CN101145504A - 基板处理方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 225
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 36
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 41
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 29
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 20
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 18
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 17
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 230000004087 circulation Effects 0.000 description 9
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 7
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 6
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 6
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 4
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 4
- 238000013316 zoning Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
- B65G1/02—Storage devices
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
- B65G1/02—Storage devices
- B65G1/04—Storage devices mechanical
- B65G1/0407—Storage devices mechanical using stacker cranes
- B65G1/0435—Storage devices mechanical using stacker cranes with pulling or pushing means on either stacking crane or stacking area
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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-
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6734—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders specially adapted for supporting large square shaped substrates
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67363—Closed carriers specially adapted for containing substrates other than wafers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
- H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67769—Storage means
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Abstract
用于基板处理设施的基板处理方法,在保管在收纳架时以及由收纳容器搬运装置搬运时,将收纳容器的盖设为关闭状态,利用风扇过滤单元进行通风;并且在基板输入输出部中由基板搬运装置搬运基板时,将收纳容器的盖设为打开状态,利用风扇过滤单元进行通风。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于基板处理设施的基板处理方法。
背景技术
这样的基板处理方法,一边将收纳容器保管于收纳架上,一边借助收纳容器搬运装置将保管的收纳容器搬运到基板处理装置各自的基板输入输出部,所述收纳容器将在液晶显示器或等离子显示器中使用的玻璃基板等基板以在上下方向上隔开间隔地排列的状态保持多张,由此,利用多个基板处理装置对收纳在该收纳容器中的基板依次进行涂敷、曝光及显影等既定的处理,而制造处理完的基板,在相对于基板处理装置搬运到基板输入输出部时,因基板处理装置的处理量的差别,在基板的处理中产生等待,在上述情况下将该基板以收纳到收纳容器中的状态暂时保管在收纳架上。
在这样的基板处理方法中,以往,具有搬运区域用的净化空气通风机构,为了维持被基板搬运装置在基板输入输出部和基板处理装置之间搬运基板的基板搬运区域的清净度而使净化空气进行通风,将收纳容器形成为横向放倒姿势的四方筒状,将该收纳容器的一端侧的开口设为基板输入输出用的输入输出口,在收纳容器的另一端侧的开口部上装备有从收纳容器的另一端侧的开口朝向输入输出口通风的风扇过滤单元,在由收纳容器搬运装置搬运时,利用风扇过滤单元进行通风,来维持基板的清净度,并且,在基板输入输出部中由基板搬运装置搬运基板时,使风扇过滤单元停止(例如参照特开2001-308169号公报)。
