JP4691922B2 - 結像光学系の調整方法 - Google Patents
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Description
そこで、本発明者は、結像光学系の瞳面と開口絞り面との間に調整用の光学素子を新たに配置して、この光学素子の配置を上記の特許文献1に開示した方法を利用して微調整し、開口絞り面における瞳像の波長帯域に応じた結像位置ずれを補正することを提案した(特願2003−54058号)。しかし、上記の特許文献1に開示した方法では、光学素子の配置を微調整する際の感度が低く、その調整誤差を小さくすることが難しかった。このため、装置起因の誤差成分(TIS値)を十分に低減できるとは限らず、検出精度の向上にも限界があった。
NAima > NAill
NAima−NAill > λ/P1
NAima+NAill/2 ≦ λ/P2
請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の結像光学系の調整方法において、前記第1のマークの像と前記第2のマークの像との相対位置の情報を取得する際に、前記第1のマーク及び前記第2のマークを前記視野中心に対して180°回転させる前後の状態の各々で、前記結像光学系で形成された像における前記第1のマークと前記第2のマークとの距離を測定してから、測定された2つの距離で表される装置起因の誤差成分量を、前記相対位置の情報として取得するものである。
ここでは、本実施形態の結像光学系の調整方法について、図1に示す重ね合わせ測定装置10を例に説明する。重ね合わせ測定装置10は、半導体素子や液晶表示素子などの製造工程において、基板11のレジストパターン(不図示)の重ね合わせ検査を行う装置である。重ね合わせ検査では、基板11の下地層に形成された回路パターン(以下「下地パターン」という)に対するレジストパターンの位置ずれ量の測定が行われる。
ステージ12は、図示省略したが、基板11または後述の調整用基板30(図2)を水平状態に保って支持するホルダと、このホルダを水平方向(XY方向)に駆動するXY駆動部と、ホルダを鉛直方向(Z方向)に駆動するZ駆動部とで構成されている。そして、XY駆動部とZ駆動部は、ステージ制御部27に接続されている。
照明開口絞り14は、その中心が光軸O1上に位置し、光源部13から射出された光の径を特定の径に制限する。コンデンサーレンズ15は、照明開口絞り14からの光を集光する。視野絞り16は、重ね合わせ測定装置10の視野領域を制限する光学素子であり、図1(b)に示すように、矩形状の開口である1つのスリット16aを有する。照明リレーレンズ17は、視野絞り16のスリット16aからの光をコリメートする。ビームスプリッタ18は、照明リレーレンズ17からの光を下向きに反射する。
なお、基板11(または調整用基板30)に入射するときの照明光L1の入射角度は、照明開口絞り14の中心と光軸O1との位置関係によって決まる。また、基板11(または調整用基板30)の各点における照明光L1の入射角度範囲は、照明開口絞り14の絞り径によって決まる。照明開口絞り14が第1対物レンズ19の仮想瞳面19Aと共役な位置関係にあるからである。
1次結像面10aの後段に配置された焦点検出部(41〜48)のビームスプリッタ41は、焦点検出部(41〜48)の光軸O3と結像光学系(18〜24)の光軸O2に対して、反射透過面が略45°傾けられている。そして、ビームスプリッタ41は、第2対物レンズ20からの回折光L2の一部(L3)を透過すると共に、残りの一部(L4)を反射する。ビームスプリッタ41を透過した一部の光L3は、結像光学系(18〜24)の第1結像リレーレンズ21に導かれる。第1結像リレーレンズ21は、ビームスプリッタ41からの光L3をコリメートする。
焦点検出部(41〜48)は、光軸O3に沿って順に配置されたビームスプリッタ41とAF第1リレーレンズ42と平行平面板43と瞳分割ミラー44とAF第2リレーレンズ45とシリンドリカルレンズ46とからなる光学系と、AFセンサ47と、信号処理部48とで構成されている。AFセンサ47はラインセンサであり、その撮像面47aには複数の画素が1次元配列されている。シリンドリカルレンズ46は、AFセンサ47の撮像面47aにおける画素の配列方向(図中A方向)に対して垂直な方向の屈折力を持つ。
