JP4788083B2

JP4788083B2 - 基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法。

Info

Publication number: JP4788083B2
Application number: JP2001248625A
Authority: JP
Inventors: 真治田島
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-08-20
Filing date: 2001-08-20
Publication date: 2011-10-05
Anticipated expiration: 2021-08-20
Also published as: JP2003058054A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、仮の基材シートを伴なっており、最終的には転写される転写層を被着体上に接着した後、改めて、基材シートを剥離するようにして使用される、基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
金融機関が発行する預貯金用カードや、カード会社が発行するクレジットカード等のカード類には、それらの真正性を確保する意味で、回折格子パターンやホログラム等の光回折構造が適用してあることが多い。
また、有名ブランドの腕時計等、模造品が出回りやすい商品、もしくはケースにも、光回折構造が適用してあることが多い。
【０００３】
なお、回折格子パターンおよびホログラムは、外観が似ているため、いずれもホログラム、あるいはシール機能を持つものであればホログラムシールと呼ばれていることが多いので、この明細書においても、「ホログラムと回折格子」のように併記する場合を除き、ホログラムとは、回折格子、特に回折格子パターンを含む意味で用いる。
【０００４】
ホログラム等の光回折構造が上記の例以外にも、種々の分野で使用されるのは、光回折構造が製造の困難性を有しているからとされており、また、外観的には干渉色を有していて目をひきやすいために、意匠的にも優れており、また、場合によっては、剥がそうとすると破壊するものもある等のメリットを有しているからでもある。
【０００５】
光回折構造を種々の被着体に適用するには、直接、被着体上で光回折構造を製造することも原理的には可能だが、適用する対象の被着体が、一個ずつの個別のものであるため、通常は、被着体とは別のシート状態で、多くの光回折構造を含む積層シートを製造しておき、個々の被着体上に、光回折構造を適用する方法が採られている。
【０００６】
このような光回折構造を含む積層シートとしては、基材シート上に剥離層を介して、光回折構造を含む転写層が積層された貼付け用シートを用い、被着体の所定の位置に合わせて、転写層を貼付け、貼付けた後に、基材シートを剥がすことが行なわれている。転写層は薄い層どうしの積層構造からなるため、一旦貼付けた後は、剥がして、他の被着体に転用することが難しくなるため、不正な転用を防止し得る利点がある。
【０００７】
ここでの基材シートは、剥離可能に積層するものであるが、あまり剥がれやすいと、不用意に扱ったのみで、剥離層ごと転写層が基材シートから剥離してしまう恐れがあり、剥がれにくいと剥離時に剥離層の一部やさらには転写層の一部も含めて基材シートに付着したまま剥がれてしまい、転写層の表面が損なわれる恐れがある。
【０００８】
また、転写層として、ホログラムや回折格子等の光回折構造を含むものは、光回折構造を有する層の形成の際に、紫外線硬化性樹脂を用いる事が多いが、硬化の際の紫外線照射により、剥離層が劣化もしくは変質して、基材シートと剥離層との接着力が意図に反して上昇してしまうことがある。
あるいは、ホログラムや回折格子等の光回折構造は、通常、その視認性を増すために、光反射性層を伴なうが、この光反射性層の積層の際にもたらされる蒸発金属の熱により、剥離層が劣化もしくは変質して、基材シートと剥離層との接着力が意図に反して上昇してしまうことがある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明においては、上記の従来技術では、貼付け用シートの基材シートと剥離層との接着が不十分で不用意に剥離しやすかったり、剥離しにくいことによる支障があった点、および、転写層が光回折構造を含む場合、その形成時に、過度な紫外線照射を受けて、剥離層が劣化もしくは変質し、基材シートと剥離層との接着力が上昇し過ぎたり、あるいは、光回折構造が伴なう光反射性層の積層の際の熱で、基材シートと剥離層との接着力が上昇し過ぎることを解消しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決する手段】