在保管于收纳架时,也可利用风扇过滤单元使收纳容器内通风,来维持基板的清净度。此外,利用搬运区域用的清净空气通风机构维持基板搬运区域的清净度,从而维持了从收纳容器取出而在基板搬运区域搬运的基板的清净度。
在上述以往的基板处理方法中,在保管于收纳架时以及在由收纳容器搬运装置搬运时,利用风扇过滤单元使净化空气从收纳容器的另一端侧的开口朝向输入输出口通风而从输入输出口排出,由此可防止收纳容器内存在的尘埃附着到基板上,并且即使因收纳容器搬运装置的动作等而扰乱收纳容器周围的气流,也可防止外部气体进入到收纳容器内,而维持收纳容器内的基板的清净度。
但是,在保管于收纳架时以及由收纳容器搬运装置搬运时,在利用风扇过滤单元进行通风的情况下,收纳容器内的风速只要能防止收纳容器内存在的尘埃附着到基板上程度的比较慢的速度也可以,但从收纳容器排出时的风速为了防止外部气体从输入输出口倒流而需要比较快的速度,所以作为风扇过滤单元的通风量,由于从收纳容器排出时的风速比较快,所以较多,进而,该风扇过滤单元产生的通风在长时间内进行,即在保管在收纳架上的时间和由收纳容器搬运装置搬运的时间内进行,所以风扇过滤单元的运转成本变高,制造处理完的基板时的成本变高。
此外,在基板输入输出部中由基板搬运装置搬运基板时,使风扇过滤单元停止,所以基板搬运区域内的净化空气也会进入收纳容器内,有时伴随着该进入的净化空气,从基板搬运装置产生的尘埃会从收纳容器的输入输出口进入,由于该进入的尘埃而容易污染收纳容器内的基板。
发明内容
本发明是鉴于上述实际情况而作出的,其目的在于提供一种至少解决了现有技术中存在的问题之一的基板处理方法。
一种基板处理方法,用于基板处理设施,前述基板处理设施包括:
多个基板处理装置,用于处理基板;
收纳容器,将前述基板以在上下方向上隔开间隔地排列的状态保持多张,前述收纳容器形成为整体具有四边形的截面的筒状,即具有其一端侧的第1开口、和在水平方向上与前述第1开口隔开间隔的另一端侧设置的第2开口,前述第1开口构成为用于输入输出前述基板的输入输出口,这里,前述收纳容器具有装备在前述收纳容器的前述第2开口的区域而从前述第2开口朝向前述第1开口通风的风扇过滤单元,进而在前述收纳容器的输入输出口部装备有对前述收纳容器的前述输入输出口进行开闭的盖,在关闭状态下一部分设为开口,且在打开状态下容许前述基板搬运装置搬运前述基板;
收纳架,具有收纳前述收纳容器的多个收纳部;
基板输入输出部,分别与多个前述基板处理装置对应;
基板搬运装置,从位于前述基板输入输出部的前述收纳容器向前述基板处理装置供给基板,并将从前述基板处理装置搬出的基板收纳到位于前述基板输入输出部的前述收纳容器中;以及
收纳容器搬运装置,将前述收纳容器搬运到前述多个基板处理装置各自的前述基板输入输出部和前述收纳架的前述收纳部;
通过将前述收纳容器保管到前述收纳架上,并将保管的前述收纳容器依次搬运到前述多个基板处理装置的前述基板输入输出部,而利用多个前述基板处理装置依次处理前述基板,来制造处理完的基板,前述基板处理方法包括以下步骤:
在保管在前述收纳架时以及由前述收纳容器搬运装置搬运时,将前述收纳容器的前述盖设为关闭状态,利用前述风扇过滤单元进行通风;并且
在前述基板输入输出部中由前述基板搬运装置搬运前述基板时,将前述收纳容器的前述盖设为打开状态,利用前述风扇过滤单元进行通风。
即,在保管在收纳架上时以及在由收纳容器搬运装置搬运时,通过令收纳容器的盖为关闭的状态并借助风扇过滤单元进行通风,使净化空气从收纳容器的另一端侧的开口通入输入输出部而从输入输出口的一部分的开口排出,从而可抑制收纳容器内存在的尘埃附着到基板上并防止外部气体进入到收纳容器内,所以可维持基板的清净度,此外,在基板输入输出部中由基板搬运装置搬运基板时,通过令收纳容器的盖为打开的状态并利用风扇过滤单元进行通风,使净化空气从收纳容器的另一端侧的开口通入输入输出部而从输入输出口排出,从而可抑制收纳容器内存在的尘埃附着到基板上并防止外部气体进入到收纳容器内,所以可一边容许基板搬运装置搬运基板一边维持基板的清净度。
附图说明
图1是物品处理设备的立体图。
图2是基板收纳设备的主视图。
图3是基板收纳设备的侧视图。
图4是表示净化空气通风机构的图。
图5是表示物品收纳架的第一层的收纳部的图。
图6是表示基板搬运区域的侧视图。
图7是表示物品收纳架的第三层的收纳部的图。
图8是堆装起重机的侧视图。
图9是物品移载装置的俯视图。
图10是容器主体的分解立体图。
图11是收纳容器的分解立体图。
图12是收纳容器的立体图。
图13是收纳容器的纵剖主视图。
图14是表示盖的拆装的侧视图。
图15是表示风扇过滤单元的拆装的侧视图。
图16是表示盖的关闭状态和打开状态的侧视图。
图17是表示盖的关闭状态和打开状态的侧视图。
图18是表示风扇过滤单元的控制部的侧视图。
具体实施方式
下面,基于附图对本发明的实施方式进行说明。
如图2及图6所示,基板处理设备具备:多个基板处理装置3,处理例如矩形的基板1;收纳架5,具有对收纳容器2进行收纳的多个收纳部4,将前述基板1以在上下方向上隔开间隔而排列的状态保持多张;基板搬运装置7,相对于多个前述基板处理装置3,分别从位于基板输入输出部6的前述收纳容器2一张张取出基板1而向前述基板处理装置3供给,并将从前述基板收纳装置3搬出的基板1收纳到位于前述基板输入输出部6的前述收纳容器2中;和收纳容器搬运装置8,将前述收纳容器2搬运到前述多个基板处理装置3各自的前述基板输入输出部6及前述收纳架5的前述收纳部4中。
如图1所示,在基板处理设备中,装备有多个基板收纳设备A、和处理工序设备B,如图2所示,在基板收纳设备A中,分别具有收纳架5及作为前述收纳容器搬运装置8的堆装起重机10,如图6所示,在处理工序设备B中,分别具有基板处理装置3及基板搬运装置7。
