JP4773602B2 - フッ素化触媒 - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、炭化水素（ハロゲン化されたもの又は不飽和のもの）のフッ素化のためのプロセスに有用な新規触媒に関するものであり、特にそのようなフッ素化プロセスで高温で有用なフッ素化炭素上のアンチモンのような担持されたルイス酸触媒に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この技術（例えば、米国特許５，４４９，８４２号、５，２０８３９５号、及び２，７４９，３７４号）は、アンチモン（Ｖ）のようなルイス酸触媒の用途を開示しており、かかる触媒は、ＨＦの不飽和炭化水素への求電子的付加又はハロゲン化炭化水素の（非フッ素の）ハロゲン原子のフッ素化原子への置換を伴うフッ素化プロセスを触媒するものである。しかしながら、反応温度が１５０℃よりも高温のプロセスにおいては、アンチモンＶはアンチモンIIIに還元されて、その結果触媒は失活する。この問題に対処する試み（上記米国特許２，７４９，３７４号におけるように）は、アンチモン触媒を＋５酸化状態に維持するために低レベルの塩素の連続的供給を伴うものであったが；これは、しかしながら、分離及びこれによる追加的処理による複雑化を要求する好ましくない塩素化副産物の形成の原因となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
望まれるものは、塩素のような追加的コフィード(cofeed)を導入する必要なく、高温に耐えることができる、フッ素化プロセスにおいて使用するための触媒である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
発明の概要
フッ素化プロセスにおいて有用な担持された金属触媒を提供し、そのような担持された金属触媒を用いる触媒作用を利用したフッ素化方法も提供する。その金属は、アンチモン、チタン、スズ、ニオブ及びタンタル（好ましくはアンチモン）の内の一種以上から選ぶ。担体は、フッ素化処理された水分のない活性炭であり、触媒は、使用前にフッ化水素を用いて活性化する。
【０００５】
【発明の実施の形態】
発明の具体的な説明
ルイス酸触媒をフッ素化処理された水分のない活性炭支持体上に取り込むことは、フッ素化が高温（例えば１８５℃）で触媒の失活もなくかつ塩素のような追加的反応物をフッ素化プロセスに導入する必要がなく作用することができる触媒をもたらすということが、今現在発見されている。
【０００６】
好ましい触媒金属は、＋５酸化状態のアンチモンであるが、金属はまた、チタンＩＶ、スズＩＶ、ニオブＶ又はタンタルＶであってもよい。それらの金属の１種以上の混合物を採用してもよい。金属濃度は、触媒１グラム当たり０．０００１〜０．１モルの範囲の間、好ましくは０．００１〜０．１モル／グラムの範囲の間を取るのが典型的である。
【０００７】
活性炭支持体を加熱して乾燥状態にし（約１８０℃で窒素のような不活性ガス流れであるのが典型的である。）フッ素化処理する。「フッ素化処理」は、乾燥活性炭をフッ化水素、ＳＦ4、ＳｅＦ4、窒素のような不活性ガスで希釈したフッ素又はＣＩＦ、ＩＦ若しくはＢｒＦ3のようなハロゲン間フッ素化合物のようなフッ素化剤と接触させることを意味する。フッ素化剤を、気相若しくは液相中に回分式若しくは連続式で添加することができる。添加温度は、臨界的なものではなく、例えば室温（約２０℃）〜２００℃の間の範囲を取ることができる。不活性ガスをフッ素化剤とともに用いることができるが、臨界的なものではない。用いられるフッ素化剤の濃度は、触媒１グラムに対して０．０１〜１０グラムであるのが典型的である。
【０００８】
触媒は、フッ素化プロセスにおける使用の前に通常の活性化操作（例えば触媒上約５０℃で２４時間ＨＦを供給することによるような）を受ける。
【０００９】
本発明の触媒は、典型的な接触時間が０．１〜６０秒である連続式の気相フッ素化及び典型的な接触時間が１〜５時間である液相回分式のフッ素化のような標準的なフッ素化プロセスにおいて有用であり、かかるプロセスで、今高温の使用が可能になり、このことを以下の非限定的な例において以下に示す。
【００１０】
【実施例】
例１．フッ素化された乾燥活性炭担体上のアンチモン触媒の調整：
活性炭（Ｃａｌｇｏｎ ＣＰＧ，２５グラム）を、リアクター中に加えて窒素流れ中２４時間１８０℃で加熱した。次いで、リアクター温度を１２０℃に下げた、そしてリアクター温度を５０℃に下げた後に液体ＨＦを０．１１グラム／分の速度で窒素ガス（１００ｃｃｍ）と共に２４時間供給した。次いで、窒素を４０ｃｃｍで、０．５３ｃｃｍ塩化アンチモン（Ｖ）とともに１０分間（１２．６グラム）供給した。次いで、触媒を５０℃でＨＦを用いて活性化してフッ素化プロセスにおける使用のために調整した。
【００１１】
例２．例１の活性化触媒を用いた低温及び高温での１４２ｂ（１−クロロ−１，１−ジフルオロエタン）の１４３ａ（１，１，１−トリフルオロエタン）へのフッ素化：
ＨＦ（２８５ｃｃｍ）及び１４２ｂ（３６ｃｃｍ）のガス状混合物を活性化触媒に１１０℃で供給して接触時間を３．５秒とした。転化率は、安定しており（９０％）しかも１４３ａに関する選択率は、１００％であった。温度を１８５℃に上昇させた場合には（接触時間７．５秒）、転化率は９８％であり１４３ａに関する選択率は相変わらず１００％であった。その後温度を、１１０℃に下げ戻すと（接触時間３．５秒）、転化率は再度９０％に低下した。このことは、高温での使用の結果としての触媒表面からのアンチモンＶの損失がないこと又はアンチモンＶからアンチモンIIIの還元がなかったことを示す。また、リアクターを開けて触媒を調べたところ、析出したＳｂＦ3の形跡を見出さなかった。

Claims (2)

  1. 金属フッ素化触媒用の担体として使用するための活性炭の製造方法であって、該金属がアンチモン（Ｖ）、チタン（ＩＶ）、スズ（ＩＶ）、ニオブ（Ｖ）及びタンタル（Ｖ）よりなる群の１種以上から選択され、該方法が、該金属フッ素化触媒を適用する前に、該活性炭を乾燥させ、そしてフッ素化剤で処理することからなる該活性炭の製造方法。
  2. 前記フッ素化剤がフッ化水素である、請求項１に記載の方法。
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