本発明においては、貼付け用シートの基材シートと転写層との間の剥離層の厚みを規定しすることにより、上記の課題を解決することができた。
【００１１】
第１の発明は、基材シート、剥離層、中間層、光回折構造層、光反射層、プライマー層、及び感熱接着剤層から構成される基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法であって、（１）前記基材シート面へ、厚みが１．５μｍ以上の前記剥離層を形成する剥離層形成工程、（２）前記剥離層面へ、紫外線吸収剤を含む前記中間層を形成する中間層形成工程、（３）前記中間層面へ、紫外線吸収剤を含み、電離放射線硬化性樹脂からなる未硬化状態の光回折構造形成層を形成する未硬化状態の光回折構造形成層形成工程、（４）前記光回折構造形成層面へ、レリーフホログラム又は回折格子の微細凹凸を賦形し、基材シートの反対側より紫外線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させて、微細凹凸を有する光回折構造層を形成する微細凹凸を有する光回折構造層形成工程、（５）前記光回折構造層の微細凹凸面へ、気相製膜法による透明な前記光反射層を形成する光反射層形成工程、（６）前記光反射層面へ、前記プライマー層を形成するプライマー層形成工程、（７）前記プライマー層面へ、離型剤を含有する前記感熱接着剤層を形成する感熱接着剤層形成工程、とからなることを特徴とする基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法である。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図１（ａ）に示すように、本発明の貼付け用シート１は、基材シート２の下面に、剥離層３および転写層４が順に積層されたものであって、転写層４は、例えば、剥離層３側より、下面側に光回折構造の微細な凹凸５ａを有する光回折構造形成層５、光反射性層６、および感熱接着剤層７が順に積層された積層構造を有するものである。
【００１３】
図１（ｂ）に示すように、本発明の貼付け用シート１は、基材シート２の下面に、剥離層３および転写層４が順に積層されたものであって、転写層４が、剥離層３側より、中間層８、下面側に光回折構造の微細な凹凸５ａを有する光回折構造形成層５、光反射性層６、プライマー層９、および感熱接着剤層７が順に積層された積層構造を有するものであってもよい。
【００１４】
上記の二例は、本発明をホログラム等の光回折構造を転写し得る貼付け用シート１に適用した例であるが、本発明の貼付け用シート１は、転写層４がより簡素なものであってもよく、例えば、転写層４は、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層、もしくは、蒸着等の気相製膜法により形成された金属もしくは金属酸化物等の薄膜層、のいずれかの単独、またはそれらが積層された積層構造を有するものであってもよい。
上記において、転写層４が、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層である場合には、熱可塑性樹脂からなる層である場合にくらべて、被着体に適用した後の転写層の耐久性が優れている。
【００１５】
転写層４が、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層と、気相製膜法により形成された薄膜層との積層構造からなる場合の典型例として、転写層４の剥離層３側より、電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなり、下面側に光回折構造の微細な凹凸５ａを有する光回折構造形成層５と、薄膜層からなる光反射性層６との積層構造があり、この積層構造が視認性の高く、かつ耐久性の高い光回折構造を与えるものである。
【００１６】
電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層は、紫外線硬化性樹脂の硬化物であってよく、従って、光回折構造形成層５は、紫外線硬化性樹脂の硬化物からなっていてよく、その場合、紫外線吸収剤を含有していてよい。
なお、前記した中間層８も紫外線吸収剤を含有していてよい。
【００１７】
