JP2007317706A - ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、ノズル洗浄プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ノズル30を収容し、少なくともノズル30先端周囲の内周面が漏斗状に形成された洗浄室1と、洗浄室1の漏斗状の内周面に沿って周方向に洗浄液としての溶剤Tを流入する洗浄液供給手段とを備え、ノズル30が洗浄室1内に収容された際、洗浄液供給手段21が洗浄室1内に溶剤Tを所定量供給し、ノズル30の回りを旋回する溶剤Tの渦が形成される。
【選択図】図2
Description
特許文献1に開示の洗浄装置50においては、図8の断面図に示すように処理液のシリンジ(射出器)52が容器51に設けられた開口部51aに固定され、これにより処理液供給ノズル52が容器51中に保持される。容器51には、保持された処理液供給ノズル52を中央にして、洗浄液を吹き付けるための洗浄液ノズル53a、53bが対向する位置に設けられ、これら洗浄液ノズルから吐出された洗浄液により処理液供給ノズル52を前後から洗浄できるようになされている。
したがって、特許文献1に開示のノズル洗浄装置のようにノズルの先端に洗浄液を吹き付ける洗浄方法では、装置構成が複雑になり、高精度な加工・組立及び制御が必要となるため、装置に掛かるコストが高くなるという課題があった。
さらに、洗浄室内に溶剤の渦を形成するために、ノズル先端周囲の内周面を漏斗状とし、その内周面に沿って周方向に溶剤を流入する構成とすることにより、溶剤を流入させるための吐出口は一つで足り、装置に掛かるコストを低減することができる。
尚、ここで前記漏斗状とは、逆円錐形で形成された漏斗状の構成に限らず、半球形で形成された漏斗状の構成でもよい。
このように構成することにより、ノズル先端周りにおいて滞留することのない渦を形成することができ、より効果的にノズル洗浄を行うことができる。
このように構成することにより、第一の溶剤溜部に貯留した溶剤が気化して洗浄室内に溶剤雰囲気を形成することができる。したがって、ノズル待機時においてノズルを溶剤雰囲気中に置くことができ、処理液の乾燥固化を防ぐことができる。
また、洗浄室において、ノズル先端周囲の内周面が漏斗状に形成されているため、ノズル先端ほど周囲の空間が小さくなり、ノズル待機中において溶剤雰囲気の濃度が高く溶剤の結露が発生する場合には、ノズル先端側に結露を生じさせることができる。これにより、よりレジストの乾燥をより防止することができる。一方、レジスト塗布工程に移行する際には、ノズル洗浄を行うことでノズル先端側に生じた結露を除去することができる。
このように、洗浄室により近い位置に第二の溶剤溜部が設けられることによって、そこに貯留した溶剤から気化した溶剤雰囲気が洗浄室に流入し易くなり、より効率的に洗浄室内に溶剤雰囲気を形成することができる。
さらに、洗浄室内に溶剤の渦を形成するために、ノズル先端周囲の内周面を漏斗状とし、その内周面に沿って周方向に溶剤を流入する方法を用いるため、溶剤を流入させる吐出口は一つで足り、装置に掛かるコストを低減することができる。
尚、ここで前記漏斗状とは、逆円錐形で形成された漏斗状の構成に限らず、半球形で形成された漏斗状の構成でもよい。
このようなステップを実行することにより、第一の溶剤溜部に貯留した溶剤が気化して洗浄室内に溶剤雰囲気を形成することができる。したがって、ノズル待機時にノズルを溶剤雰囲気中に置くことができ、処理液の乾燥固化を防ぐことができる。
また、洗浄室において、ノズル先端周囲の内周面が漏斗状に形成されているため、ノズル先端ほど周囲の空間が小さくなり、ノズル待機中において溶剤雰囲気の濃度が高く溶剤の結露が発生する場合には、ノズル先端側に結露を生じさせることができる。これにより、よりレジストの乾燥をより防止することができる。一方、レジスト塗布工程に移行する際には、ノズル洗浄を行うことでノズル先端側に生じた結露を除去することができる。
このように洗浄室により近い位置に設けられた第二の溶剤溜部に溶剤を供給することによって、そこに貯留した溶剤から気化した溶剤雰囲気が洗浄室に流入し易くなり、より効率的に洗浄室内に溶剤雰囲気を形成することができる。
