wafer substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
2 バーコードセンサ
3 ウェーハ基板支持体
4 テンプレート搬送部
5 制御部
6 テンプレート
7 ウェーハ基板
Claims (5)
- 表面に有機材料が塗布されたウェーハ基板を保持するウェーハ基板支持体と、
一方の面に所定の凹凸パターンが形成され、この凹凸パターンの情報が記述された光透過性のテンプレートを保持するテンプレート保持部と、
前記凹凸パターンの情報を読み取って出力するセンサと、
駆動制御信号に基づき前記テンプレート保持部の駆動を行い、前記テンプレート保持部に保持された前記テンプレートを前記ウェーハ基板表面に塗布された前記有機材料に接触させる駆動部と、
光照射制御信号に基づき、前記テンプレート保持部に保持された前記テンプレートに、前記テンプレートの他方の面側から光を照射する光源と、
前記駆動制御信号を出力し、前記センサから出力される前記凹凸パターンの情報に基づき、前記テンプレートが前記有機材料に接触してから所定の時間経過後に前記光源が光を照射するように前記光照射制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。 - 表面に有機材料が塗布されたウェーハ基板を保持するウェーハ基板支持体と、
一方の面に所定の凹凸パターンが形成され光透過性を有するテンプレートを保持するテンプレート保持部と、
駆動制御信号に基づき前記テンプレート保持部の駆動を行い、前記テンプレート保持部に保持された前記テンプレートを前記ウェーハ基板表面に塗布された前記有機材料に接触させる駆動部と、
前記テンプレートに前記有機材料が硬化しない光を照射し、反射光を受光し、受光強度を出力する充填検出器と、
光照射制御信号に基づき、前記テンプレート保持部に保持された前記テンプレートに、前記テンプレートの他方の面側から前記有機材料が硬化する光を照射する光源と、
前記駆動制御信号を出力し、前記充填検出器から出力される前記受光強度が所定レベル以上であるか否かを判定し、所定レベル以上と判定した場合は前記光源が光を照射するように前記光照射制御信号を出力する制御部と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。 - ウェーハ基板支持体、テンプレート保持部、センサ、駆動部、光源、及び制御部を有するパターン形成装置を用いたパターン形成方法であって、
前記ウェーハ基板支持体によりウェーハ基板を保持する工程と、
前記センサにより一方の面に所定の凹凸パターンが形成され光透過性を有し前記凹凸パターンの情報が記述されたテンプレートの前記凹凸パターンの情報を読み取る工程と、
前記テンプレート保持部により前記テンプレートを保持する工程と、
前記ウェーハ基板の表面に有機材料を塗布する工程と、
前記駆動部により前記テンプレート保持部を駆動し、前記テンプレートを前記有機材料に接触させる工程と、
前記制御部により前記センサが読み取った前記凹凸パターンの情報に基づく保持時間を算出し、前記テンプレートが前記有機材料に接触してから前記算出された保持時間経過後に光制御信号を出力する工程と、
前記光源により前記光制御信号に基づき前記テンプレートを介して前記有機材料に光を照射する工程と、
を備えることを特徴とするパターン形成方法。 - ウェーハ基板支持体、テンプレート保持部、駆動部、充填検出器、光源、及び制御部を有するパターン形成装置を用いたパターン形成方法であって、
前記ウェーハ基板支持体によりウェーハ基板を保持する工程と、
前記テンプレート保持部により一方の面に所定の凹凸パターンが形成され光透過性を有するテンプレートを保持する工程と、
前記ウェーハ基板の表面に有機材料を塗布する工程と、
前記駆動部により前記テンプレート保持部を駆動し、前記テンプレートを前記有機材料に接触させる工程と、
前記充填検出器から前記テンプレートに前記有機材料が硬化しない光を照射し、反射光を受光し、受光強度を出力する工程と、
前記制御部により前記受光強度が所定値以上であるか否かを判定し、所定値以上と判定した場合は光制御信号を出力する工程と、
前記光源により前記光制御信号に基づき前記有機材料が硬化する光を前記テンプレートを介して前記有機材料に照射する工程と、
を備えることを特徴とするパターン形成方法。 - 一方の面の中央部に第1の凹凸パターンが形成され、光透過性を有するテンプレートであって、
前記一方の面の周辺部に、前記第1の凹凸パターンに含まれる最小パターン幅及び最大パターン幅と同じパターン幅の第2の凹凸パターンを備えることを特徴とするテンプレート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007115278A JP4810496B2 (ja) | 2007-04-25 | 2007-04-25 | パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007115278A JP4810496B2 (ja) | 2007-04-25 | 2007-04-25 | パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008270686A JP2008270686A (ja) | 2008-11-06 |
JP4810496B2 true JP4810496B2 (ja) | 2011-11-09 |
Family
ID=40049765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007115278A Expired - Fee Related JP4810496B2 (ja) | 2007-04-25 | 2007-04-25 | パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4810496B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8237133B2 (en) * | 2008-10-10 | 2012-08-07 | Molecular Imprints, Inc. | Energy sources for curing in an imprint lithography system |
JP5289006B2 (ja) * | 2008-11-19 | 2013-09-11 | 株式会社東芝 | パターン形成方法およびプログラム |
JP5244566B2 (ja) | 2008-12-02 | 2013-07-24 | 株式会社東芝 | テンプレート洗浄方法、洗浄システム、及び洗浄装置 |
JP2010171338A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-08-05 | Toshiba Corp | パターン生成方法及びパターン形成方法 |
NL2004945A (en) * | 2009-08-14 | 2011-02-15 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography apparatus and method. |
JP2011066180A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Toshiba Corp | テンプレート作成管理方法、テンプレート及びテンプレート作成管理装置 |
JP4922376B2 (ja) | 2009-09-18 | 2012-04-25 | 株式会社東芝 | テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
NL2005265A (en) | 2009-10-07 | 2011-04-11 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography apparatus and method. |
JP5404570B2 (ja) * | 2010-09-24 | 2014-02-05 | 株式会社東芝 | 滴下制御方法および滴下制御装置 |
JP5595949B2 (ja) | 2011-02-15 | 2014-09-24 | 株式会社東芝 | インプリント装置、インプリント方法および凹凸板の製造方法 |
JP5697571B2 (ja) | 2011-10-06 | 2015-04-08 | 株式会社東芝 | テンプレートの製造装置及びテンプレートの製造方法 |
JP6779748B2 (ja) * | 2016-10-31 | 2020-11-04 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP6716484B2 (ja) * | 2017-03-14 | 2020-07-01 | キオクシア株式会社 | インプリント方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3269308B2 (ja) * | 1995-01-18 | 2002-03-25 | 三菱化学株式会社 | 光学的情報記録媒体用樹脂基板の製造方法 |
JP2001277200A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-09 | Toshiba Corp | 微細加工装置 |
US6871558B2 (en) * | 2002-12-12 | 2005-03-29 | Molecular Imprints, Inc. | Method for determining characteristics of substrate employing fluid geometries |
JP2006165371A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Canon Inc | 転写装置およびデバイス製造方法 |
JP4533358B2 (ja) * | 2005-10-18 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置およびチップの製造方法 |
CN101600993B (zh) * | 2007-02-06 | 2013-01-16 | 佳能株式会社 | 刻印方法和刻印装置 |
-
2007
- 2007-04-25 JP JP2007115278A patent/JP4810496B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008270686A (ja) | 2008-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4810496B2 (ja) | パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート | |
JP4827513B2 (ja) | 加工方法 | |
KR101538203B1 (ko) | 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 | |
KR101933341B1 (ko) | 임프린트 장치, 얼라인먼트 방법 및 물품의 제조 방법 | |
US7635260B2 (en) | Processing apparatus, processing method, and process for producing chip | |
JP4478424B2 (ja) | 微細加工装置およびデバイスの製造方法 | |
US20090095711A1 (en) | Microfabrication apparatus and device manufacturing method | |
JP2005353858A (ja) | 加工装置及び方法 | |
JP2010080630A (ja) | 押印装置および物品の製造方法 | |
JP6053266B2 (ja) | インプリント装置、物品の製造方法及びインプリント方法 | |
JP6300459B2 (ja) | インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法 | |
JP5932327B2 (ja) | インプリント装置、検出方法、物品の製造方法及び異物検出装置 | |
JP2005101201A (ja) | ナノインプリント装置 | |
JP6271875B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 | |
JP6606567B2 (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
JP6395352B2 (ja) | インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法 | |
JP2024078506A (ja) | インプリント装置、物品製造方法、決定方法及びプログラム | |
KR102059758B1 (ko) | 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 | |
US20100022036A1 (en) | Method for forming pattern, and template | |
JP6560736B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 | |
JP6336275B2 (ja) | インプリント装置、および物品の製造方法 | |
US8142694B2 (en) | Method for forming an imprint pattern | |
JP2007250767A (ja) | 加工装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 | |
JP5069777B2 (ja) | インプリントリソグラフィ装置 | |
JP2020107863A (ja) | 膜形成装置および物品製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090323 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110715 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110726 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110822 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4810496 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |