JP4756452B2 - 弾性表面波素子形成用フォトマスクおよび弾性表面波素子の製造方法並びに弾性表面波素子 - Google Patents
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Description
本発明は、前記従来技術の欠点を解消するためになされたもので、同一のウエハから形成した弾性表面波素子間における周波数温度特性のばらつきを小さくすることを目的としている。
そして、本発明に係る弾性表面波素子は、上記したいずれかの弾性表面波素子の製造方法により製造したことを特徴としている。これにより、周波数温度特性のばらつきの小さい高精度な弾性表面波素子を得ることができる。
Claims (4)
- 圧電体基板の面内回転角とその圧電体基板から形成した弾性表面波素子の周波数温度特性との関係、
および電極用導電膜を成膜する成膜装置に対応させて、前記圧電体基板に形成した前記弾性表面波素子の周波数温度特性と前記圧電体基板の位置との関係を予め求め、
前記圧電体基板に設けたフォトレジストを露光する際に、前記予め求めた前記周波数温度特性と前記圧電体基板の位置との関係、および前記周波数温度特性と前記圧電体基板の面内回転角との関係に基づいて、前記圧電体基板の位置に応じて、向きの異なる電極パターンを露光することにより前記圧電体基板にそれぞれ面内回転角の異なる複数の弾性表面波素子を形成し、
前記複数の弾性表面波素子が形成された圧電体基板を個々の弾性表面波素子に分割する、
ことを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。 - 請求項1に記載の弾性表面波素子の製造方法において、
前記周波数温度特性と前記圧電体基板の位置との関係は、成膜条件ごとに求めることを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。 - 請求項1または2に記載の弾性表面波素子の製造方法において、
前記周波数温度特性と前記圧電体基板の位置との関係は、すだれ状電極を形成するフォトエッチングの条件ごとに求めることを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の弾性表面波の製造方法において、
前記露光は、前記圧電体基板に形成するすだれ状電極に対応した、向きの異なる同一の電極パターンが透明基板に複数設けてある弾性表面波素子形成用フォトマスクを使用して行なうことを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。
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