尚、このノズルスキャンアーム31は、ノズル待機部100でノズル30を洗浄するために図示しない鉛直方向駆動機構によって鉛直方向にも移動可能になされている。
先ず、搬送アーム38によりウエハWが開口部39からレジスト塗布装置COTに搬入され、ウエハWはスピンチャックにより吸着保持される。
次いでノズルスキャンアーム31によってノズル30をノズル待機部100から移動し、ノズル30の吐出口を、ウエハWの中心直上部にウエハWと所定の距離をもって位置するように搬送する。
そして、ノズル30は、ノズルスキャンアーム31によってノズル待機部100に移動され、そこで次のウエハWへのレジスト供給処理のために待機するか、或いはノズル洗浄処理が行われる。
図2に示すようにノズル待機部100は、ノズルホルダ35の先端が挿入されることによりノズル30を収容可能な洗浄室1を形成する洗浄容器部2と、この洗浄容器部2の下方に設けられ、溶剤雰囲気を生成する溶剤雰囲気形成部3とを備える。
洗浄容器部2の下端、即ち漏斗部2bの底部には、図3に示すように内直径寸法L1(例えば5mm以下)の開口部2cが形成され、その内直径寸法L1はノズル30先端の外直径寸法L2(例えば2.4mm)よりも大きく形成されている。
また、ノズル30が洗浄容器部2内に配置されたときに、図2に示すようにノズル30先端は開口部2cの上端よりも高い位置に配置され、その距離寸法H1は、0.5〜2mm以下に設定されている。
尚、前記のように開口部2cとノズル30先端との位置関係が設定されるため、ノズル先端周りにおいて滞留することのない渦が形成され、より効果的にノズル洗浄ができるように構成されている。
そして、制御部20は当該プログラムを読み出し、後述のノズル洗浄工程が実施されるよう制御を行う。尚、このノズル洗浄プログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカードなどの記録媒体に記録され収納された状態で制御部20の記憶部に格納される。
ノズル30がノズル待機部100に配置されると、図5(a)に示すように洗浄液供給部21から溶剤Tを第二溶剤溜部7に供給し、その溜部7aから溶剤Tを流路管6にオーバーフローさせる(流路管6に溶剤Tを廃液する)ことにより、さらに第一溶剤溜部8に溶剤Tを貯留する(図4のステップS2)。
尚、前記のようにノズル30のノズル待機部100への配置後、溶剤Tを第一溶剤溜部8、第二溶剤溜部7に貯留するようにしてもよいが、先に溶剤Tを第一溶剤溜部8、第二溶剤溜部7に貯留後、ノズル30をノズル待機部100に配置するようにしてもよい。
尚、ノズル30を洗浄するステップを実行した後においても、第一及び第二溜部7、8には溶剤Tが貯留された状態であるため、洗浄室1内は所定濃度の溶剤雰囲気が形成された状態となっている。したがって、ノズル洗浄後、次のウエハWへのレジスト供給処理工程まで所定時間、洗浄室1内でノズル30を待機させるステップを実行してもよい。
また、ノズル30を洗浄するステップ5の処理において、溶剤Tを第一溶剤溜部8、第二溶剤溜部7に流入させ、溜部に溜った溶剤を定期的に入れ換える処理を行ってもよい。
また、洗浄室1において、ノズル30の先端周囲の内周面が漏斗状に形成されているため、ノズル先端ほど周囲の空間が小さくなり、ノズル待機中において溶剤雰囲気の濃度が高く溶剤の結露が発生する場合には、ノズル先端側に結露を生じさせることができる。これにより、よりレジストの乾燥をより防止することができる。一方、レジスト塗布工程に移行する際には、前記のようにノズル洗浄を行うことでノズル先端側に生じた結露を除去することができる。
また、図示しないが、ノズル先端洗浄後の洗浄室1内の溶剤雰囲気を排出するための吸引口(排出口)を設けることによっても、ノズル先端の乾燥を促進することができ、パーティクルの析出を防ぐことができる。
さらに、洗浄室1内に溶剤Tの渦を形成するために、ノズル先端周囲の内周面を漏斗状とし、その内周面に沿って周方向に溶剤Tを流入する構成とすることにより、溶剤Tを流入させるための吐出口は一つで足り、装置に掛かるコストを低減することができる。
