JP2001060610A - 基板搬送装置、処理装置、基板の処理システム、搬送方法、収納装置および収容ボックス - Google Patents

基板搬送装置、処理装置、基板の処理システム、搬送方法、収納装置および収容ボックス

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JP2001060610A
JP2001060610A JP2000156769A JP2000156769A JP2001060610A JP 2001060610 A JP2001060610 A JP 2001060610A JP 2000156769 A JP2000156769 A JP 2000156769A JP 2000156769 A JP2000156769 A JP 2000156769A JP 2001060610 A JP2001060610 A JP 2001060610A
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Yoshiharu Ota
義治 太田
Kiyohisa Tateyama
清久 立山
Shinichiro Araki
真一郎 荒木
Tatsuya Iwasaki
達也 岩崎
Noriyuki Anai
徳行 穴井
Haruo Iwazu
春生 岩津
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Tokyo Electron Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 クリーン化の必要のある空間をできるだけ小
さくする。 【解決手段】 箱形に形成された収容ボックス５０の内
部に処理対象となるガラス基板を支持していると共に、
送風ファン４９により基板出し入れ口５１の形成面に対
向する面側から該基板出し入れ口５１を通じて外部に流
れる気流を形成している。このため、基板出し入れ口５
１が常時開口していても、収容ボックス５０外に浮遊す
るパーティクルが収容ボックス内に侵入することがな
い。従って、ガラス基板の搬送エリアをクリーン環境に
する必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを大幅
に削減できる。また、基板出し入れ口５１が常時開口し
ていて、該基板出し入れ口５１を開閉する開閉機構が設
けられていないため、基板の受け渡しを迅速に行うこと
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶ディス
プレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）に使われる
ガラス基板等の被処理基板上に塗布・現像処理を施す塗
布・現像装置等の処理装置に対して、被処理基板を搬入
出するために用いられる基板搬送装置および基板の搬送
方法に関する。また、本発明は、かかる基板搬送装置と
の間で基板の受け渡しを行うのに適する機構を備えた処
理装置に関する。さらに、本発明は、かかる基板搬送装
置と処理装置とを備えた基板の処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤの製造工程においては、ＬＣＤ用
のガラス基板上にＩＴＯ（Indium TinOxide）の薄膜や
電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造
に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利
用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジス
トを洗浄した基板に塗布し、これを露光し、さらに現像
する。
【０００３】被処理基板であるガラス基板は、基板搬送
装置に保持されて搬送路上を移動し、種々の処理装置に
搬入され、各処理装置で処理された後搬出されて再び基
板搬送装置により次工程に搬送される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記したような製造工
程においては、基板に塵芥（パーティクル）が付着した
りしないような環境下で行う必要があり、通常は、上記
した各種の処理装置をクリーンルーム内に設置したり、
装置内外の基板搬送エリアにＨＥＰＡフィルタを設け、
低パーティクル環境を形成している。
【０００５】しかしながら、上記した手段では、クリー
ンルーム全体若しくは基板搬送エリア全体といった広範
囲をクリーン環境にする必要があるため、そのコストが
高くつくという問題があった。特に、生産効率を上げる
ため、塗布・現像装置だけでなく、他の処理装置、例え
ば、ＣＶＤ装置、エッチャー、アッシャー等も含めて１
ライン化するシステムが考えられているが、クリーン環
境を形成する範囲が更に広範囲となり、そのためのコス
トが更に高くなるおそれがある。
【０００６】本発明の目的は、クリーン化の必要のある
空間をできるだけ小さくすることができる基板搬送装
置、処理装置、基板の処理システムおよび基板の搬送方
法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明者が鋭意検討した結果、まず、処理対象であ
る基板を外部空間と隔絶できるボックス内に収容するこ
とに着目した。しかしながら、かかる場合には、基板の
出し入れの際に、基板出し入れ口を開口する必要がある
が、その際に外部パーティクルが基板に付着しないよう
な複雑な構造の開閉機構を設ける必要がある。また、基
板の出し入れの度にこの開閉機構の開閉操作が必要で制
御も複雑となる。このため、基板をボックス内に収容す
る一方で、基板出し入れ口を常時開口させた状態でも外
部パーティクルがボックス内に侵入しない手段を検討
し、本発明を完成するに至った。
【０００８】すなわち、本発明の基板搬送装置は、搬送
路に沿って移動可能な搬送方向移動体と、前記搬送方向
移動体に対し、水平方向に回転可能な回転軸を介して支
持され、各処理装置の搬入出口に対峙した姿勢において
該搬入出口に離接する方向に移動可能であり、かつ、内
部に処理対象となる基板を支持する基板支持部と、基板
の出し入れを行うため、常時開口している基板出し入れ
口と、内部を陽圧に保つための圧力制御機構とを備えた
箱形の収容ボックスを支持可能である離接方向移動体と
を具備することを特徴とする。
【０００９】請求項１記載の本発明の基板搬送装置で
は、箱形に形成された収容ボックスの内部に処理対象と
なる基板を支持していると共に、圧力制御機構により該
収容ボックス内部が陽圧に保たれている。このため、基
板出し入れ口が常時開口していても、収容ボックス外に
浮遊するパーティクルが収容ボックス内に侵入すること
がない。従って、基板の搬送エリアをクリーン環境にす
る必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを大幅に
削減できる。また、基板出し入れ口が常時開口してい
て、該基板出し入れ口を開閉する開閉機構が設けられて
いないため、基板の受け渡しを迅速に行うことができ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。まず、図１に基づき本発明の基板の
処理システムの一例としての塗布・現像処理システムの
全体構造について説明する。
【００１１】図１に示すように、この塗布・現像処理シ
ステム１の前方には、ガラス基板Ｇを収容した収容ボッ
クス５０（図２参照）を、塗布・現像処理システム１に
対して搬入出するローダ・アンローダ部が設けられてい
る。このローダ・アンローダ部には、収容ボックス５０
を複数収納したカセットＣを所定位置に整列させて載置
させるカセット載置台３と、各カセットＣから処理すべ
きガラス基板Ｇを収容した収容ボックス５０を取り出
し、また塗布・現像処理システム１において処理の終了
したガラス基板Ｇを収容した収容ボックス５０を各カセ
ットＣへ戻すローダ・アンローダ４が設けられている。
ローダ・アンローダ４は、本体５の走行によってカセッ
トＣの配列方向に移動し、本体５に搭載された板状体６
上に収容ボックス５０を載置して後述の基板搬送装置４
０に該収容ボックス５０を受け渡すものである。
【００１２】より具体的には、図２に示したように、後
述する本実施の形態にかかる基板搬送装置４０がガラス
基板Ｇそのものではなく、ガラス基板Ｇを収容した収容
ボックス５０を搬送する構造で、該基板搬送装置４０に
設けられる離接方向移動体４５の一対のアーム４７，４
８により、収容ボックス５０の底面の両側縁付近を支持
する構造である。従って、基板搬送装置４０がローダ・
アンローダ４から収容ボックス５０を受け取る際には、
一対のアーム４７，４８により、収容ボックス５０の底
面の両側縁付近を支持し易くする必要がある。このた
め、本実施の形態で用いるローダ・アンローダ４は、収
容ボックス５０よりも幅の狭い前後動作可能な板状体６
を有し、この板状体６上に収容ボックス５０を載置する
構造のものを使用している。なお、符号５ａはこの板状
体６を前後動可能に支持する支持板、５ｂは該支持板５
ａを回転可能に支持する回転軸、５ｃは任意のカセット
Ｃにアクセスできるように移動可能であると共に、回転
軸５ｂを上下動可能に支持する移動体であり、この支持
板５ａ、回転軸５ｂおよび移動体５ｃにより本体５が構
成されている。
【００１３】塗布・現像処理システム１の中央部には、
長手方向に配置された廊下状の搬送路１０，１１が受け
渡し部１２を介して一直線上に設けられており、この搬
送路１０，１１の両側には、ガラス基板Ｇに対して各処
理を行うための各種処理装置が配置されている。
【００１４】図示の塗布・現像処理システム１にあって
は、搬送路１０の一側方に、ガラス基板Ｇをブラシ洗浄
すると共に高圧ジェット水により洗浄を施すための洗浄
装置１６が例えば２台並設されている。また、搬送路１
０を挟んで反対側に、二基の現像装置１７が並設され、
その隣りに二基の加熱装置１８が積み重ねて設けられて
いる。
【００１５】また、搬送路１１の一側方に、ガラス基板
Ｇにレジスト液を塗布する前にガラス基板Ｇを疎水処理
するアドヒージョン装置２０が設けられ、このアドヒー
ジョン装置２０の下方には冷却用のクーリング装置２１
が配置されている。また、これらアドヒージョン装置２
０とクーリング装置２１の隣には加熱装置２２が二列に
二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路１１
を挟んで反対側に、ガラス基板Ｇの表面にレジスト液を
塗布することによってガラス基板Ｇの表面にレジスト膜
を形成するレジスト塗布装置２３が配置されている。図
示はしないが、これら塗布装置２３の側部には、ガラス
基板Ｇ上に形成されたレジスト膜に所定の微細パターン
を露光するための露光装置等が設けられる。
【００１６】以上の各処理装置１６〜１８および２０〜
２３は、何れも搬送路１０，１１の両側において、ガラ
ス基板Ｇの搬入出口を内側に向けて配設されている。第
１の搬送装置２５がローダ・アンローダ部、各処理装置
１６〜１８および受け渡し部１２との間でガラス基板Ｇ
を収容ボックス５０に収容した状態で搬送するために搬
送路１０上を移動し、第２の搬送装置２６が受け渡し部
１２および各処理装置２０〜２３との間で、同様にガラ
ス基板Ｇを収容ボックス５０に収容した状態で搬送する
ために搬送路１１上を移動するようになっている。
【００１７】次に、上記した第１の搬送装置２５および
第２の搬送装置２６として採用される本実施の形態の基
板搬送装置４０の具体的な構造を説明する。図３はこの
基板搬送装置４０の構成を示した斜視図であり、図４は
その側面図である。
【００１８】基板搬送装置４０は、搬送路１０，１１に
沿って設けられたレール３５上をＹ方向（搬送方向）に
沿って移動可能な搬送方向移動体４１を有している。こ
の搬送方向移動体４１は、本実施の形態ではレール３５
を跨ぐように設けられ、内部に配設された図示しない駆
動モータの駆動により移動する。この搬送方向移動体４
１の上部には、モータ４２が設けられ、このモータ４２
によりθ方向（水平方向）に回転可能になっている回転
軸４３が設けられている。この回転軸４３は、さらに搬
送方向移動体４１内に配設された昇降部（図示せず）に
より上下方向（Ｚ方向）に動作するよう設けられてい
る。
【００１９】回転軸４３の上部には、支持板４４が取り
付けられており、この支持板４４上にＸ方向（図４に示
したように、処理装置６０に対峙した際に当該処理装置
６０に離接する方向）に移動可能であると共に、異なる
高さで２つの離接方向移動体４５，４５が配設されてい
る。この２つの離接方向移動体４５，４５は、いずれも
基台部４６と、この基台部４６の前方に設けられた一対
のアーム４７，４８とを有している。基台部４６内に
は、該基台部４６を前後動させるための駆動部材（図示
せず）が配設されており、これにより、支持板４４に設
けられたガイド部４４ａに沿ってＸ方向（離接方向）に
移動する。
【００２０】また、各基台部４６は、いずれも送風機構
としての送風ファン４９に接続されており、該基台部４
６の前面には吹き出し口４９ａが設けられている。送風
ファン４９を起動することにより、後述の収容ボックス
５０の後方から風を送り込み、収容ボックス５０の前面
に形成した基板出し入れ口５１を通じて外部に抜ける気
流を形成することができる。従って、基板出し入れ口５
１を通じて外部のパーティクルが収容ボックス５０内に
入り込むことはできなくなる。また、収容ボックス５０
内に常に風を送り込むということは、収容ボックス５０
内を陽圧に保つということであり、本実施の形態の送風
ファン４９は、収容ボックス５０内の圧力を制御する圧
力制御機構としても機能している。
【００２１】各アーム４７，４８は、それぞれ断面略Ｌ
字状の部材から構成されており、互いに所定間隔をおい
て、かついずれも側板部４７ａ，４８ａが外側となるよ
うに対称に設けられている。なお、各アーム４７，４８
の対向間隔は、底板部４７ｂ，４８ｂ上に、後述する収
容ボックス５０を保持できる程度に設定される。
【００２２】収容ボックス５０は箱形に形成されてい
る。本実施の形態では、図５に示したように略直方体状
に形成されているが、ガラス基板Ｇを収容できる大きさ
で、外部空間と仕切る壁部を有する構造であればこれに
限定されるものではない。収容対象となる基板が、本実
施の形態のようにＬＣＤ用のガラス基板Ｇの場合には、
該ガラス基板Ｇが四角形であるため、それに合わせて角
形に形成されるが、収容対象となる基板の形状等を考慮
して他の形状を採用することももちろん可能である。
【００２３】収容ボックス５０は、図５および図６に示
したように、前面に常時開放している基板出し入れ口５
１を有し、その内部には、底壁部５２から所定の間隔を
おいた位置に、各側壁部５３，５３から内方に突出する
突条部からなる基板支持部５４，５４が設けられている
（図６および図９参照）。もちろん、この基板支持部５
４，５４は、その上面によりガラス基板Ｇの各側端付近
を支持できればよく、側壁部５３，５３の奥行き方向の
全てに亘って設けられていることは必ずしも必要ではな
い。また、側壁部５３，５３から突出させるのではな
く、底壁部５２の両側部付近に上方に向かって突出する
ように設けた突条部であってもよい。
【００２４】また、収容ボックス５０の背面には、上記
した送風ファン４９による送風を該収容ボックス５０の
内部に取り入れるための送風取り入れ口５５が設けられ
ている。この送風取り入れ口５５は、送風ファン４９と
連通可能である限り、その形成位置が限定されるもので
はないが、基板出し入れ口５１と対向した位置に形成す
ると、気流があまり乱れることなく円滑に排出されるの
で、本実施の形態では収容ボックス５０の背面に形成し
た。
【００２５】また、この送風取り入れ口５５には交換可
能なカートリッジ式のフィルタ（例えば、ＵＬＰＡフィ
ルタ）５６を設けている。すなわち、離接方向移動体４
５に収容ボックス５０を支持させたときに、図７に示し
たように、基台部４６の前方に該フィルタ５６が位置す
るように設けられる。これにより、送風ファン４９を駆
動することで、送風取り入れ口５５を通じて収容ボック
ス５０内に侵入するパーティクルが捕捉される。
【００２６】次に、上記した基板搬送装置４０を用いて
ガラス基板Ｇを搬入出できる処理装置について説明す
る。すなわち、上記した基板搬送装置４０では、離接方
向移動体４５がＸ方向に移動しても、収容ボックス５０
内に収容されたガラス基板Ｇは、該収容ボックス５０と
共に移動し、ガラス基板ＧのみがＸ方向に移動するとい
うことができない。従って、通常の処理装置のように、
ガラス基板Ｇの搬入出口を開閉するシャッタ内に、例え
ば熱処理装置における熱板等の処理部が設けられている
だけでは、上記した基板搬送装置４０を使用して当該処
理部上に直接ガラス基板Ｇを受け渡すことができない。
そこで、次のような処理装置を用いる必要がある。
【００２７】図９に示した処理装置６０は、該処理装置
６０の搬入出口６０ａと処理部６２との間に載置台６５
と中継用搬送機構７０が設けられた構成である。載置台
６５は、該処理装置６０内において搬入出口６０ａの直
ぐ後段に設置されており、収容ボックス５０をそのまま
載置できる大きさを有している。搬入出口６０ａ付近に
おいて収容ボックス５０との間で直接ガラス基板Ｇの受
け渡しを行う場合には、収容ボックス５０を搬入出口６
０ａに対してできるだけ隙間なく接合させた状態で行わ
ないと、ガラス基板Ｇが収容ボックス５０外に出た時点
で、パーティクルが付着する可能性があるが、本実施の
形態では、収容ボックス５０ごと処理装置６０内に受け
渡すことにより、受け渡し時におけるガラス基板Ｇへの
パーティクルの付着を容易に防ぐものである。但し、処
理装置６０内に収容ボックス５０を搬入できるようにす
るため、搬入出口６０ａは、この収容ボックス５０に合
わせた大きさにする必要がある。
【００２８】載置台６５は１段でもよいが、複数段、例
えば２段にしてもよい。上記した基板搬送装置４０のよ
うに、収容ボックス５０を２つ保持できるものを採用し
ても、載置台６５が１段の場合には、該収容ボックス５
０を交互に受け渡す必要があるが、２段の場合には、２
つの収容ボックス５０を一度で受け渡すことができる。
この場合、２つの収容ボックス５０に対し、共にガラス
基板Ｇを収容して受け渡しを行うこともできるし、一
方、例えば、上段の収容ボックス５０にはガラス基板Ｇ
を収容しないようにして受け渡すこともできる。後者の
場合には、後述の中継用搬送機構７０により、処理部６
２において処理済みのガラス基板Ｇを上段の収容ボック
ス５０に収容し、下段の収容ボックス５０から次に処理
するガラス基板Ｇを受け取って処理部６２に受け渡す等
の処理手順を採ることが可能となる。
【００２９】また、この載置台６５は、図８および図９
に示したように、回転軸６６により回転可能に設けられ
ており、基板搬送装置４０との間で収容ボックス５０の
受け渡しを行う際の向きと、中継用搬送装置７０との間
でガラス基板Ｇの受け渡しを行う際の向きを調整するこ
とができる。なお、図８に示した符号６７は、２つの載
置台６５間の間隔を保持し連結する連結フレームであ
る。
【００３０】中継用搬送機構７０は、処理装置６０内に
おいて上記した載置台６５と処理部６２との間に敷設さ
れたレール７５上を移動可能な移動体７１と、この移動
体７１に設けられ水平方向に回転可能であると共に、上
下動可能な回転軸７２と、この回転軸７２上に設けられ
た支持板７３と、支持板７３に沿ってその前後方向に移
動可能に設けられたピンセット状の受け渡し部材７４と
を有して構成される。
【００３１】すなわち、載置台６５上に収容ボックス５
０が載置されたならば、中継用搬送機構７０を処理装置
６０内において載置台６５に接近させ、あるいは、予め
この位置に待機させておき、次に、受け渡し部材７４を
支持板７３に沿って前進させ、収容ボックス５０の基板
出し入れ口５１から挿入する。そして、回転軸７２を上
昇させ、収容ボックス５０の基板支持部５４，５４から
ガラス基板Ｇをすくい上げた後、受け渡し部材７４を後
退させて、収容装置６０内で、受け渡し部材７４の前端
が処理部と対峙するように回転軸７２を回転させ、移動
体７１により処理部に接近し、再び、受け渡し部材７４
を前進させて処理部６２を構成するスピンチャック等に
受け渡す機構である。
【００３２】なお、この中継用搬送機構７０としては、
受け渡し部材７４が異なる高さで二段で設けられている
ものを用いることができる。この場合には、一方の受け
渡し部材７４を、収容ボックス５０から処理部に受け渡
す未処理のガラス基板Ｇを載置する専用の部材として使
用し、他方の受け渡し部材７４を逆に処理部から収容ボ
ックス５０へと、処理済みのガラス基板Ｇを載置する専
用の部材として使用することができる。これにより、例
えば、加熱装置においては、未処理の低温の基板と処理
済みの高温の基板をそれぞれ専用の受け渡し部材で保持
できるため、一つの受け渡し部材でいずれの受け渡しも
行う場合と比較して、受け渡し部材に蓄熱された熱等に
よるガラス基板Ｇへの悪影響を小さくすることができ
る。
【００３３】次に、本実施の形態にかかる基板搬送装置
４０および処理装置６０の作用を説明する。まず、搬送
方向移動体４１の駆動により基板搬送装置４０が搬送路
１０に沿って移動し、ローダ・アンローダ４に接近し、
該ローダ・アンローダ４に保持されている収容ボックス
５０を離接方向移動体４５のアーム４７，４８上に、基
板出し入れ口５１が前方となる向きで受け取る。この
際、必要に応じて離接方向移動体４５を前後動させてロ
ーダ・アンローダ４から受け取るが、ローダ・アンロー
ダ４のみを動作させて、該離接方向移動体４５上に載せ
るようにしてもよい。また、ここで受け渡される収容ボ
ックス５０は、上記したように、その基板支持部５４，
５４上にガラス基板Ｇを保持し収容しているものとす
る。
【００３４】収容ボックス５０は、離接方向移動体４５
上に載置されると背面に配置したフィルタ５６が基台部
４６の吹き出し口４９ａと連通する。そして、送風ファ
ン４９の駆動により、フィルタ５６を介して収容ボック
ス５０の内部に風が送り込まれる。この際、フィルタ５
６によって、送風ファン４９によりパーティクルが侵入
しようとしても捕捉される。収容ボックス５０内に送り
込まれた風は、前面に設けられた基板出し入れ口５１か
ら外部へ流れる気流を形成し、収容ボックス５０内を陽
圧に保つ。従って、ガラス基板Ｇの搬送中に、該基板出
し入れ口５１からパーティクルが侵入することがない。
【００３５】基板搬送装置４０は、収容ボックス５０を
受け取ったならば、目的とする処理装置６０の配置され
ている付近まで搬送方向移動体４１の駆動によりＹ方向
に移動する。次に、モータ４２により回転軸４３を所定
角度θ方向に回転させ、アーム４７，４８上で前方に位
置している基板出し入れ口５１を当該処理装置６０と向
き合わせ、さらに、回転軸４３を上下方向（Ｚ方向）に
動作させ、該収容装置６０のシャッタと対向させる。
【００３６】かかる状態で、シャッタを開放動作させ、
基板搬送装置４０の離接方向移動体４５を搬入出口６０
ａを通じて処理装置６０の内部に至るまで前進させ、載
置台６５上に収容ボックス５０を載置する（図８および
図９参照）。離接方向移動体４５は、載置台６５上に収
容ボックス５０を載置したならば搬入出口６０ａから処
理装置６０の外部まで後退する。そして、処理装置６０
のシャッタが閉成動作する。なお、この際、本実施の形
態のように２つの離接方向移動体４５を有し、そのそれ
ぞれに収容ボックス５０が載置されている場合には、上
記したように、２つの離接方向移動体４５を一緒に動作
させ、２段で設けられた載置台６５に一度の動作で受け
渡しできるようにすることもできる。
【００３７】載置台６５上に収容ボックス５０が載置さ
れたならば、処理装置６０内に配設された中継用搬送機
構７０を載置台６５付近に移動させ、あるいは、予めこ
の位置に待機させておき、載置台６５の回転軸６６の動
作により、収容ボックス５０の基板出し入れ口５１が中
継用搬送機構７０と向き合うようにする。そして、該中
継用搬送機構７０の受け渡し部材７４を支持板７３に沿
って前進させ、収容ボックス５０内に保持されているガ
ラス基板Ｇの下側に、基板出し入れ口５１を通じて挿入
する（図９参照）。次に、回転軸７２を上昇させて、ガ
ラス基板Ｇをすくい上げ、受け渡し部材７４を後退させ
て、収容装置６０内で、図９において想像線で示したよ
うに、受け渡し部材７４の前端が処理部６２と対峙する
ように回転軸７２を回転させ、さらに、移動体７１によ
り処理部６２に接近させた後、受け渡し部材７４を前進
させて処理部に受け渡す。
【００３８】処理部６２において所定の処理が終了した
ならば、上記と逆に、中継用搬送機構７０が処理部６２
から処理済みのガラス基板Ｇを受け取り、載置台６５方
向に向かって移動する。載置台６５上で待機している収
容ボックス５０内に中継用搬送機構７０の受け渡し部材
７４を挿入し、基板支持部５４，５４上に処理済みのガ
ラス基板Ｇを載置する。
【００３９】次に、処理装置６０のシャッタを開放し、
再び、基板搬送装置４０の離接方向移動体４５を搬入出
口６０ａを通じて挿入し、載置台６５において処理済み
のガラス基板Ｇを収容して載置されている収容ボックス
５０を保持し、後退する。離接方向移動体４５が後退す
ると、収容ボックス５０のフィルタ５６が基台部４６に
形成された吹き出し口４９ａに近接し、再び連通する。
これにより、収容ボックス５０の後方から基板出し入れ
口５１に向かって風が送られ、収容ボックス５０内は陽
圧雰囲気になり、常時開口されている基板出し入れ口５
１からのパーティクルの侵入を防止しつつ、この基板搬
送装置４０は次の処理装置に向かってガラス基板Ｇを搬
送する。
【００４０】なお、上記した説明では、処理装置６０内
に載置台６５を配置し、収容ボックス５０ごと当該処理
装置６０内に搬送しているが、離接方向移動体４５によ
る離接方向への移動を収容ボックス５０の基板出し入れ
口５１が収容装置６０の搬入出口６０ａまでとする一
方、収容装置６０内に載置台６５を設けない構造とする
こともできる。但し、この場合には、収容ボックス５０
の基板出し入れ口５１と処理装置６０の搬入出口６０ａ
とを接続した際に、パーティクルの侵入を防止するた
め、両者間にできるだけ隙間がなく密接するよう、該搬
入出口６０ａの大きさを形成する。
【００４１】また、収容ボックス５０内にガラス基板Ｇ
上の静電気を検出するモニタを設置すると共に、静電気
除去装置を設けることもできる（図示せず）。ガラス基
板Ｇが収容ボックス５０という画成された空間に収容さ
れているため、これにより、静電気の除去を効率的に行
うことができる。また、基板搬送装置４０と収容装置６
０との間で収容ボックス５０の受け渡しをしている間
に、送風ファン４９により基板搬送装置４０周辺のパー
ティクルを収容装置６０内に送り込まないよう、その間
送風ファン４９の駆動を弱めるといった制御を行うこと
もできる。
【００４２】次に本発明の他の実施形態について説明す
る。
【００４３】この実施形態は本発明を基板を収容するス
トッカー（収納装置）に適用したものである。
【００４４】図１０に示すように、ストッカー１００に
は、図５に示した収容ボックス５０が縦横に多数収容さ
れるようになっている。ストッカー１００の近くには例
えばレジスト塗布現像する処理システム１０１が配置さ
れ、搬送ロボット１０２がストッカー１００と処理シス
テム１０１との間で収容ボックス５０を受け渡しするよ
うになっている。
【００４５】ストッカー１００には、収容ボックス５０
を収容するための棚１０３が縦横に設けられている。各
棚１０３の下部には、収容ボックス５０を浮かせて保持
する保持ピン１０４が少なくとも３本以上設けられてい
る。各棚１０３の背面には、収容ボックス５０の基板出
し入れ口５１が接続される排気口１０５が設けられてい
る。各排気口１０５は、その背後に設けられた排気通路
１０６に接続されている。従って、収容ボックス５０が
ストッカー１００の棚１０３に載置されると、収容ボッ
クス５０の基板出し入れ口５１が排気口１０５に接続さ
れ、収容ボックス５０内の雰囲気が排気口１０５及び排
気通路１０６を介して排気され、また収容ボックス５０
内には送風取り入れ口５５からフィルタ５６を介して清
浄エアーが導入される。これにより、収容ボックス５０
内はパーティクルのない清浄された雰囲気に保たれる。
【００４６】処理システム１０１には、例えば収容ボッ
クス５０が載置される載置台１１１が設けられており、
載置台１１１に載置された収容ボックス５０内のガラス
基板Ｇが処理システム１０１内に設けられた搬送装置
（図示せず）により搬出されて当該処理装置１０１内に
投入されるようになっており、また当該処理装置１０１
内で処理が終了したガラス基板Ｇが搬送装置（図示せ
ず）により載置台１１１に載置された収容ボックス５０
内に搬入されるようになっている。
【００４７】搬送ロボット１０２は、例えば搬送車１２
１の上に図３に示した基板搬送装置４０とほぼ同様の構
成のボックス搬送機構１２２を備えたものである。ボッ
クス搬送機構１２２は、例えば収容ボックス５０をθ方
向に回転するとともに、前後に進退させるものである。
【００４８】本実施形態によれば、ストッカー１００と
処理システム１０１との間でガラス基板Ｇを搬送するこ
とを、例えばクリーンルームのクリーン度に依存するこ
となく清浄した状態で行うことができる。また、ストッ
カー１００内でも同様の状態でガラス基板Ｇをストック
しておくことができる。
【００４９】次に、本発明の更に別の実施形態について
説明する。
【００５０】図１０に示した実施形態では、処理システ
ム１０１内では、基板Ｇを収容ボックス５０内に収容す
ることなく、基板Ｇを直接搬送しながら処理を行うもの
であったが、この実施形態では、ストッカーによる基板
のストックばかりでなく、処理システム内での基板の搬
送も収容ボックス５０を使って行うようにしたものであ
る。
【００５１】すなわち、図１１に示すように、ストッカ
ー２００には、図５に示した収容ボックス５０が縦横に
多数収容されるようになっている。ストッカー２００の
近くには例えばレジスト塗布現像する処理システム２０
１が配置され、搬送ロボット２０２がストッカー２００
と処理システム２０１との間で収容ボックス５０を受け
渡しするようになっている。
【００５２】ストッカー２００には、収容ボックス５０
を収容するための棚２０３が縦横に設けられている。各
棚２０３の下部には、収容ボックス５０を浮かせて保持
する保持ピン２０４が少なくとも３本以上設けられてい
る。各棚２０３の背面には、収容ボックス５０の送風取
り入れ口５５が接続される送風口２０５が設けられてい
る。各送風口２０５は、その背後に設けられた送風路２
０６に接続されている。従って、収容ボックス５０がス
トッカー２００の棚２０３に載置されると、収容ボック
ス５０の送風取り入れ口５５が送風口２０５に接続さ
れ、送風口２０５から送風される例えば清浄された空気
又は窒素ガス等が送風取り入れ口５５から収容ボックス
５０内に導入されて基板出し入れ口５１から排出される
ようになっている。これにより、収容ボックス５０内は
パーティクルのない清浄された雰囲気に保たれる。
【００５３】処理システム２０１には、例えば収容ボッ
クス５０が載置される載置台２１１が設けられており、
載置台２１１に載置された収容ボックス５０が処理シス
テム２０１内に設けられた搬送装置（図示せず）により
搬出されて当該処理システム２０１内に投入されるよう
になっており、また当該処理装置２０１内で処理が終了
したガラス基板Ｇの収容された収容ボックスス５０が搬
送装置（図示せず）により載置台２１１に載置されるよ
うになっている。
【００５４】搬送ロボット２０２は、例えば搬送車２２
１の上にボックス搬送機構２２２を備えたものである。
ボックス搬送機構２２２は、例えば収容ボックス５０を
θ方向に回転するとともに、前後に進退させる機構を有
する搬送台２２３を備える。搬送台２２３の背後には、
板状の蓋体２２４が設けられている。蓋体２２４は、搬
送台２２３に載置された収容ボックス５０の基板出入り
口５５を塞ぐもので、この蓋体２２４を設けることによ
って搬送ロボット２０２により収容ボックス５０を搬送
する際に当該収容ボックス５０内にパーティクルが進入
することを防止することができる。
【００５５】本実施形態においても、ストッカー２００
と処理システム２０１との間でガラス基板Ｇを搬送する
ことを、例えばクリーンルームのクリーン度に依存する
ことなく清浄した状態で行うことができる。また、スト
ッカー１００内でも同様の状態でガラス基板Ｇをストッ
クしておくことができ、更に処理システム２０１内にお
いても同様の状態でガラス基板Ｇを搬送することができ
る。
【００５６】この実施形態において、収容ボックスを以
下の通り変形することが可能である。
【００５７】例えば図１２に示すように、収容ボックス
２３１の背面に、第１の送風口２３２を設け、収容ボッ
クス２３１の背後側の下部に第２の送風口２３３を設け
る。また、各送風口２３２、２３３には、それぞれ、内
側に開閉すると共に各送風口２３２、２３３を閉じる方
向に弾性力が付与された第１の及び第２のドアー部２３
４、２３５を設ける。
【００５８】処理システム２０１の載置台２１１上の所
定の位置には、図１３に示すように、収容ボックス２３
１の第２のドアー部２３５を突き上げる突き上げピン２
３６と、突き上げピン２３６によって開かれた第２の送
風口２３３に向けて清浄エアーを供給するためのファン
２３７が設けられている。
【００５９】また、処理システム２０１の搬送装置２１
２の背面には、図１４に示すように、収容ボックス２３
１の第１のドアー部２３４を突き上げる突き上げピン２
３８と、突き上げピン２３８によって開かれた第１の送
風口２３２に向けて清浄エアーを供給するためのファン
２３９が設けれている。
【００６０】このような構成によれば、収容ボックス２
３１が載置台２１１上に載置されているときには、第２
の送風口２３３を介して収容ボックス２３１内に清浄エ
アーが供給され、収容ボックス２３１が搬送装置により
搬送されているときには、第１の送風口２３２を介して
収容ボックス２３１内に清浄エアーが供給される。従っ
て、処理システム２０１内において、例えばクリーンル
ームのクリーン度に依存することなく清浄した状態でガ
ラス基板Ｇを搬送して処理することができる。なお、ガ
ラス基板Ｇの処理を行う処理部や露光装置との間でガラ
ス基板Ｇの受け渡しを行うインターフェース部において
も上記と同様の構成とすることで、同様の効果を得るこ
とができる。
【００６１】次に本発明に係る収容ボックスの他の例を
説明する。
【００６２】この例では、図１５に示すように、収容ボ
ックス５０の基板出し入れ口５１の近傍下部に、収容ボ
ックス５０内の雰囲気を排出するため排気ファン２４０
を設けたものである。これにより、基板出し入れ口５１
からエアーが噴出することが少なくなり、ガラス基板Ｇ
を所定の装置に受け渡しする際に収容ボックス５０側か
らその装置に汚染されたエアーが噴出すことがなくな
る。
【００６３】なお、図１６に示すように、搬送装置２５
１が上下に２つのハンド２５２、２５３を有する場合に
は、上のハンド２５２は上部に向けてエアーを排出する
排気ファン２４０が設けられた収容ボックス５０を搬送
し、下のハンド２５３は下部に向けてエアーを排出する
排気ファン２４０が設けられた収容ボックス５０を搬送
するように構成すれば、搬送装置２５１上の上下の収容
ボックス５０の排気が相互に干渉することはなくなる。
【００６４】図１７は更に別の収容ボックスの例を示す
図である。
【００６５】図１７に示すように、この収容ボックス２
６１は、基板を収容する本体２６２の前面に基板出し入
れ口２６３が設けられている。本体２６２の背面側には
フィルタ部２６４を介してファン部２６５が設けられて
いる。フィルタ部２６４には、例えばＨＥＰＡ（ＵＬＰ
Ａ）フィルタが取り付けられている。
【００６６】ファン部２６５には、フィルタ部２６４を
介して本体２６２内にエアーを送風するためのファン２
６６と、ファン２６６に電力を供給するためのバッテリ
２６７と、ファン２６６の駆動を制御する制御部２６８
とが設けられている。バッテリ２６７には、外部端子２
７０を通じてバッテリチャージが行われるようになって
いる。
【００６７】そして、制御部２６８が、例えば本体２６
２内の板出し入れ口２６３の近くに設けられた風速セン
サ２６９による風速の検出結果に基づき、例えば本体２
６２内の風速が所望の値となるようにファン２６６の駆
動を制御する。また、制御部２６８は、風速の検出結果
とファン２６６の回転数との比較からフィルタ部２６４
におけるフィルタの劣化を判断し、例えばアラームを出
力する。
【００６８】また、例えばファン部２６６の所定の位置
には、通信ポート２７１が設けられており、制御部２６
８はこの通信ポート２７１を介して外部のコンピュータ
等との間でデータのやり取りが行われるようになってい
る。このようなデータとしては、例えば上記のアラーム
データの出力や外部から風速の設定等がある。
【００６９】なお、本発明の基板搬送装置の搬送対象と
なる基板は、上記したＬＣＤ用のガラス基板Ｇだけでな
く、半導体ウェハ等の基板についても本発明を当然適用
できる。さらに、上記した塗布・現像処理システムの処
理装置の組み合わせはあくまで一例であり、ＣＶＤ、ア
ッシャー、エッチャーなどが配置されたラインにおいて
も本発明は当然有効である。
【００７０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の基板搬送
装置は、箱形に形成された収容ボックスの内部に処理対
象となる基板を支持していると共に、圧力制御機構によ
り該収容ボックス内部が陽圧に保たれている。このた
め、基板出し入れ口が常時開口していても、収容ボック
ス外に浮遊するパーティクルが収容ボックス内に侵入す
ることがない。従って、基板の搬送エリアをクリーン環
境にする必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを
大幅に削減できる。また、基板出し入れ口が常時開口し
ていて、該基板出し入れ口を開閉する開閉機構が設けら
れていないため、基板の受け渡しを迅速に行うことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の処理システムの実施の形態を示
す斜視図である。
【図２】上記実施の形態で用いたローダ・アンローダの
構成を説明するための図である。
【図３】本発明の基板搬送装置の実施の形態を示す斜視
図である。
【図４】上記実施の形態にかかる基板搬送装置を示す側
面図である。
【図５】上記実施の形態で用いた収容ボックスを示す斜
視図である。
【図６】図５のＡ−Ａ線断面図である。
【図７】基板搬送装置に収容ボックスを載置したときの
位置関係を模式的に示す図である。
【図８】基板搬送装置から載置台へ収容ボックスを受け
渡す過程を説明するための模式図である。
【図９】本発明の処理装置の実施の形態を模式的に示す
図である。
【図１０】本発明の他の実施形態に係るストッカーの側
面図である。
【図１１】本発明の更に別の実施形態におけるストッカ
ーの側面図である。
【図１２】本発明に係る収容ボックスの他の例を示す図
である。
【図１３】図１２に示した収容ボックスの説明図（その
１）である。
【図１４】図１２に示した収容ボックスの説明図（その
２）である。
【図１５】本発明に係る収容ボックスの更に別の例を示
す図である。
【図１６】図１５に示した収容ボックスの変形使用例を
示す図である。
【図１７】本発明に係る収容ボックスのまた別の例を示
す図である。
【符号の説明】
１０ 第１の搬送路 １１ 第２の搬送路 ４０ 基板搬送装置 ４１ 搬送方向移動体 ４３ 回転軸 ４５ 離接方向移動体 ４９ 送風ファン ５０ 収容ボックス ５１ 基板出し入れ口 ５４ 基板支持部 ６０ 処理装置 ６０ａ 搬入出口 ６２ 処理部 ６５ 載置台 ７０ 中継用搬送機構 ７４ 受け渡し部材 Ｇ ガラス基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒木 真一郎 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４ 東京エレクトロン九州株式会社 大津事業所内 (72)発明者 岩崎 達也 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４ 東京エレクトロン九州株式会社 大津事業所内 (72)発明者 穴井 徳行 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４ 東京エレクトロン九州株式会社 大津事業所内 (72)発明者 岩津 春生 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４ 東京エレクトロン九州株式会社 大津事業所内

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 搬送路に沿って移動可能な搬送方向移動
    体と、 前記搬送方向移動体に対し、水平方向に回転可能な回転
    軸を介して支持され、各処理装置の搬入出口に対峙した
    姿勢において該搬入出口に離接する方向に移動可能であ
    り、かつ、内部に処理対象となる基板を支持する基板支
    持部と、基板の出し入れを行うため、常時開口している
    基板出し入れ口と、内部を陽圧に保つための圧力制御機
    構とを備えた箱形の収容ボックスを支持可能である離接
    方向移動体とを具備することを特徴とする基板搬送装
    置。
  2. 【請求項２】 搬送路に沿って移動可能な搬送方向移動
    体と、 前記搬送方向移動体に対し、水平方向に回転可能な回転
    軸を介して支持され、各処理装置の搬入出口に対峙した
    姿勢において該搬入出口に離接する方向に移動可能であ
    り、かつ、内部に処理対象となる基板を支持する基板支
    持部と、基板の出し入れを行うため、常時開口している
    基板出し入れ口と、該基板出し入れ口の形成面に対向す
    る面側から該基板出し入れ口を通じて外部に流れる気流
    を形成する送風機構とを備えた箱形の収容ボックスを支
    持可能である離接方向移動体とを具備することを特徴と
    する基板搬送装置。
  3. 【請求項３】 請求項１又は２記載の基板搬送装置であ
    って、前記離接方向移動体が上下に間隔をおいて複数設
    けられ、そのそれぞれに前記収容ボックスを支持可能で
    あることを特徴とする基板搬送装置。
  4. 【請求項４】 内部に処理対象となる基板を支持する基
    板支持部と、基板の出し入れを行うため、常時開口して
    いる基板出し入れ口とを備えた箱形の収容ボックスを搬
    入出できる大きさで形成された搬入出口と、 該搬入出口と処理部との間に配置される前記収容ボック
    スの載置台と、 該載置台と処理部との間に配置され、該載置台上に載置
    された収容ボックスに対して離接可能に設けられた基板
    の受け渡し部材を有し、該収容ボックスから受け取った
    基板を処理部に受け渡し、処理部から受け取った基板を
    該収容ボックスに受け渡す中継用搬送機構とを具備する
    ことを特徴とする処理装置。
  5. 【請求項５】 請求項４記載の処理装置であって、前記
    載置台が上下に異なる高さで複数設けられると共に、前
    記中継用搬送機構の受け渡し部材が該載置台に対応して
    上下に異なる高さで複数設けられていることを特徴とす