図１（ａ）および図１（ｂ）における最下層の感熱接着剤層７は、感熱接着剤層７以外の転写層４の最下面、もしくは貼付け用シート１を適用する被着体の表面が接着性を有している場合や、貼付けの際に、被着体の表面もしくは貼付け用シート１の下面に接着剤を適用する場合、省いてよい。
【００１８】
本発明の貼付け用シートの基材シート２としては、例えば、透明なポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム等のポリエステル樹脂フィルム、もしくはポリオレフィン樹脂フィルム等の、通常、転写フィルムのベースとして使用するものを使用することができる。
【００１９】
剥離層３は、貼付け用シート１を被着体に貼付け、基材シート２を剥がすまでの間に、基材シート２と転写層４とを、容易には剥離しない程度に接着させておき、基材シート２を剥がす際には、円滑な剥離が行なえるようにするためのものである。なお、ここで言う剥離層３は、基材シート２を剥離する際には、基材シート２とは離れて、転写層４側に接着したまま残るものである。
【００２０】
剥離層３は、基材シート２と強固に接着する樹脂で構成することは好ましくなく、従って、基材シート２の素材とは材質的に似通ったものを避けて選択した樹脂を用いて構成することが好ましい。
また、剥離性を向上させる目的で、基材シート２とは接着性の乏しいニトロセルロース樹脂もしくは酢酸セルロース樹脂を添加することができ、同様の目的で、シリコーン樹脂、シリコーンオイル、ワックス等を添加することもできる。
【００２１】
剥離層３は、通常は１〜５μｍ程度の厚みに形成するが、転写層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる場合、もしくは転写層が気相製膜法により形成された薄膜層である場合、１．５μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは２．０μｍ以上である。
剥離層３の厚みが１．５μｍ未満であると、転写層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる場合、もしくは転写層が気相製膜法により形成された薄膜層である場合には、それらの層の形成時の電離放射線の照射、もしくは薄膜材料の蒸気が持つの熱の作用で、剥離層３が劣化しやすいので、好ましくない。剥離層３の厚みが１．５μｍ以上であれば、実質的な劣化の影響は少ないが、劣化の影響をほとんど無い状態にするには、剥離層の厚みが２．０μｍ以上であることが好ましい。
【００２２】
基材シート２と剥離層３との間の接着力の調整は、剥離層３を構成する樹脂の選択によって行なうことができる。
基材シート２が、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム等である場合、線状ポリエステル系樹脂等のポリエステル樹脂を溶解した樹脂溶液を用い、基材シート２に塗付し、乾燥させると、強固な接着力を有するポリエステル樹脂被膜が形成され、剥離層３としては向かない。
ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムである基材シート２に、使用上、支障のない接着力を有する被膜を形成し得る樹脂としては、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、もしくはポリメタクリル酸メチル樹脂等のアクリル樹脂を挙げることができ、これらの樹脂を単独もしくは混合して用いて剥離層３を形成することが好ましい。
【００２３】
剥離層３の厚みは先の述べた通りであるが、転写層の形成の際の電離放射線の照射、もしくは薄膜材料の蒸気が持つの熱の作用を回避するには、電離放射線の照射量を減らすか、気相成膜法によって形成する薄膜の厚みを減らすことが好ましい。例えば、薄膜層の厚みを、薄膜層を構成する素材の蒸気の温度にもよるが、８０ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００２４】
電離放射線の照射線量を減らすのは、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる観点からは難しい面もあるが、転写層４が電離放射線硬化性樹脂の硬化物、特に紫外線硬化性樹脂の硬化物を含む場合、紫外線の照射を貼付け用シート１の基材シート１とは反対側から行ない、剥離層３よりも紫外線光源側に位置する層に紫外線吸収剤を含有させておき、紫外線照射の影響を抑えることも好ましい。紫外線吸収剤を含有させ得る層は、中間層８、光回折構造形成層５、もしくはプライマー層９である。
【００２５】
また、基材シート２と剥離層３の間の剥離力の変化を防止する意味で、剥離層３を構成する樹脂には、安定剤を配合することが好ましく、安定剤は、剥離層３を構成する樹脂が複数種からなるときは、その各々の樹脂ごとに適した配合剤を配合することがより好ましい。剥離層３への安定剤の配合は、転写層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物のみからなる場合、もしくは転写層が気相製膜法により形成された薄膜層のみからなる場合にも、あるいはこれらの組み合わせのみからなる場合にも有効である。
安定剤としては、塩化ビニル系樹脂用の脱塩化水素を防止するもの、酸化防止剤、もしくは光安定剤がある。
【００２６】
塩化ビニル系樹脂用の脱塩化水素を防止するものとしては、金属石鹸系安定剤、有機錫化合物系安定剤、鉛化合物系安定剤、アンチモン化合物系安定剤があり、安定化助剤であるエポキシ化合物、亜リン酸エステル系化合物、β−ジケトン系化合物等と組み合わせて用いられることがある。
酸化防止剤としては、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（旭電化工業（株）製、アデカスタブＡＯ−５０）等のフェノール系酸化防止剤、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート等の有機硫黄化合物系酸化防止剤、もしくはトリスノニルフェニルホスファイト等の有機リン化合物系酸化防止剤等がある。
光安定剤は、後記する紫外線吸収剤（ヒンダードアミン系化合物を含む。）である。
これらの安定剤は、安定剤の種類にもよるが、質量基準で、樹脂に対して１／１０００００〜１／１００、好ましくは１／１００００〜１／１０００程度の割合で配合するとよい。
【００２７】
光回折構造形成層５は、透明な合成樹脂、好ましくは電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる層の片面に、光回折構造の微細凹凸（以降、単に凹凸と言うことがある。）５ａが形成されたものである。
光回折構造の代表例であるホログラムとしては、平面ホログラム、体積ホログラムともに使用でき、具体例としては、レリーフホログラム、リップマンホログラム、フルネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、レーザー再生ホログラム（イメージホログラムなど）、白色光再生ホログラム（レインボーホログラムなど）、カラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグラム、ホログラフィック回折格子などが挙げられる。
【００２８】
光回折構造形成層５を構成する透明な合成樹脂としては、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例、ＰＭＭＡ）、ポリスチレン、もしくはポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂以外に、熱硬化性樹脂、例えば、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、もしくはトリアジン系アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
上記の透明な合成樹脂は、それぞれ単独、或いは上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを混合して使用することができ、更には、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質、或いは、これらにラジカル重合性不飽和単量体を加え電離放射線硬化性としたものなどを使用することができる。このほか、銀塩、重クロム酸ゼラチン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモクロミックス材料、カルコゲンガラスなどの感光材料なども使用できる。
【００３０】
上記の樹脂からなる光回折構造形成用の層への光回折構造の形成は、上記の材料を用いて、従来既知の方法によって形成することができる。例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型として用い、上記の樹脂からなる層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。また、フォトポリマーを用いる場合は、前記積層シートの保護層上に、フォトポリマーを同様にコーティングした後、前記原版を重ねて紫外線等の電離放射線を照射することにより複製することができる。
【００３１】
このように、表面凹凸のレリーフとして回折格子やホログラムの干渉縞を光回折構造層の表面に記録する方法は、量産性があり、コストも低くできる点で特に好ましい。このような光回折構造形成層５の膜厚は、０．１〜６μｍの範囲が好ましく、０．１〜４μｍの範囲が更に好ましい。
【００３２】
上記の光回折構造形成層５の表面に、凹凸のレリーフとして回折格子やホログラムの干渉縞を記録した場合には、その回折効率を高めるために、光反射性層６をレリーフ面に積層形成することが好ましく、そのような光反射性層６としては、光回折構造形成層５とは屈折率の異なる透明反射層とがある。
【００３４】
後者の、光回折構造形成層５とは屈折率の異なる透明反射層を構成する素材としては、光回折構造形成層５より屈折率が大きい、ＺｎＳ、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂ Ｏ₃、Ｓｂ₂ Ｓ₃ 、ＳｉＯ、ＴｉＯ、もしくはＳｉＯ₂ 等が挙げられる。
また、光回折構造形成層５より屈折率が小さい、ＬｉＦ、ＭｇＦ₂ 、もしくはＡｌＦ₃ 等が挙げられる。
【００３５】
更に、光回折構造形成層５とは屈折率の異なる透明な合成樹脂、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレートの層を光反射性層６を構成する素材として用いることもできる。
【００３６】
光回折構造形成層５とは屈折率の異なる透明反射層の膜厚は、薄膜を形成する材料の透明領域であればよいが、通常は１００〜１０００Åが好ましい。透明反射層をレリーフ面に積層形成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの薄膜形成法が挙げられる。透明反射層は、その屈折率が光回折構造形成層より大きくても小さくてもよいが、屈折率の差が０．３以上あることが好ましく、差が０．５以上、更には１．０以上あることがより好ましい。
【００３７】
感熱接着剤層７は、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン−イソブチルアクリレート共重合体樹脂、ブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル及びその共重合体樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、エポキシ樹脂、又はフェノール樹脂が使用できる。あるいは、ＳＢＳ（スチレン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー）、ＳＩＳ（スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー）、ＳＥＢＳ（スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロックコポリマー）等の熱可塑性エラストマー、又は反応ホットメルト性樹脂等を用いて構成する。感熱接着剤層７の厚みとしては、１μｍ〜１０μｍとするとよい。
【００３８】
感熱接着剤層７に、昇華転写リボン等の転写リボンとサーマルヘッド等を用いた転写により、文字や画像を形成する場合があり、この場合、転写リボンと感熱接着剤層７とが熱融着しないよう、感熱接着剤層７にシリコーンオイルやシリコーン樹脂等の離型剤を配合しておくとよい。
なお、このように、感熱接着剤層７に文字や画像を形成すると、被着体に適用した後は、文字や画像を有する感熱接着剤層７上を他の層、好ましくは光回折構造が覆うため、文字や画像の改ざんが困難になる利点が生じる。
【００３９】
中間層８は、剥離層３と転写層４との間に設ける層であって、剥離層３と転写層４とを強固に接着させるための層である。
剥離層３はその性格上、基材シート２との接着力を抑制したものであるため、剥離層３と転写層４の間の接着力が低下しがちであるので、中間層としては、剥離層３を構成する成分の樹脂、および転写層４を構成する成分の樹脂を混合したものを用いて構成するか、剥離層３と転写層４の各々を構成する樹脂と反応し得る官能基を有する樹脂を用いて構成するか、もしくはウレタン樹脂のような、表面に対する濡れのよい樹脂を用いて構成するとよく、いわゆるプライマー層形成用の素材も利用できるので、プライマー層とも言える。ウレタン樹脂の他には、エポキシ樹脂も利用できる。
【００４０】
プライマー層９は、反射層の最下層の感熱接着剤層７と、光回折構造を構成する光反射性層６との間に設けるもので、光反射性層６が金属や金属の酸化物である場合、接着力が乏しくなる恐れがあることを補うものである。
プライマー層９は、感熱接着剤層７、および光反射性層６の材料を考慮して選択された樹脂を用いて構成することができるが、ウレタン樹脂のような、表面に対する濡れのよい樹脂を用いて構成するとよい。
【００４１】
光回折構造形成層５もしくは中間層８に配合し得る紫外線吸収剤としては、（１）ベンゾフェノン系、（２）ベンゾトリアゾール系、（３）アクリレート系、（４）サリシレート系、もしくは（５）オキザニリド系のものに加え、（６）ヒンダードアミン系のものを使用することができる。
【００４２】
本発明の貼付け用シート１を使用する際には、図２（ａ）に示すように、貼付け用シート１を、その転写層４側が被着体１２側となるようにして、被着体１２上に重ね、平板プレスまたはロールプレスにより、加熱および加圧して、被着体１２上に貼付け用シート１を接着させる。
その後、貼付け用シート１の基材シート２を剥離することにより、図２（ｂ）に示すように、被着体２上に転写層４および剥離層３が順に積層された記録媒体１１を得ることができる。
【００４３】
図３は、上記のようにして得ることができる記録媒体１１の一例を示すものであって、カードの形態の被着体１２の右側に転写層４が積層されており、上辺に沿ったやや内側に磁気記録層１３を有し、このほか、カードの名称、番号、有効期限、保持者の氏名等が文字１４として形成されたものである。
【００４４】
被着体１２を構成する基材としては、剛性があって折れ曲がりにくく、上記の光回折構造層３に加え、他の記録手段を備えることがあり得るので、例えば、磁気記録層や文字等を設ける際の加工性が優れたもので構成されていることが好ましい。
【００４５】
具体的な被着体１２の基材の素材としては、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポリスチレン系、アクリル、ポリプロピレン、ポリエチレンなどの樹脂のほか、アルミニウム、銅などの金属、紙、そして、樹脂またはラテックス等の含浸紙等の単独、或いは複合体シート等を用いることができる。
耐熱性が要求される場合、基材の素材として、非晶質ポリエステル樹脂、非晶質ポリエステル樹脂とポリカーボネート樹脂のブレンド樹脂等のシートも用いることができる。
【００４６】
被着体１２の基材の厚さは、材質によっても異なるが、通常、１０μｍ〜５ｍｍ程度の範囲である。被着体１２が磁気カードである場合、基材をＩＳＯ規格に準拠したものとする場合には、その厚さは０．７６ｍｍである。そして、基材をポリ塩化ビニル（以下、ＰＶＣ）で形成する場合、通常、厚さ２８０μｍの白色ＰＶＣシートをコアシートとして、これを２枚重ね、その両側にそれぞれ厚さ１００μｍの透明ＰＶＣシートをオーバーシートとして重ねて、熱プレスなどにより積層する４層構成の基材シート（合計厚さ０．７６ｍｍ）が用いられている。
【００４７】
磁気記録層１３は、通常、５〜１０ｍｍ幅程度のストライプ状のものであって、基材２の表面に、（１）磁性剤粉末を含有する物質を添加し混練して調製した磁気塗料を用いて直接に塗布して設けたもの、（２）別の薄いプラスチックシート等の基材に塗布し、ストライプ状にカットして基材上に貼って設けたもの、もしくは（３）別の仮の基材に剥離可能に積層して準備された磁気記録層転写シートを用い、転写法により、基材上に転写して形成されたものである。
【００４８】
磁気記録層１３としては、基材に対して、磁性物質の蒸着やスパッタリング等により気相状態で磁性物質の薄膜として形成されたものや、薄膜の形成を、磁気記録媒体の基材とは別の基材上に行ない、その後、ストライプ状にカットして貼るか、転写により適用ものであってもよい。
【００４９】
カードを含め、一般的な記録媒体においては、磁気記録層１３を備えていることが普通である。磁気記録層１３は、光学記録層やＩＣモジュール等で置き換えてもよい。ただし、光学記録層やＩＣモジュールが備わっていても、汎用性のある磁気記録層１３を備えていることが好ましい。
【００５０】
文字１４は、カード発行会社の名称、カードの名称、カードの発行番号、有効期限、カードを保持する者の氏名、および注意書等を示すためのものである。これらのうち、カードの発行番号、有効期限、およびカードを保持する者の氏名をエンボス加工による凹凸により形成しておくことが多い。
なお、被着体１２の基材２には、文字１４以外に、カードを装飾するための着色や模様の付与が行なわれていてもよく、着色や模様の付与、およびエンボス加工によらない文字の形成は、通常、印刷により行なわれる。
【００５１】