そして、AFセンサ47は、撮像面47aに形成された2つの像の結像中心に関する受光信号を信号処理部48に出力する。信号処理部48は、AFセンサ47からの出力に基づいて、計測方向について2つの視野絞り16の像の結像中心の距離を算出し、予め記憶している合焦状態での距離との差を求め、フォーカス信号をステージ制御部27に出力する。このような瞳分割方式のAF動作の詳細は、例えば特開2002−40322号公報に記載されている。
さらに、上記のような回折光L2の対称性が保たれると、図7(b)に示すマークの2つのエッジE1,E2の見え方が同じになる。つまり、一方のエッジE1は−1次回折成分の光量確保によって良く見え、他方のエッジE2は+1次回折成分の光量確保によって良く見えることになる。そのため、結像光学系(18〜24)を介してCCD撮像素子25の撮像面に形成されたエッジE1,E2の像の強度プロファイルは、図7(c)のように、左右で等しくなる(バランスする)ことになる。この場合、CCD撮像素子25からの画像信号に基づいて、図7(b)に示すマークの位置を検出すると、誤差成分(TIS値)を含まない正確な検出結果を得ることができる。
ちなみに、長波長帯域におけるケラレの非対称性が図6(a)のような方向特性を持つ場合、短波長帯域におけるケラレの非対称性は、図8(a)のような反転した方向特性を持つことになる。そして、マークから発生する回折光L2の各成分の光量と、エッジE1,E2の像の強度プロファイルは、図8(b),(c)のようになる。このため、短波長帯域におけるマーク位置の検出結果の誤差成分(TIS値)は、長波長帯域におけるマーク位置の検出結果の誤差成分(TIS値)とは反転した方向特性を持つことになる。
NAima−1.2×NAill = λ/P1 …(2)
NAima+NAill/2 = λ/P2 …(3)
条件式(1)を満足する場合、結像光学系(19〜24)の開口絞り面23Aにおける瞳像H(図6〜図8参照)の大きさは、各成分ごとに結像開口絞り23より小さくなる。
ステップS3では、ステップS2で算出したTIS値(つまり瞳像の中心波長λの中心CHの位置ずれ)を、予め定めた閾値と比較する。閾値は、十分に小さい規格値である。そして、TIS値が閾値より大きい場合(S3がNo)、このTIS値を指標として、結像開口絞り23の配置をシフト方向に微調整する(ステップS4)。その後、ステップS2の処理に戻る。上記したステップS2〜S4の処理は、TIS値(つまり瞳像の中心波長λの中心CHの位置ずれ)が閾値より小さくなる(S3がYesとなる)まで繰り返し行われる。
ステップS8では、ステップS7で算出した「TIS値の差」を、予め定めた閾値(十分に小さい規格値)と比較する。そして、「TIS値の差」が閾値より大きい場合(S8がNo)、「TIS値の差」を指標として、平行平面板22の配置をチルト方向に微調整する(ステップS4)。その後、ステップS5の処理に戻る。上記したステップS5〜S9の処理は、「TIS値の差」が閾値より小さくなる(S8がYesとなる)まで繰り返し行われる。
上記したように、本実施形態の結像光学系(19〜24)の調整方法では、調整用基板30の調整用マーク30Aの画像から指標(TIS値の差)を求め、この指標に基づいて平行平面板22の配置をチルト方向に微調整するため、平行平面板22の配置を感度良く微調整することができる。したがって、平行平面板22の調整誤差(チルト角θの誤差)を確実に小さくすることができ、装置起因の誤差成分(TIS値)を良好に低減できる。
その結果、重ね合わせ測定装置10における基板11(一般的な製品基板)の重ね合わせ検査の際に、重ね合わせマーク11Aのレジストマークと下地マークの構造や物性に応じて回折光L2の波長特性が異なる場合でも、それぞれのマーク位置の検出結果として誤差成分(TIS値)を含まない正確な値を求めることができ、検出精度が向上する。さらに、レジストマークと下地マークとの位置ずれ量も正確に求めることができ、高精度な重ね合わせ検査が可能となる。
(変形例)