    る処理装置。
  6. 【請求項６】 内部に処理対象となる基板が支持され、
    常時開口している基板出し入れ口が搬入出口に密接する
    ように位置している基板搬送装置の収容ボックスに対し
    て離接可能に設けられた基板の受け渡し部材を有し、該
    収容ボックスから受け取った基板を処理部に受け渡し、
    処理部から受け取った基板を該収容ボックスに受け渡す
    中継用搬送機構が、内部に設けられていることを特徴と
    する処理装置。
  7. 【請求項７】 請求項６記載の処理装置であって、前記
    中継用搬送機構は、基板搬送装置の収容ボックスから未
    処理の基板を受け取って処理部に受け渡す未処理基板用
    の受け渡し部材と、処理部において処理済みの基板を受
    け取って基板搬送装置の収容ボックスに受け渡す処理済
    み基板用の受け渡し部材とが別々に設けられていること
    を特徴とする処理装置。
  8. 【請求項８】 搬送路に沿って走行する基板搬送装置に
    より、該搬送路付近に配置された複数の処理装置との間
    で基板の受け渡しを行いながら当該基板に対して所定の
    処理を行う基板の処理システムであって、 基板搬送装置に載置可能であると共に、内部に処理対象
    となる基板を支持する基板支持部と、基板の出し入れを
    行うため、常時開口している基板出し入れ口と、内部を
    陽圧に保つための圧力制御機構とを備えた箱形の収容ボ
    ックスを有していることを特徴とする基板の処理システ
    ム。
  9. 【請求項９】 搬送路に沿って走行する基板搬送装置に
    より、該搬送路付近に配置された複数の処理装置との間
    で基板の受け渡しを行いながら当該基板に対して所定の
    処理を行う基板の処理システムであって、 基板搬送装置に載置可能であると共に、内部に処理対象
    となる基板を支持する基板支持部と、基板の出し入れを
    行うため、常時開口している基板出し入れ口と、該基板
    出し入れ口の形成面に対向する面側から該基板出し入れ
    口を通じて外部に流れる気流を形成する送風機構とを備
    えた箱形の収容ボックスを有していることを特徴とする
    基板の処理システム。
  10. 【請求項１０】 搬送路に沿って走行する基板搬送装置
    により、該搬送路付近に配置された処理装置との間で基
    板の受け渡しを行う基板の搬送方法であって、 前記基板を、基板の出し入れを行うため、常時開口して
    いる基板出し入れ口と、内部を陽圧に保つための圧力制
    御機構とを備えた箱形の収容ボックス内に収容して搬送
    することを特徴とする基板の搬送方法。
  11. 【請求項１１】 搬送路に沿って走行する基板搬送装置
    により、該搬送路付近に配置された処理装置との間で基
    板の受け渡しを行う基板の搬送方法であって、 前記基板を、基板の出し入れを行うため、常時開口して
    いる基板出し入れ口と、該基板出し入れ口の形成面に対
    向する面側から該基板出し入れ口を通じて外部に流れる
    気流を形成する送風機構とを備えた箱形の収容ボックス
    内に収容して搬送することを特徴とする基板の搬送方
    法。
  12. 【請求項１２】 基板の出し入れを行う基板出し入れ口
    及びフィルタを介して外気を導入するための外気導入口
    が設けら、内部に基板を収容する収容ボックスを収納す
    る収納装置において、 前記基板出し入れ口が背面に接するように前記収容ボッ
    クスが収納される棚部と、 前記棚部の背面に設けられ、前記棚部に収納された収容
    ボックスの前記基板出し入れ口を介して前記収容ボック
    ス内の気体を排出する排出部とを具備することを特徴と
    する収納装置。
  13. 【請求項１３】 基板の出し入れを行う基板出し入れ口
    が前面に設けられ、フィルタを介して外気を導入するた
    めの外気導入口が背面に設けら、且つ内部に基板を収容
    する収容ボックスを収納する収納装置において、 前記外気導入口が背面に接するように前記収容ボックス
    が収納される棚部と、 前記棚部の背面に設けられ、前記棚部に収納された収容
    ボックスの前記外気導入口を介して前記収容ボックス内
    の気体を供給する供給部とを具備することを特徴とする
    収納装置。
  14. 【請求項１４】 基板を収容する収容ボックスにおい
    て、 基板の出し入れを行う基板出し入れ口が前面に設けら
    れ、フィルタを介して外気を導入するための外気導入口
    が背面に設けらていることを特徴とする収容ボックス。
  15. 【請求項１５】 請求項１４に記載の収容ボックスにお
    いて、 背面側下部又は上部にフィルタを介して外気を導入する
    ための他の外気導入口が設けら、 且つ前記両方の外気導入口には開閉自在なドアー部が設
    けられていることを特徴とする収容ボックス。
  16. 【請求項１６】 請求項１４に記載の収容ボックスにお
    いて、 前記基板出し入れ口の近傍下部に、収容ボックス内の雰
    囲気を排出するため排気ファンが設けられていることを
    特徴とする収容ボックス。
  17. 【請求項１７】 請求項１４に記載の収容ボックスにお
    いて、 前記外気導入口には、前記フィルタを介して収容ボック
    ス内にエアーを送風するためのファンが設けられている
    ことを特徴とする収容ボックス。
  18. 【請求項１８】 請求項１７に記載の収容ボックスにお
    いて、 前記基板出し入れ口の近くに風速センサーを配置すると
    共に、風速センサーにより検出された風速に基づき前記
    ファンの駆動を制御することを特徴とする収容ボック
    ス。
  19. 【請求項１９】 請求項１７に記載の収容ボックスにお
    いて、 前記基板出し入れ口の近くに風速センサーを配置すると
    共に、風速センサーにより検出された風速に基づき前記
    ファンの劣化を判定することを特徴とする収容ボック
    ス。
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