在该基板处理设备中,使用下述基板处理方法:一边将前述收纳容器2保管在前述收纳架5上,一边将保管的前述收纳容器依次搬运到前述多个基板处理装置3各自的前述基板输入输出部6,由此,通过多个前述基板处理装置3依次处理前述基板1而制造处理完的基板。
即,基板搬运装置7及收纳容器搬运装置8的动作被未图示的控制装置控制,通过收纳容器搬运装置8将收纳容器2依次搬运到多个基板处理装置3各自的基板输入输出部6,并在每次搬运到基板输入输出部6时,通过基板搬运装置7将基板1从收纳容器2一张张取出而供给到基板处理装置3,并收纳从基板处理装置3搬运的基板1,从而通过控制装置控制基板搬运装置7及收纳容器搬运装置8的动作。该控制装置具有微型处理器、通信部、存储器、存储在存储器中的算法等、执行本说明书中记载的所有功能的部分。此外,该控制装置可以配置在设备的底面上,也可以配置在收纳容器搬运部或收纳架5上。
此外,在多个基板处理装置3中单独地进行涂敷、曝光及显影等既定的处理,所以在对基板1进行处理的处理量上产生差别,在依次搬运到基板输入输出部6时在基板1的处理中产生等待的情况下,通过控制装置控制收纳容器搬运装置8的动作,以便将收纳有其处理要等待的基板1的收纳容器2暂时保管到收纳架5上。
作为前述收纳容器搬运装置8,设置有:对应于前述收纳架5而装备的作为收纳架用的收纳容器搬运部的堆装起重机10、在多个前述收纳架5各自的多个入库出库部9之间搬运前述收纳容器2的作为架间用的收纳容器搬运部的往复行进搬运车11及循环行进搬运车12。
如图1所示,前述往复行进搬运车11及循环行进搬运车12在基板收纳设备A外搬运收纳容器2,往复行进搬运车11在相邻的两个基板收纳设备A之间往复行进,在两个基板收纳设备A之间搬运收纳容器2,循环行进搬运车12在多个基板收纳设备A的范围内循环行进,在多个基板收纳设备A之间搬运收纳容器2。
此外,如图2所示,堆装起重机10在基板收纳设备A内搬运收纳容器2,沿着以相互对置的状态设置的一对收纳架5之间形成的移动空间往复行进,在对置的一对收纳架5的多个收纳部4之间搬运收纳容器2。
即,在通过收纳容器搬运装置8从成为搬运源的收纳部4或基板输入输出部6向成为搬运目的地收纳部4或基板输入输出部6搬运收纳容器2的情况下,若搬运源和搬运目的地是不同的基板收纳设备A,则收纳容器2以搬运源的基板收纳设备A的堆装起重机10、往复行进搬运车11或循环行进搬运车12、搬运目的地的基板收纳设备的堆装起重机10的顺序依次交接而被搬运,若搬运源和搬运目的地是相同的基板收纳设备A,则通过该基板收纳设备A的堆装起重机10搬运收纳容器2。
如图4所示,在物品处理设备上,设置有向下流动式净化空气通风机构23,在清洁空间13中使净化空气从顶面部通入底面部,在该向下流动式的清洁空间13内,装备有前述多个基板处理装置3、前述收纳架5、前述基板搬运装置7、以及前述收纳容器搬运装置8,前述基板收纳设备A以周围敞开的状态被装备,可使净化空气向基板收纳设备A的内外进行空气流动。
若对净化空气通风机构23加以说明,则如图4所示,净化空气通风机构23中,清洁空间13的底面部由多孔状的分级床层14形成,清洁空间13的顶面部由HEPA薄膜等构成的空气过滤器15形成,并且,形成在分级床层14的下方侧的吸气室16和形成在空气过滤器15的上方侧的腔室17被具有通风风扇18及粗滤器21的循环通路19连通,借助通风风扇18使清洁空间13的空气通过分级床层14及吸气室16而被吸气到循环通路19中,并且该被吸气的空气通过粗滤器21、腔室17及空气过滤器15,作为净化空气朝下喷出到清洁空间13内,从而一边借助粗滤器21和空气过滤器15使清洁空间13内的空气清洁化一边使其循环,将净化空气从顶面部通入底面部。在循环通路19上,在上游侧通过通风风扇18而连接有外部气体取入流路20,在下游侧通过通风风扇18而连接有排气流路22,使被净化空气通风机构23循环的清洁空间13内的空气的一部分与外部空气进行交换。
如图6所示,在物品处理设备上,具有搬运区域用的净化空气通风机构25,使净化空气通风,从而维持被前述基板搬运装置7在前述基板输入输出部6和前述基板处理装置3之间搬运前述基板1的基板搬运区域24的清净度。
即,在处理工序设备B的基板搬运区域24中,设置有区划壁26,该区划壁26以收纳架5一侧的端部敞开且基板处理装置3一侧的端部与基板处理装置连通的方式覆盖基板搬运装置7的基板搬运作用空间,在该区划壁26的顶面部设置有作为搬运区域用的净化空气通风机构25的多个区域用风扇过滤单元27,借助多个区域用风扇过滤单元27,使令清洁空间13的净化空气进一步清净化后的净化空气从基板搬运区域24的顶面部通入底面部,从而使被区划壁26覆盖的空间成为向下流动的空间。
如图2~图4所示,前述收纳架5设置在分级床层14上,具备:在架横宽方向上隔开间隔而立设的前后一对的支柱31、和架设在前后一对的支柱31上而在架上下方向上隔开间隔设置的载置支承部32。
在收纳架5上,纵横排列而设置有多个由前后一对的支柱31和左右一对的载置支承部3 2形成的前述收纳部4。各收纳部4中,架横宽方向上相邻的收纳架4彼此及架上下方向上相邻的收纳架4彼此连通而能够进行空气流动。
此外,最下层的收纳部4从分级床层14向上方侧隔开间隔而设置,在该最下层的收纳部4的下方,形成有用于使净化空气流动的流动用空间。
前述收纳架5具有的多个收纳部4中的一部分为前述基板输入输出部6,此外,收纳架5具有的收纳部4中的一部分为前述入库出库部9。
若加以说明,则如图5所示,收纳架5具有的最下层的多个收纳部4中的与基板处理装置3对应的收纳部4为基板输入输出部6,可借助基板搬运装置7,相对于位于基板输入输出部6的收纳容器2,通过收纳架5的背面侧一张张取出基板1或一张张收纳基板1。最下层的收纳部如上所述,从分级床层14向上方侧隔开间隔而设置,所以基板输入输出部6设置在比底面部高的位置上。
此外,如图7所示,收纳架5具有的中层的多个收纳部4中的、与往复行进搬运车11及循环行进搬运车12对应的收纳部4为入库出库部9,与往复行进搬运车11对应的入库出库部9构成为,借助往复行进搬运车11通过收纳架5的背面侧将收纳容器2搬入搬出,并且,与循环行进搬运车12对应的入库出库部9构成为,借助循环行进搬运车1 2通过收纳架5的侧面侧将收纳容器2搬入搬出。
如图2、图3及图8所示,堆装起重机10具备:行进台车35,沿着在收纳架5的前方的行进路径上沿纵长方向设置的两根行进轨34行进;升降台37,被引导支承在立设在行进台车35上的一对升降杆36上而自由升降;叉式的物品移载装置38,支承在升降台37上,能在收纳和自己之间移载收纳容器2,通过行进台车35的水平移动、升降台37的升降移动、以及物品移载装置38的动作,前述收纳容器2沿架横宽方向在收纳架5的前方的移动空间中自由行进,并且被搬运到前述基板输入输出部6、前述入库出库部9、以及它们以外的前述收纳架5的前述收纳部4中。
在前述行进台车35上,设置有相对于两根行进轨34各前后两轮、共计四轮的行进车辆39,行进车轮39分别被行进用马达40驱动旋转,由此行进台车35沿着行进路径行进。
一对升降杆36其上端部彼此被上部框架41连结。
如图8所示,在前述升降台37的前后方向的两端部,分别连接有一对升降用链条45的一端部,该一对升降用链条45的一个卷挂在设置于升降杆36的上端部的引导链轮46上,另一端部与配重47连结,一对升降用链条45的另一个卷挂在设置于升降杆36的下端部的驱动链轮48上,另一端部与配重47连结,通过升降用马达49对驱动链轮48进行驱动使其旋转,由此使升降台37升降移动。
如图9所示,前述物品移载装置38由绕上下轴芯P1旋转自如的旋转台50、及支承设置在该旋转台50上的载置部51而使其进退移动自如的连杆机构52构成。物品移载装置38可通过旋转台50的旋转而使载置部51旋转移动,并且可通过连杆机构5 2的伸缩而切换为使物品移载装置38在升降台37上引退的状态(参照图5)和使物品移载装置38向收纳部4一侧突出的状态。另外,物品移载装置38相当于使支承的收纳容器2旋转的旋转机构。
如图3所示,在基板收纳设备A中,具有控制堆装起重机10的动作的控制机构H。
该控制机构H基于来自管理收纳容器搬运装置8的运转的上级控制装置的指令,控制行进用马达40、升降用马达49及物品移载装置38的动作,由此,控制堆装起重机10的动作,以便在多个收纳部4之间搬运收纳容器2。
前述控制机构H控制前述收纳容器搬运装置8的动作,在一对前述收纳架5的任一个中,以下述状态将前述收纳容器2收纳到前述收纳部4中,所述状态指:使前述收纳容器2的装备有前述风扇过滤单元64的一侧位于前述移动空间一侧、并使前述收纳容器2的前述输入输出口72一侧位于从前述移动空间远离的一侧的状态。风扇过滤单元64(也称为FFU)具有:被一个FFU用框体90支承的风扇、驱动该风扇的电气马达、过滤器、电池71、电池71、或向电气马达传递电气的受电部70a。该风扇绕水平方向的轴旋转。
即,控制机构H控制堆装起重机10的动作,在对置的一对收纳架5之间搬运收纳容器2时,在搬运源的收纳部4和搬运目的地的收纳部4是相同的收纳架5的情况下,从搬运源的收纳部4取出收纳容器2,不必借助物品移载装置38使该收纳容器2旋转,便收纳到搬运目的地的收纳部4中,由此,可与搬运源的收纳部4同样地在搬运目的地的收纳部4中,也以收纳容器2的装备有风扇过滤单元64的一侧位于移动空间一侧、且收纳容器2的前述输入输出口一侧、即装备有盖65的一侧位于从移动空间远离的一侧的状态,将收纳容器2收纳到收纳部4中,此外,在搬运源的收纳部4和搬运目的地的收纳部4为不同的收纳架5的情况下,从搬运源的收纳部4取出收纳容器2,在借助物品移载装置38使该收纳容器2旋转180度后收纳到搬运目的地的收纳部4中,由此,可与搬运源的收纳部4同样地在搬运目的地的收纳部4中,也以收纳容器2的装备有风扇过滤单元64的一侧位于移动空间一侧、且收纳容器2的装备有盖65的一侧位于从移动空间远离的一侧的状态,将收纳容器2收纳到收纳部4中。
如图5及图6所示,基板搬运装置7具有:在基板处理装置3和收纳架5附近之间载置搬运基板1的基板搬运输送机54、和在位于基板输入输出部6的收纳容器2和基板搬运输送机54的收纳架一侧端部之间载置搬运基板1的基板搬运机器人55。
基板搬运机器人55具有:沿架横宽方向在收纳架5的背面侧移动的移动台车56、支承在该移动台车56上而能升降且旋转自如的升降部57、经由连杆机构58连结在该升降部57上的叉状的支承部59,借助升降部57的升降及旋转和连杆机构58的伸缩,从位于基板输入输出部6的收纳容器2将基板1一张张搬运到基板搬运输送机54的收纳架一侧端部,并且将基板搬运输送机54的收纳架一侧端部的基板1一张张搬运到位于基板输入输出部6的收纳容器2中。
如图6所示,基板搬运输送机54通过旋转辊61支承基板1的横宽方向的两端部,通过驱动该旋转辊61旋转,来输送基板1,如图5所示,作为基板搬运输送机54,具有:将从基板搬运机器人55接受的基板1朝向基板处理装置3搬运的未处理用基板搬运输送机54、和将从基板处理装置3搬出的基板1朝向收纳架5一侧搬运的处理完用的基板搬运输送机54。
如图11及图12所示,前述收纳容器2形成为横向放倒姿势的四方筒状,该收纳容器2的一端侧的开口(第1开口)为用于令前述基板1输入输出的输入输出口72,从前述收纳容器2的另一端侧的开口(第2开口)朝向前述输入输出口72通风的风扇过滤单元64,装备在前述收纳容器2的另一端侧的开口部(即第二开口的区域),对前述收纳容器2的前述输入输出口72进行开闭的盖65以在关闭状态下一部分开口、且在打开状态下容许前述基板搬运装置7搬运前述基板1的状态,装备在前述收纳容器2的输入输出口部。
换言之,形成为横向放倒姿势的四方筒状的容器主体66的一端侧的开口构成为用于令前述基板1一张张输入输出的输入输出口72,从前述容器主体66的另一端侧的开口朝向前述输入输出口72通风的风扇过滤单元64装备在前述容器主体66的另一端侧的开口部,对前述容器主体66的前述输入输出口72进行开闭的盖65以在关闭状态下一部分为通气口75、且在打开状态下容许前述基板搬运装置7搬运前述基板1的状态,装备在前述容器主体66的输入输出口部上。
如图10所示,容器主体66是由下述框部件栅格状地框组装而形成的,所述框部件包括:形成为矩形而形成容器主体66的一端侧的开口的一端侧矩形框93、同样形成为矩形而形成容器主体66的另一端侧的开口的另一端侧矩形框94、在角部将一端侧框体和另一端侧框体相互连结的角框件95、在除了容器主体66的一端侧部外的另一端侧部、左右横侧部、上侧部及下侧部适当架设的连结框件96 ,在两横侧部,以堵塞形成在该两横侧部的开口的方式具有外面部件97和内面部件98,所述外面部件97与矩形框和框件在外面侧成为一个面,所述内面部件98与矩形框和框件在内面侧成为一个面,在上侧部及下侧部,以堵塞形成在该上侧部及下侧部的开口的方式具有前述内面部件98,从而形成为横向放倒姿势的四方筒状。
在一端侧矩形框93、另一端侧矩形框94及位于下侧的各框件95上,设置有在收纳到收纳架5的收纳部4中时被载置支承的收纳用支承部82,在一端侧矩形框93及另一端侧矩形框94上,设置有在通过堆装起重机10等收纳容器搬运装置8进行搬运时被载置支承的搬运用支承部83。
如图13及图17所示,在容器主体66上,横跨左右的两侧壁部而架设有支承体67。该支承体67为了支承一张基板1而在前后方向上设置有多个,并且,与收纳在收纳容器2中的基板1的张数对应而在上下方向上以设定间隔设置为多层。
如图13所示,支承体67分别由横跨容器主体66的左右的两侧壁部的连结框件96而架设的主体框架69、和在其上立设的多根销部件68构成。销部件68立设在主体框架69的设定位置上,以便在借助基板搬运机器人55将基板1从收纳容器2输入输出时不与基板搬运机器人55的支承部59发生干涉,通过利用该多根销部件68支承基板1,而在主体框架69和被其支承的基板1之间形成用于插通基板搬运机器人55的支承部59的间隙。
如图11所示,在容器主体66上,装备有三个风扇过滤单元64,这三个风扇过滤单元64,以沿横宽方向排列三个的状态安装在容器主体66的另一端侧的开口部上连结支承的FFU用框体90上。
在FFU用框体90上,具有非接触供电装置70的受电部70a,借助从非接触供电装置70的供电部70b(参照图2)供给的电力,而使三个风扇过滤单元64动作,所述非接触供电装置70的供电部70b在收纳部4中以被载置支承部32支承的状态而设置。
此外,在FFU用框体90上,还具有蓄积向受电部70a供给的电力的电池71,在通过堆装起重机10搬运收纳容器2时等、受电部70a从供电部70b远离而不向收纳容器2供给电力的状态下,借助蓄积在电池71中的电力,使三个风扇过滤单元64动作。
接着,对盖65进行说明。
如图16所示,前述盖65的前述通气口75在与前述输入输出口72的横宽大致相同的横宽范围内形成为狭缝状,并且以与保持在前述容器主体66中的多张前述基板1分别对应的状态在上下方向上形成有多个。
如图16(B)所示,前述盖65在容许前述基板1的输入输出的打开状态下,以与前述输入输出口72的横宽大致相同横宽的范围内的狭缝状的基板输入输出口76形成在与保持在前述容器主体66中的多张前述基板1对应的部位上的方式、且以关闭相邻的基板输入输出用口76之间的方式,打开前述输入输出口72。
若对前述盖65加以说明,则如图16所示,为了打开前述输入输出口72,而将多个与前述输入输出口72的横宽大致相同横宽的盖形成部件77,以在前述关闭状态下相邻的盖形成部件77之间形成前述通气口75、且在绕沿着前述输入输出口72的横宽方向的轴芯旋转后的前述打开状态下相邻的盖形成部件77之间开有前述基板输入输出用口76的方式,在上下方向上排列而构成。
多个盖形成部件77分别由横侧面观察时形成为中空薄板状的板状体构成,在其中心部以绕横轴芯旋转自如的方式支承在盖用框体78上。盖65如图16(A)所示,通过使多个盖形成部件77分别绕横轴芯旋转并成为顺沿于上下方向的姿势,而成为在盖形成部件77彼此之间的比较小的开口为通气口75的关闭状态,如图16(B)所示,通过使多个盖形成部件77分别绕横轴芯旋转并成为顺沿于前后方向的姿势,而成为在盖形成部件77彼此之间形成的比较大的开口为基板输入输出用口76的打开的状态。
即,如图16(A)及图17(A)所示,在盖65关闭的状态下,由于在多个盖形成部件77彼此之间开有通气口75,所以可通过风扇过滤单元64使净化空气从收纳容器2的另一端侧的开口通入输入输出口72,而从输入输出口72的通气口75排出,由于该通气口75因顺沿于上下方向(与通风方向交叉的方向)的姿势的多个盖形成部件77而形成得较小,所以从该通气口75排出的净化空气的风速变快,由此,可防止外部空气从收纳容器2的输入输出口72向收纳容器2内进入。
如图16(B)及图17(B)所示,在盖65为打开的状态下,由于多个盖形成部件77彼此之间开有比通气口75大的基板输入输出用口76,所以可从基板输入输出用口76将基板1与净化空气输入输出,由于从该基板输入输出用口76排出的净化空气因不是关闭状态但顺沿于前后方向(通风方向)姿势的多个盖形成部件77的存在,而使风通路变窄,风速变快,所以借此可防止外部空气从收纳容器2的输入输出口72进入到收纳容器2内。
此外,在多个盖形成部件77的相邻的盖形成部件彼此之间,如上所述,在关闭状态下形成通气孔75,在打开状态下形成基板输入输出用孔76,在盖65的打开状态及关闭状态、以及将盖65切换为这些状态时多个盖形成部件77彼此不接触,所以不会有因盖形成部件77彼此接触而引起的发尘可抑制从盖65的发尘的产生。
前述盖65被施力而回复到前述关闭状态一侧,以从前述容器主体66的底面部向下方突出的状态设置有通过向上方移动而将前述盖65操作为打开状态的作为操作部的连结杆80。
若加以说明,则如图16(A)所示,连杆部件79的基端部在顺沿于上下方向的姿势的盖形成部件77上以向后下方延伸设置的方式连结,以便能一体旋转,该连杆部件79各自的自由端部旋转自如地连结在顺沿于上下方向的姿势的前述连结杆80上,在盖形成部件77分别成为顺沿于上下方向的姿势的关闭状态下,通过使连结杆80上升移动,而使盖形成部件77分别为成为顺沿于前后方向的姿势的打开状态,此外,在盖形成部件77分别为成为顺沿于前后方向的姿势的打开状态下,通过使连结杆80下降移动,而使盖形成部件77分别为成为顺沿于上下方向的姿势的关闭状态。
连结杆80因自重而向下降侧被施力,在连结杆80从容器主体66的底面部向下方突出的状态下,盖65为关闭的状态,在该状态下,随着使收纳容器2载置在基板输入输出部6上,通过在基板输入输出部6的载置支承部32上具有的盖用突起部81上推连结杆80,由此,经由连杆部件79旋转操作盖形成部件77,使盖形成部件77分别成为顺沿于前后方向的姿势,而使盖65为打开状态。从基板输入输出部6提升收纳容器2,连结杆80因自重被下推,由此经由连杆部件79旋转操作盖形成部件77,盖形成部件77成为顺沿于上下方向的姿势,而使盖65成为关闭状态。另外,连结杆80的下降移动被未图示的限制部件限制为连结杆80的下端部从容器主体66的底面部向下方突出的状态。
基板输入输出部6的盖用突起部81那样的上推操作连结杆80的部分,没有设置在基板输入输出部6以外的收纳部4、以及堆装起重机10等收纳容器搬运装置8上,除了位于基板输入输出部6的情况外,连结杆80不会被上推操作,在通过基板输入输出部6以外的收纳部4收纳时或通过堆装起重机10等搬运时,收纳容器2的盖65维持关闭的状态。
即,在基板处理设备中,使用下述基板处理方法:在保管在收纳架5上时以及在通过前述收纳容器搬运装置8搬运时,令前述收纳容器2的前述盖65为关闭的状态,借助前述风扇过滤单元64的通风,来维持前述基板1的清净度,并且,在前述基板输入输出部6中借助前述基板搬运装置7搬运前述基板1时,令前述收纳容器2的前述盖65为打开状态,借助前述风扇过滤单元64进行通风,并借助前述搬运区域用的净化空气通风机构25维持前述基板搬运区域24的清净度,从而维持前述基板1的清净度。
收纳容器2具有控制部109,控制三个风扇过滤单元64的动作,以便在令盖65为打开状态时,增大三个风扇过滤单元64的通风量。
即,如图11及图18所示,在FFU用框体90上,具备:可升降移动的检测片107,随着将收纳容器2载置在基板输入输出部6上而被基板输入输出部6的载置支承部32上具有的FFU用突起部106上推而上升移动,并且由于收纳容器2从基板输入输出部6提升而因自重下降移动;检测开关108,由检测检测片107的升降移动并将其检测信息朝向前述控制部109发送的限位开关构成;和前述控制部109,基于检测开关108的检测信息控制风扇过滤单元64的动作;控制部109基于检测开关108的检测信息控制风扇过滤单元64的动作,在检测片107为上升移动了的状态下,增大风扇过滤单元64的通风量,在检测片107下降移动了的状态下,减少风扇过滤单元64的通风量。
FFU用突起部106与盖用突起部81同样,不设置在基板输入输出部6以外的收纳部4、以及堆装起重机10等收纳容器搬运装置8上。
因此,在使收纳容器2位于基板输入输出部6而令盖65为打开的状态下,增大风扇过滤单元64的通风量,在使收纳容器2位于基板输入输出部6以外的位置而令盖65为关闭的状态下,减少风扇过滤单元64的通风量。
优选地,在盖65切换为打开状态前的时刻,增大风扇过滤单元64的通风量,在盖切换为关闭状态后的时刻,减少风扇过滤单元的通风量,来防止盖65切换为打开状态时和切换为关闭状态时因盖65产生的尘埃污染收纳容器2内的基板1,这样的盖65向打开状态或关闭状态的切换、和风扇过滤单元64的通风量的增减的关系,可通过调节盖用突起部80及FFU用突起部106的高度而调节。
如图11所示,前述风扇过滤单元64及前述盖65拆卸自如地安装在前述容器主体66上,可从收纳容器2上拆下风扇过滤单元64和盖65而容易地对收纳容器2进行清洗。
即,如图14所示,在盖用框体78的上端部,设置有从上方与容器主体66的一端侧矩形框93的上部卡合的盖用卡合部件99,此外,在一端侧矩形框93的下端部,设置有盖用卡合支承板100,在载置支承盖用框体78的状态下,与形成在盖用框体78的下端部的被卡合槽78卡合,通过相对于一端侧矩形框93的上部卡合脱离盖用卡合部件99、并相对于盖用框体78的被卡合槽78a卡合脱离盖用卡合支承板100,可相对于容器主体66装拆盖65。
此外,如图15所示,在FFU用框体90的上端部,设置有从上方与容器主体66的另一端侧矩形框94的上部卡合的FFU用卡合部件88,此外,在另一端侧矩形框94的下端部,设置有在载置支承FFU用框体90的状态下、与形成在FFU用框体90的下端部的被卡合槽90a卡合的FFU用卡合支承板89,通过相对于另一端侧矩形框94的上部卡合脱离FFU用卡合部件88、并相对于FFU用框体90的被卡合槽90a卡合脱离FFU用卡合支承板89,可相对于容器主体66与供电部70b和电池71一起装拆风扇过滤单元64。
如图2所示,收纳架5具有的最下层的多个收纳部4中的一部分,为可通过收纳架5的背面侧而借助手推台车85将收纳容器2输入输出的手推台车用的入库出库部9,在借助手推台车85从手推台车用的入库出库部9取出收纳容器2后,从收纳容器2上拆下风扇过滤单元64和盖65,可利用容器清洗装置86清洗容器主体2。在手推台车用的入库出库部9的背面侧,设置有关闭该入库出库部9的背面侧的闸门84,前述控制机构H控制堆装起重机10的动作,在闸门84打开操作的状态下,不进行借助堆装起重机10将收纳容器2向手推台车用的入库出库部9搬运的动作。
[其他实施方式]
(1)在上述实施方式中,在基板输入输出部6中由基板搬运装置7搬运基板1时,增大收纳容器2的风扇过滤单元64的通风量,但也可在基板输入输出部6中由基板搬运装置7搬运基板1时,不增大风扇过滤单元64的通风量。
即,也可在保管于收纳架5时、在由收纳容器搬运装置8搬运时、以及在基板输入输出部6中由基板搬运装置7搬运基板1时,维持收纳容器2的风扇过滤单元64的通风量一定。
此外,也可在由收纳容器搬运装置8搬运时,比保管于收纳架5时,增大收纳容器2的风扇过滤单元64的通风量,在基板输入输出部6中由基板搬运装置7搬运基板时,比由收纳容器搬运装置8搬运时,增大风扇过滤单元64的通风量,从而在保管于收纳架5时、在由收纳容器搬运装置8搬运时、在基板输入输出部6中由基板搬运装置7搬运基板时,改变收纳容器2的风扇过滤单元64的通风量。即,也可在由收纳容器搬运装置8搬运时,增大收纳容器2的风扇过滤单元64的通风量。也可使由收纳容器搬运装置8搬运时的通风量与在基板输入输出部6中由基板搬运装置7搬运基板时相同,此外,也可使由收纳容器搬运装置8搬运时的通风量比在基板输入输出部6中由基板搬运装置7搬运基板时多。
(2)在上述实施方式中,收纳架5具有的多个收纳部4中的一部分为基板输入输出部6,但也可在收纳架5的纵长方向的一侧方另外设置基板输入输出部6,而将基板输入输出部6设置在与收纳部4不同的部位。
此外,收纳架5具有的多个收纳部4中的一部分为入库出库部9,但也可在收纳架5的纵长方向的一侧方另外设置入库出库部9,而将入库出库部9设置在与收纳部4不同的部位上。
(3)在上述实施方式中,作为收纳容器搬运装置8,而设置有与收纳架5对应而装备的收纳架用的收纳容器搬运部10、在多个收纳架5各自的多个入库出库部9之间搬运收纳容器2的架间用的收纳容器搬运部11、12,但作为收纳容器搬运装置8,也可只设置与收纳架5对应而装备的收纳架用的收纳容器搬运部10。
此外,在上述实施方式中,相对于对置的一对收纳架5设置一台作为收纳架用的收纳容器搬运部的堆装起重机10,但也可相对于对置的一对收纳架5设置多台堆装起重机10。
(4)在上述实施方式中,具备净化空气通风机构23,而将装备有多个基板处理装置3、收纳架5、基板搬运装置7、以及收纳容器搬运装置8的空间设为将净化空气从顶面部通入底面部的向下流动的清洁空间,但也可不具备净化空气通风机构23,而不将装备有多个基板处理装置3、收纳架5、基板搬运装置7、以及收纳容器搬运装置8的空间设为清洁空间。
(5)在上述实施方式中,将基板输入输出部6设置在比底面部高的位置上,但在堆装起重机10行进于低于底面部的部位的情况等下,也可将基板输入输出部6设置在与底面部相同的高度位置上或比底面部低的位置上。
此外,在上述实施方式中,将收纳架5设置在清洁空间13的底面部(分级床层14)上,但也可设置在低于底面部的吸气室16的底部上。
(6)在上述实施方式中,由空气过滤器形成清洁空间13的顶面部,但也可由顶面部用的风扇过滤单元形成清洁空间13的顶面部。
(7)在上述实施方式中,将容器主体66的两横侧部设为具有外面部件98和内面部件99的双层构造,但也可只具有内面部件,而上侧部或下侧部相同为一层构造。
(8)在上述实施方式中,连杆部件79的基端部在顺沿于上下方向的姿势的盖形成部件77上以向后下方延伸设置的方式连结,以便能一体旋转,连杆部件79各自的自由端部旋转自如地连结的连结杆80位于比盖形成部件77的旋转轴芯靠后方侧(容器主体一侧)的位置上,但也可使连杆部件79的基端部在顺沿于上下方向的姿势的盖形成部件77上以向前下方延伸设置的方式连结,以便能一体旋转,连杆部件79各自的自由端部旋转自如地连结的连结杆80位于比盖形成部件77的旋转轴芯靠前方侧(与容器主体存在的一侧相反的一侧)的位置上。
(9)在上述实施方式中,通过在基板输入输出部6中借助收纳容器搬运装置8使收纳容器2上下移动,操作操作部80而将盖65切换为打开的状态和关闭的状态,但也可通过在盖65上具备操作操作部80的电动马达等驱动机构,由驱动机构操作操作部80,而将盖65切换为打开状态和关闭状态。
(10)在上述实施方式中,一体旋转操作所有多个盖形成部件77,但也可单独或以多个为一组对多个盖形成部件77进行旋转操作,在盖65打开的状态下,将一部分盖形成部件77设为顺沿于前后方向的姿势,将剩余的盖形成部件77设为顺沿于上下方向的姿势,在盖65打开的状态下,也令顺沿于上下方向的姿势的盖形成部件77存在,可进一步增加排出的净化空气的风速。
即,在以多个为一组旋转操作多个盖形成部件77的情况下,也可构成为,在多个盖形成部件77的上半部分的盖形成部件77上,在横宽方向一方侧端部经由连杆部件79而连结一方侧的连结杆80,在多个盖形成部件77的下半部分的盖形成部件77上,在横宽方向另一方侧端部经由连杆部件79连结另一方侧的连结杆80,通过操作一方侧的连结杆80,而将上半部分的盖形成部件77设为顺沿于前后方向的姿势,在收纳容器2的上半部分进行基板1的输入输出,通过操作另一方侧的连结杆80,将下半部分的盖形成部件77设为顺沿于前后方向的姿势,在收纳容器2的下半部分进行基板1的输入输出。
(11)在上述实施方式中,基于FFU用突起部106引起的检测片107的升降移动而改变风扇过滤单元64的通风量,但也可基于盖用突起部81引起的连结杆80的升降移动而改变风扇过滤单元64的通风量。
即,也可构成为,在盖用框体78上,具有检测连结杆80的升降移动而朝向控制部109发送其检测信号的检测机构,控制机构109基于检测机构的检测信息,控制风扇过滤单元64的动作,以便在处于盖65打开的状态即连结杆80上升移动了的状态下,使风扇过滤单元64的通风量增大,在处于盖65关闭的状态即连结杆80下降移动了的状态下,使风扇过滤单元64的通风量减少。
从检测机构向控制部109的检测信息的发送,可在容器主体66上设置可分离地与盖用框体78一侧及FFU用框体90一侧连接的缆线而通过有线进行,此外,也可在盖用框体78上设置发送机,并在FFU用框体90上设置接收机而通过无线来进行。
Claims (7)
1.一种基板处理方法,用于基板处理设施,前述基板处理设施包括:
多个基板处理装置,用于处理基板;
收纳容器,将前述基板以在上下方向上隔开间隔地排列的状态保持多张,前述收纳容器形成为整体具有四边形的截面的筒状,即具有其一端侧的第1开口、和在水平方向上与前述第1开口隔开间隔的另一端侧设置的第2开口,前述第1开口构成为用于输入输出前述基板的输入输出口,这里,前述收纳容器具有装备在前述收纳容器的前述第2开口的区域而从前述第2开口朝向前述第1开口通风的风扇过滤单元,进而在前述收纳容器的输入输出口部装备有对前述收纳容器的前述输入输出口进行开闭的盖,在关闭状态下一部分设为开口,且在打开状态下容许前述基板搬运装置搬运前述基板;
收纳架,具有收纳前述收纳容器的多个收纳部;
基板输入输出部,分别与多个前述基板处理装置对应;
基板搬运装置,从位于前述基板输入输出部的前述收纳容器向前述基板处理装置供给基板,并将从前述基板处理装置搬出的基板收纳到位于前述基板输入输出部的前述收纳容器中;以及
收纳容器搬运装置,将前述收纳容器搬运到前述多个基板处理装置各自的前述基板输入输出部和前述收纳架的前述收纳部;
通过将前述收纳容器保管到前述收纳架上,并将保管的前述收纳容器依次搬运到前述多个基板处理装置的前述基板输入输出部,而利用多个前述基板处理装置依次处理前述基板,来制造处理完的基板,前述基板处理方法包括以下步骤:
在保管在前述收纳架时以及由前述收纳容器搬运装置搬运时,将前述收纳容器的前述盖设为关闭状态,利用前述风扇过滤单元进行通风;并且
在前述基板输入输出部中由前述基板搬运装置搬运前述基板时,将前述收纳容器的前述盖设为打开状态,利用前述风扇过滤单元进行通风。
2.如权利要求1所述的基板处理方法,其特征在于,
具有搬运区域用的净化空气通风机构,将净化空气通入由前述基板搬运装置在前述基板输入输出部和前述基板处理装置之间搬运前述基板的基板搬运区域中,前述方法包括下述步骤:
至少在前述基板输入输出部中由前述基板搬运装置搬运前述基板时,使前述基板搬运区域用的净化空气通风机构动作。
3.如权利要求1或2所述的基板处理方法,其特征在于,
还包括下述步骤:在前述盖为打开状态时,增大前述风扇过滤单元的通风量。
4.如权利要求1或2所述的基板处理方法,其特征在于,
前述收纳架以与多个前述基板处理装置对应的状态设置有多个,这些收纳架具有的多个收纳部中的一部分为前述基板输入输出部,
作为前述收纳容器搬运装置,设置有与前述收纳架对应而装备的收纳架用的收纳容器搬运部、和在多个前述收纳架各自的多个入库出库部之间搬运前述收纳容器的架间用的收纳容器搬运部。
5.如权利要求1或2所述的基板处理方法,其特征在于,
在将净化空气从顶面部通入底面部的向下流动的清洁空间内,装备有前述多个基板处理装置、前述收纳架、前述基板搬运装置。以及前述收纳容器搬运装置,
前述基板输入输出部设置在高于前述底面部的位置上。
6.如权利要求1或2所述的基板处理方法,其特征在于,
前述风扇过滤单元具有被框体支承的风扇、过滤器、和受电部。
7.如权利要求6所述的基板处理方法,其特征在于,
前述风扇过滤单元具有向前述风扇供电的电池。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006248171 | 2006-09-13 | ||
JP2006-248171 | 2006-09-13 | ||
JP2006248171A JP4756372B2 (ja) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | 基板処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101145504A true CN101145504A (zh) | 2008-03-19 |
CN101145504B CN101145504B (zh) | 2010-09-29 |
Family
ID=39207925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2007101489585A Active CN101145504B (zh) | 2006-09-13 | 2007-09-12 | 基板处理方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7955044B2 (zh) |
JP (1) | JP4756372B2 (zh) |
KR (1) | KR101097734B1 (zh) |
CN (1) | CN101145504B (zh) |
TW (1) | TWI381982B (zh) |
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KR20080024973A (ko) | 2008-03-19 |
TW200817255A (en) | 2008-04-16 |
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JP2008068963A (ja) | 2008-03-27 |
CN101145504B (zh) | 2010-09-29 |
TWI381982B (zh) | 2013-01-11 |
US7955044B2 (en) | 2011-06-07 |
US20080089765A1 (en) | 2008-04-17 |
JP4756372B2 (ja) | 2011-08-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |