JP4742077B2 - 液浸リソグラフィ装置、液浸露光方法及び液浸露光装置 - Google Patents
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Description
そこで本発明は上記した問題点に鑑み、異物や液斑によるウェハの汚染およびオーバーレイのエラーを防止し、高スループットの液浸リソグラフィ装置を提供することを目的とする。
また、請求項16に係る発明は、第一の方向に流れる前記浸漬液は、前記ウェハステージに保持された前記ウェハの、前記結像レンズに最も近いウェハエッジに向かって前記レンズアセンブリの下にある領域を通ることを特徴とする。
102 浸漬ヘッド
104 結像レンズ
106 液体注入口
108 液体排出口
110 領域
112 ウェハ
114 ウェハステージ
116 真空システム
120 排液溝
200 WBCシステム
204 微少領域
206 レンズ
208、304、360 ウェハ
210 液体注入口
212 液体排出口
214 カバー
300、390、400 液浸リソグラフィシステム(WISBOTシステム)
302 ウェハステージ
306 真空システム
308、354、374 レンズアセンブリ
309 浸漬液
310 液体タンク
311 浸漬液保持壁
312 シールリング
314、352、372、410 近接カバー
316、350a〜350d、370a〜370h 液体注入口
318 封止カバー
320 スキャンフィールド
322 レンズ領域
324 スロット
330 オーバーフロー孔
332 浸漬液集液溝部
340 ドライヘッド
342 真空排出口
344 空気パージ口
362、364、366、368、415、417、426、428 矢印
412 ダブルノズル液体注入口
414 主ノズル
416 第2ノズル
422、424 付加的なノズル
Claims (16)
- 結像レンズを有するレンズアセンブリと、
ウェハステージと、
浸漬液を溜めておき、前記ウェハステージに保持された前記ウェハ全体を前記浸漬液に浸漬するように、前記ウェハステージに対して配置された液体タンクと、
前記液体タンク全体を覆うように配置され、前記レンズアセンブリによって貫通された封止カバーを備え、
前記ウェハステージは、前記レンズアセンブリ下にウェハを保持し、前記ウェハステージに保持された前記ウェハの下側のウェハエッジ周りに設置されたシールリングを有し、
前記浸漬液は、前記液体タンク内の環境を温度制御し、液量を豊富にするため、前記封止カバーと、前記レンズアセンブリと、前記ウェハと、前記液体タンクとで封止され、
前記液体タンクは浸漬液保持壁を備え、
前記浸漬液保持壁に配置されたオーバーフロー孔と、前記液体タンクの外側に配置され、前記オーバーフロー孔に接続された浸漬液集液溝部とを備えることを特徴とする液浸リソグラフィ装置。 - 前記ウェハステージに保持された前記ウェハの、前記結像レンズに最も近いウェハエッジへ前記浸漬液を向ける、前記結像レンズを囲む少なくとも1つの流量方向制御用液体注入口と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記ウェハステージと前記封止カバーとの間に配置された近接カバーを備えることを特徴とする請求項1に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 少なくとも1つの前記流量方向制御用液体注入口が前記近接カバーに貫設されていることを特徴とする請求項3に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記流量方向制御用液体注入口は、前記近接カバーに貫設された複数の液体注入口からなり、
各前記液体注入口は、個別に選択的に起動され、前記液体タンク内にある前記浸漬液の流れる方向を制御することを特徴とする請求項3に記載の液浸リソグラフィ装置。 - 前記流量方向制御用液体注入口は、第一の方向に前記浸漬液を流す主ノズルと、前記第一の方向と反対の第二の方向に前記浸漬液を流す第二ノズルとを有するダブルノズルの方向制御可能な液体注入口であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1つに記載の液浸リソグラフィ装置。
- 第一の方向に流れる前記浸漬液は、前記ウェハステージに保持された前記ウェハの、前記結像レンズに最も近いウェハエッジに向かって前記レンズアセンブリの下にある領域を通ることを特徴とする請求項6に記載の液浸リソグラフィ装置。
- レンズアセンブリの結像レンズの下に設けられたウェハステージ上にウェハを搬入する搬入工程と、
液体タンク内における前記結像レンズと前記ウェハとの領域を浸漬液で充填する充填工程とを有する液浸露光方法であって、
前記ウェハステージが、前記ウェハを搬入すると生ずる、前記ウェハの下側のウェハエッジと前記ウェハステージとの浸漬液の漏れに対して密封するためのシールリングを有し、
前記液体タンクは、前記ウェハステージに保持された前記ウェハ全体を前記浸漬液に浸漬するように、前記ウェハステージに対して配置され、
封止カバーは、前記液体タンク全体を覆うように配置され、及び前記レンズアセンブリによって貫通され、
前記浸漬液は、前記液体タンク内の環境を温度制御し、液量を豊富にするため、前記封止カバーと、前記レンズアセンブリと、前記ウェハと、前記液体タンクとで封止され、
前記ウェハのウェハエッジへ前記浸漬液の流れを方向づける、前記結像レンズを囲む少なくとも1つの流量方向制御用液体注入口を有する近接カバーを提供する工程を有し、
前記浸漬液の流れは、前記液体タンクの浸漬液保持壁に配置されたオーバーフロー孔を通り、前記液体タンクの外側に配置され、前記オーバーフロー孔に接続された浸漬液集液溝部に流れ込むように方向づけられることを特徴とする液浸露光方法。 - 前記浸漬液の蒸気を前記液体タンクに導入する導入工程を有することを特徴とする請求項8に記載の液浸露光方法。
- 前記ウェハが完全に露光された後、前記液体タンクの浸漬液保持壁を下げ、前記液体タンクから前記浸漬液を排出する排出工程を有することを特徴とする請求項8に記載の液浸露光方法。
- 前記ウェハの表面から、ドライヘッドを用いて、蒸気を除去する除去工程を有することを特徴とする請求項8に記載の液浸露光方法。
- 前記結像レンズの近くから前記ウェハの少なくとも1つのウェハエッジへ前記浸漬液を流す工程を有することを特徴とする請求項8に記載の液浸露光方法。
- 前記結像レンズに最も近い前記ウェハのウェハエッジへ前記浸漬液を流す工程を有することを特徴とする請求項8に記載の液浸露光方法。
- 前記結像レンズの方向へ前記浸漬液が流れないようにする工程を有することを特徴とする請求項8に記載の液浸露光方法。
- 前記流量方向制御用液体注入口は、第一の方向に前記浸漬液を流す主ノズルと、前記第一の方向と反対の第二の方向に前記浸漬液を流す第二ノズルとを有するダブルノズルの方向制御可能な液体注入口であることを特徴とすることを特徴とする請求項8に記載の液浸露光方法。
- 第一の方向に流れる前記浸漬液は、前記ウェハステージに保持された前記ウェハの、前記結像レンズに最も近いウェハエッジに向かって前記レンズアセンブリの下にある領域を通ることを特徴とする請求項15に記載の液浸露光方法。
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