また、前記実施の形態においては、基板の例としてウエハを用いて説明したが、本発明のノズル洗浄装置及びノズル洗浄方法において処理する基板はウエハに限らず、LCD基板等、フォトリソグラフィ工程により現像処理される基板に適用される。
また、処理液を吐出するノズルとしてレジスト供給ノズル30を例に説明したが、本発明のノズル洗浄装置及びノズル洗浄方法においては、レジストを吐出するノズルに限らず、他の種類の処理液を吐出するノズルにも適用可能である。
2 洗浄容器部
3 溶剤雰囲気形成部
4 洗浄液供給管(洗浄液供給手段)
6 流路管
7 第二溶剤溜部(第二の溶剤溜部)
8 第一溶剤溜部(第一の溶剤溜部)
9 廃液管
20 制御部
21 洗浄液供給部(洗浄液供給手段)
30 レジスト供給ノズル(ノズル)
100 ノズル待機部(ノズル洗浄装置)
T 溶剤
W ウエハ(基板)
Claims (10)
- 基板に処理液を吐出するノズルを洗浄するノズル洗浄装置において、
前記ノズルを収容し、少なくともノズル先端周囲の内周面が漏斗状に形成された洗浄室と、前記洗浄室の漏斗状の内周面に沿って周方向に洗浄液としての溶剤を流入する洗浄液供給手段とを備え、
前記ノズルが前記洗浄室内に収容された際、前記洗浄液供給手段が前記洗浄室内に溶剤を所定量供給することにより、前記ノズルの回りを旋回する溶剤の渦が形成されることを特徴とするノズル洗浄装置。 - 前記洗浄室の底部に前記溶剤を廃液する開口部が形成され、
前記開口部の内直径寸法は、前記ノズル先端の外直径寸法よりも大きく形成されていることを特徴とする請求項1に記載されたノズル洗浄装置。 - 前記ノズルが前記洗浄室内に収容された際、該ノズル先端は前記開口部上端よりも高い位置に配置されることを特徴とする請求項2に記載されたノズル洗浄装置。
- 前記洗浄室内に溶剤雰囲気を形成する溶剤雰囲気形成部を備え、
前記溶剤雰囲気形成部は、前記洗浄室の下方において該洗浄室に連通し、前記洗浄液供給手段により供給された溶剤の廃液路となる流路管と、前記流路管の下方に設けられ、該流路管の下端部よりも上方の高さ位置まで前記溶剤を貯留する第一の溶剤溜部とを有し、
前記第一の溶剤溜部に貯留された溶剤が気化することにより前記洗浄室内に溶剤雰囲気が形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載されたノズル洗浄装置。 - 前記溶剤雰囲気形成部は、前記洗浄液溜部よりも上方に、前記流路管に連通する第二の溶剤溜部を有し、
前記洗浄液供給手段により前記第二の溶剤溜部に溶剤を供給することを特徴とする請求項4に記載されたノズル洗浄装置。 - 基板に処理液を吐出するノズルを洗浄するノズル洗浄方法において、
前記ノズルを、少なくともノズル先端周囲の内周面が漏斗状に形成された洗浄室に収容するステップと、
前記洗浄室の漏斗状の内周面に沿って周方向に洗浄液としての溶剤を所定量流入し、前記ノズルの回りを旋回する溶剤の渦を形成することによりノズル洗浄を行うステップとを実行することを特徴とするノズル洗浄方法。 - 前記ノズル洗浄を行うステップの前または後において、
前記洗浄室の下方で該洗浄室に連通する流路管に、前記溶剤を廃液するステップと、
前記流路管の下方に設けられた第一の溶剤溜部に、前記流路管に廃液された溶剤を該流路管の下端部よりも上方の高さ位置まで貯留するステップとを実行し、
前記第一の溶剤溜部に貯留された溶剤が気化することにより前記洗浄室内に溶剤雰囲気が形成されることを特徴とする請求項6に記載されたノズル洗浄方法。 - 前記ノズル洗浄を行うステップの前または後において、
前記洗浄液溜部よりも上方に設けられ、前記流路管に連通する第二の溶剤溜部に溶剤を供給するステップを実行し、
前記第二の溶剤溜部に貯留された溶剤が気化することにより前記洗浄室内に溶剤雰囲気が形成されることを特徴とする請求項6または請求項7に記載されたノズル洗浄方法。 - 前記請求項6乃至請求項8のいずれかに記載されたノズル洗浄方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
- 前記請求項9に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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