本発明は上記のような、カードに限定されるものではなく、本発明の記録媒体１１は、種々の用途に合わせて使用するものであり得る。
記録媒体１１は、ＩＤ（本人確認）用のカードであってよい。ＩＤ用のカードは、具体的には、銀行等の預貯金カード、クレジットカード、身分証明書等であり得る。必ずしもカードではない受験票、パスポート等でもよい。
また、記録媒体１１は、紙幣、商品券、株券、証券、預金通帳、乗車券、航空券等で有り得る。交通機関や公衆電話用のプリペイドカードでも有り得る。これらの記録媒体には金額等の情報が記録されている。
【００５２】
本発明は、高額な物品の真正性の証明用に用いる場合もある。代表例として、高級腕時計、貴金属、宝飾品等、いわゆるブランド品といわれる世界的に著名な高級商品やそれらの収納箱やケースであり、これらが被着体１２に貼付け用シートを適用して得られたものが記録媒体となり得る。
音楽ソフト、映像ソフト、コンピュータソフト、もしくはゲームソフト等が記録された磁気的記録媒体等の記憶媒体やそれらのケース等にも、これらを被着体１２として、貼付け用シートを適用することができる。
【００５３】
【実施例】
（実施例１）
貼付け用シートとして、厚みが２５μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いて各層を順次形成した。
まず、片面に、剥離層を後記する剥離層形成用組成物を用いて形成し、厚みが２μｍの紫外線硬化性樹脂の硬化物からなるホログラム形成層、ＴｉＯ₂薄膜からなる反射層、厚みが０．５μｍのウレタン樹脂系プライマー層、および厚みが２μｍで、シリコーンオイルを０．１％含む塩化ビニル／酢酸ビニル共重合樹脂系の感熱接着剤層の各層を、順次形成して、剥離層の厚みの違いおよびＴｉＯ₂薄膜の厚みの違いをそれぞれ組み合わせた四通りの貼付け用シートを得た。
ここで、剥離層としては、厚みが１μｍのもの、１．５μｍのもの、および２．０μｍのものを、ＴｉＯ₂薄膜としては、厚みが４０ｎｍのもの、および８０ｎｍのものをそれぞれ形成した。
【００５４】
なお、ホログラム形成層にはホログラムの凹凸を金属型を押し付けて形成した後、５００ｍＪの紫外線を照射して層を硬化させた後、凹凸が形成された面に反射層を形成した。
各層の形成は、反射層の形成を蒸着で行なった以外は、いずれもグラビアコーティングによって行なった。なお、「部」および「％」は、いずれも質量基準である。
（剥離層形成用組成物）
・メタクリル酸メチル樹脂８部
・フェノール系酸化防止剤０．０００７部
（旭電化工業（株）製、アデカスタブＡＯ−５０、メタクリル酸メチル樹脂用として）
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合樹脂５部
・塩化ビニル樹脂用安定剤０．００５部
（旭電化工業（株）製、アデカスタブＡＣ−２１２）
・ニトロセルロース樹脂１部
・エポキシ系コンポーネント安定剤０．０００３部
（旭電化工業（株）製、アデカサイザーＯ−１３０Ｐ）
・ポリエステル樹脂０．５部
・光安定剤０．００３部
（旭電化工業（株）製、アデカスタブＬＡ−３２、剥離層全体の安定剤として）
・溶剤（メチルエチルケトン／トルエン＝１／１）５０部
【００５５】
得られた四通りの貼付け用シートの各々の感熱接着剤層に、昇華転写リボンを用い、サーマルプリンタにより、画像を形成した後、貼付け用シートを塩化ビニル樹脂製のカード上に、感熱接着剤層側がカード側を向くようにして重ね、熱ラミネーターを用いて、貼付け用シートとカードを接着し、接着した後に、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを剥がした結果は次の通りである。
【００５６】
（１）剥離層の厚み；１μｍ、ＴｉＯ₂薄膜の厚み；４０ｎｍ
（２）剥離層の厚み；１μｍ、ＴｉＯ₂薄膜の厚み；８０ｎｍ
上記の（１）および（２）の貼付け用シートを使用した場合には、いずれも、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを円滑に剥がすことが困難で、剥離力が０．５ｋｇｆを越えており、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムと剥離層との間で剥離せず、他の層間で剥離したり、あるいは基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムが破断した。
【００５７】
（３）剥離層の厚み；１．５μｍ、ＴｉＯ₂薄膜の厚み；４０ｎｍ
この（３）の貼付け用シートを使用した場合には、剥離力は０．０１５ｋｇｆで安定し、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムと剥離層との間で円滑な剥離を行なうことができた。
（４）剥離層の厚み；１．５μｍ、ＴｉＯ₂薄膜の厚み；８０ｎｍ
この（４）の貼付け用シートを使用した場合には、剥離力が０．０２２ｋｇｆで、未だかなり大きいものの、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムの剥離はほぼ円滑に行なうことができた。
（５）剥離層の厚み；２．０μｍ、ＴｉＯ₂薄膜の厚み；４０ｎｍ
剥離力が０．０５８ｋｇｆであり、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムと剥離層との間で円滑な剥離を行なうことができた。
（６）剥離層の厚み；２．０μｍ、ＴｉＯ₂薄膜の厚み；８０ｎｍ
剥離層の厚みが２．０μｍ、ＴｉＯ₂薄膜の厚みが４０ｎｍの場合には剥離力が０．０１０ｋｇｆで若干大きいものの、上記の（４）にくらべて、基材のポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムと剥離層との間での剥離がより円滑に行なえた。
【００５８】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、剥離層の厚みを規定したので、被着体に適用した後の耐久性が高く、貼付け後の基材シートの剥離を円滑に行なうことが可能な、基材シートを剥離し得、また、光回折構造層および光反射性層からなる光回折構造を被着体表面に付与でき、貼付け後の基材シートの剥離を円滑に行なえ、さらに光回折構造層が、紫外線硬化性樹脂の硬化物からなり、かつ紫外線吸収剤を含有しているので、硬化物であることによる耐久性を有し、かつ紫外線吸収剤を含有することにより、紫外線を受けて劣化する恐れを少なくした光回折構造を、被着体表面に付与することが可能な、基材シートを剥離し得る貼付け用シートを提供することができる。また、製造時に基材シートとは反対側から紫外線を照射すれば、剥離層への悪影響を排除することが可能である。さらにまた、光反射性層上に、離型剤を含有する感熱接着剤層が積層されたものであるために、感熱接着剤層に転写リボンとサーマルヘッド等を用いた転写を可能とし、光反射性層と前記離型剤を含有する感熱接着剤層との間にプライマー層が積層されたものであるので、光反射性層と感熱接着剤層との間の接着力が強化され、剥離層との間に中間層を有しているので、転写層と剥離層との接着力が強化され、中間層が紫外線吸収剤を含有しているので、製造時に基材シートとは反対側から紫外線を照射すれば、剥離層への悪影響を排除することが可能な、基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】貼付け用シートの断面図である。
【図２】貼付け用シートを被着体に適用する様子を示す断面図である。
【図３】貼付け用シートを用いて得られるカード状の記録媒体を示す図である。
【符号の説明】
１貼付け用シート
２基材シート
３剥離層
４転写層
５光回折構造形成層（５ａ；凹凸）
６光反射性層
７感熱接着剤層
８中間層
９プライマー層
１１記録媒体
１２被着体
１３磁気記録層
１４文字

Claims

基材シート、剥離層、中間層、光回折構造層、光反射層、プライマー層、及び感熱接着剤層から構成される基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法であって、
（１）前記基材シート面へ、厚みが１．５μｍ以上の前記剥離層を形成する剥離層形成工程、
（２）前記剥離層面へ、紫外線吸収剤を含む前記中間層を形成する中間層形成工程、
（３）前記中間層面へ、紫外線吸収剤を含み、電離放射線硬化性樹脂からなる未硬化状態の光回折構造形成層を形成する未硬化状態の光回折構造形成層形成工程、
（４）前記光回折構造形成層面へ、レリーフホログラム又は回折格子の微細凹凸を賦形し、基材シートの反対側より紫外線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させて、微細凹凸を有する光回折構造層を形成する微細凹凸を有する光回折構造層形成工程、
（５）前記光回折構造層の微細凹凸面へ、気相製膜法による透明な前記光反射層を形成する光反射層形成工程、
（６）前記光反射層面へ、前記プライマー層を形成するプライマー層形成工程、
（７）前記プライマー層面へ、離型剤を含有する前記感熱接着剤層を形成する感熱接着剤層形成工程、とからなることを特徴とする基材シートを剥離し得る貼付け用シートの製造方法。