JP4678772B2 - 半導体製造装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態による半導体製造装置を示す概略図である。
図2は本実施形態による半導体製造装置を示す概略図である。
図3は、本発明に係る純水吐出ノズルを示す断面図である。
図4は、上記第3の実施形態とは別の純水吐出ノズルを示す断面図である。
図5は、本発明に係る半導体製造装置が備える制御部を示す機能ブロック図である。
2 外側現像カップ
3 スピンチャック
4 スピンモータ
5 ノズルバス
6 純水吐出ノズル
7 ソルベントバス
8 現像液吐出ノズル
9 現像処理室
10 シャッタ
11 受け椀付純水吐出ノズル
12 結露した混合溶液
13 液受け椀
14 純水吐出口
15 受け椀に溜まった混合溶液
16 液量監視センサ
17 吸引排出手段
18 吸引排出手段付純水吐出ノズル
19 テフロン(登録商標)チューブ
20 外周管
21 純水吐出ノズル復帰時の移動経路
22 純水吐出ノズル吐出時の移動経路
23 純水吐出ノズル復帰時の移動経路
24 純水吐出ノズル吐出時の移動経路
25 液滴吸着カバー
101 半導体基板
Claims (6)
- 基板を載置するスピンチャックと、その周辺を覆う外側現像カップを備え、現像後の基板上に純水吐出ノズルを、外側現像カップの外の待機位置から外側現像カップを跨いで基板上の純水吐出位置まで移動させて純水を供給し、基板を回転しながら洗浄及び乾燥を行う半導体製造装置において、
前記純水吐出ノズルが:
吐出口近傍の外周を椀状に覆う受け椀と、
前記受け椀の外周を覆う液滴吸着カバーと、
を備えたことを特徴とする半導体製造装置。 - さらに、前記受け椀の内部に蓄積された液滴の量を計測する液量監視センサと、
上記液量監視センサが所定値以上の液滴量を検出したときに当該液滴を吸引する吸引排出手段と、
を備えた請求項1に記載の半導体製造装置。 - 前記受け椀は、前記純水吐出ノズルの側面に付着した液滴を捕集する、請求項1または2に記載の半導体製造装置。
- 前記液滴吸着カバーは、ポリエステル製不織布である、請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体製造装置。
- 前記受け椀は、前記吐出口近傍を底部とする、請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体製造装置。
- 特定加速度での移動について、垂直方向の慣性がより小さくなる方向で、待機位置への復帰移動をする前記純水吐出ノズルを備え、
前記復帰移動が、純水吐出位置から待機位置までの水平移動であり、
前記外側現像カップのノズル通過経路上に、上記純水吐出ノズルの移動に同期して開閉するシャッタを配設した請求項1に記載の半導体製造装置。
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