なお、上記した実施形態では、調整用マーク30Aの外マーク31のピッチP1が条件式(2)を満足する例で説明したが、本発明はこれに限定されない。次の条件式(4)を満足する場合にも、本発明を適用できる。
さらに、上記した実施形態では、調整用マーク30Aの内マーク32のピッチP2が条件式(3)を満足する例で説明したが、本発明はこれに限定されない。次の条件式(5)を満足する場合にも、本発明を適用できる。
NAima+NAill/2 ≦ λ/P2 …(5)
また、上記した実施形態では、外マーク31のピッチP1を内マーク32のピッチP2より大きくしたが、本発明はこれに限定されない。外マーク31と内マーク32のピッチP1,P2が異なっていれば、ピッチP1,P2の大小関係が逆であっても、本発明を適用できる。
さらに、上記した実施形態では、調整用マーク30Aを構成する複数のマーク(例えば外マーク31と内マーク32)をバーマークにより構成したが、本発明はこれに限定されない。他の形状(例えばドット状)とする場合にも、本発明を適用できる。また、調整用マーク30Aは、複数のマークを中心が一致するように重ねて配置した2重マーク(設計上の位置ずれ量が0のマーク)に限らず、複数のマークを予め定めた間隔(設計上の位置ずれ量≠0)をあけて並べて配置することもできる。
11 基板
12 ステージ
13 光源部
14 照明開口絞り
15 コンデンサーレンズ
16 視野絞り
17 照明リレーレンズ
18,41 ビームスプリッタ
19 第1対物レンズ
20 第2対物レンズ
21 第1結像リレーレンズ
22,43 平行平面板
23 結像開口絞り
24 第2結像リレーレンズ
25 CCD撮像素子
26 画像処理装置
27 ステージ制御装置
30 調整用基板
30A 調整用マーク
31 外マーク
32 内マーク
42 AF第1リレーレンズ
44 瞳分割ミラー
45 AF第2リレーレンズ
46 シリンドリカルレンズ
47 AFセンサ
48 信号処理部
Claims (4)
- 結像光学系の物体面に、所定の波長帯の落射照明光による±1次回折光束が前記結像光学系の瞳領域に内接するようなピッチ以上の第1のピッチで配列された第1のマークと、前記照明光による+1次回折光束が前記結像光学系の瞳領域に外接するようなピッチより小さい第2のピッチで配列された第2のマークとを、それぞれ前記結像光学系の視野中心に対して対称に配設し、
前記照明光の波長が長波長側に設定されているときに前記結像光学系で形成された前記第1のマークの像と前記第2のマークの像との相対位置と、前記照明光の波長が短波長側に設定されているときに前記結像光学系で形成された前記第1のマークの像と前記第2のマークの像との相対位置との差に基づいて、前記結像光学系の瞳面と開口絞り面との間に配設された光学素子の配置を調整する
ことを特徴とする結像光学系の調整方法。 - 請求項1に記載の結像光学系の調整方法において、
前記第1のピッチをP1(μm)、前記第2のピッチをP2(μm)、前記結像光学系の開口数をNAima、前記照明光の照射に用いた光学系の開口数をNAill、前記照明光の中心波長をλ(μm)とするとき、次の条件式を満足する
NAima > NAill
NAima−NAill > λ/P1
NAima+NAill/2 ≦ λ/P2
ことを特徴とする結像光学系の調整方法。 - 請求項1または請求項2に記載の結像光学系の調整方法において、
前記第1のマークの像と前記第2のマークの像との相対位置の情報を取得する際には、
前記第1のマーク及び前記第2のマークを前記視野中心に対して180°回転させる前後の状態の各々で、前記結像光学系で形成された像における前記第1のマークと前記第2のマークとの距離を測定してから、測定された2つの距離で表される装置起因の誤差成分量を、前記相対位置の情報として取得する
ことを特徴とする結像光学系の調整方法。 - 請求項1から請求項3の何れか1項に記載の結像光学系の調整方法において、
前記光学素子は平行平面板であり、
前記光学素子の配置の調整は、前記平行平面板を傾ける方向への調整である
ことを特徴とする結像光学系の調整方法。
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