JP4670468B2 - マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、基板のエッチング方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents

マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、基板のエッチング方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器 Download PDF

Info

Publication number
JP4670468B2
JP4670468B2 JP2005141514A JP2005141514A JP4670468B2 JP 4670468 B2 JP4670468 B2 JP 4670468B2 JP 2005141514 A JP2005141514 A JP 2005141514A JP 2005141514 A JP2005141514 A JP 2005141514A JP 4670468 B2 JP4670468 B2 JP 4670468B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
curved surface
array plate
microlens array
microlens
lens curved
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005141514A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006317788A (ja
Inventor
宣彦 小澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2005141514A priority Critical patent/JP4670468B2/ja
Publication of JP2006317788A publication Critical patent/JP2006317788A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4670468B2 publication Critical patent/JP4670468B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

本発明は、例えば、液晶装置等の電気光学装置に好適に用いられるマイクロレンズアレイ板及びその製造方法の技術分野に関する。本発明は更に、該マイクロレンズアレイ板を備えた電気光学装置及びその製造方法、並びに該電気光学装置を具備してなる電子機器の技術分野に関する。
液晶装置等の電気光学装置において、例えば対向基板には、各画素に対応するマイクロレンズが作り込まれたり、このような複数のマイクロレンズが作り込まれたマイクロレンズアレイ板が貼り付けられたりする。このようなマイクロレンズアレイ板を利用することで、電気光学装置では明るい表示が実現される。
液晶装置等の電気光学装置で明るい表示を可能とするためには、光源から出射された光を効率よく画素に集光することが重要な技術になり、マイクロレンズの集光性を高めるために、レンズの形状や曲率を工夫するための技術開発が盛んに行われている。特に、マイクロレンズの周辺部における集光性を高めることが重要となってきている。例えば、特許文献1によれば、面積の大きさの異なる複数のレンズからなるマイクロレンズの製造方法が開示されている。また、特許文献2によれば、同軸の2つの異なる曲率半径を有するレンズからなるマイクロレンズの製造方法が開示されている。
特開2003−139915号公報 特開2003−185804号公報
しかしながら、特許文献1に開示されたマイクロレンズの製造方法では、複数のマイクロレンズは1回の工程で形成されるため、これらの曲率半径はすべて等しく形成されることになり、特にマイクロレンズの周辺部における集光性を十分に高めることができない。また、特許文献2に開示されたマイクロレンズの製造方法では、マイクロレンズの周辺部に、その中央部を形成するレンズの曲率半径に比べ、大きな曲率半径を持つレンズ曲面を形成することはできても、同軸であるためマイクロレンズの周辺部における集光性を高めるには限界がある。
このように、従来のマイクロレンズでは、特にその周辺部における集光性を十分に高めることができないという技術的な問題がある。
本発明は、例えば上述した従来の問題点に鑑みなされたものであり、例えばマイクロレンズを複数のレンズから構成することによって画素に対する集光性を更に高めることが可能なマイクロレンズアレイ板及びその製造方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器を提供することを課題とする。
本発明のマイクロレンズアレイ板は、上記課題を解決するために、複数のマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイ板であって、前記複数のマイクロレンズの夫々は、第1屈折率を持つ第1透明媒質から構成されており、第1レンズ曲面を規定すると共に凹及び凸のいずれか一方の形状を有する第1部分と、前記第1透明媒質から前記第1部分と一体的に形成されており、前記マイクロレンズアレイ板上で平面的に見て前記第1レンズ曲面の周辺寄りに位置する第2レンズ曲面を夫々規定すると共に前記一方の形状と同種である凹及び凸のいずれか一方の形状を夫々有する複数の第2部分とを備え、前記第1レンズ曲面をなす球の中心が、前記マイクロレンズアレイ板上で平面的に見て、前記複数のマイクロレンズの夫々の中央部に位置し、前記第2レンズ曲面をなす球の中心が夫々、前記マイクロレンズアレイ板上で平面的に見て、前記第1レンズ曲面をなす球の中心から前記周辺寄りに外れて位置し、前記複数のマイクロレンズの夫々の四隅が夫々、前記第2レンズ曲面により占められており、前記第2レンズ曲面の曲率半径が、前記第1レンズ曲面の曲率半径よりも小さい。
本発明のマイクロレンズアレイ板は、例えば、複数の画素が配列されてなる画素アレイ領域を有する電気光学パネルに対向配置される。電気光学パネルは、例えば、電気光学装置の一例である液晶装置が備える液晶パネルであり、より一般的には、電気光学装置を構成する構成要素のうちバックライトの如き光源を有していない構成要素を含む。
本発明のマイクロレンズアレイ板上に配列されたマイクロレンズの夫々は、例えば、マイクロレンズアレイ板上で平面的に見て、その中央部に第1レンズ曲面を規定する第1部分を備え、その周辺寄りに第2レンズ曲面を夫々規定する複数の第2部分を備える。第1部分と複数の第2部分とは、いずれも第1屈折率を有する第1透明媒質から一体的に構成されており、同種の凹及び凸のいずれか一方の形状、即ち凹凸状を有する。ここに第1及び第2部分について「同種である凹及び凸のいずれか一方」或いは「同種の凹凸状」とは、第1部分が凹であれば第2部分も凹であり、第1部分が凸であれば第2部分も凸であるという意味である。これらの両凹部(又は両凸部)は、好ましくは、滑らかに接続されるが、多少の段差や不連続があってもかまわない。典型的には、第1部分は、一つの第2部分よりも、マイクロレンズアレイ板上で平面的に見て、広い領域を占めるように形成される。いわば、第1部分が主たるレンズとして、第2部分がその補助的な従たるレンズとして機能するように形成される。
仮にマイクロレンズの夫々が第1部分しか備えていない場合、マイクロレンズの周辺部における第1部分によって規定される第1曲面をなす球に接する平面と透明基板(即ちマイクロレンズアレイ板)の表面とのなす角度は、マイクロレンズの中央部における第1部分によって規定される第1レンズ曲面をなす球に接する平面と透明基板の表面とのなす角度よりも大きくなってしまう。このため、マイクロレンズアレイ板に入射する光に対するマイクロレンズの集光性は、マイクロレンズの周辺部では、その中央部における集光性よりも低下してしまう。或いは、マイクロレンズの周辺部では、入射する光に対して斜めに傾斜し過ぎている表面を有するが故に、適切にレンズとして機能しないか、画素の中央部に向けて適切に集光できない。
しかるに、本発明のマイクロレンズアレイ板によれば、第1レンズ曲面の周辺寄りには、複数の第2曲面が位置するので、マイクロレンズの周辺部におけるレンズ曲面、即ち第2曲面をなす球に接する平面と透明基板(即ちマイクロレンズアレイ板)の表面とのなす角度を、マイクロレンズの夫々が第1部分しか備えていない場合よりも小さくすることができる。言い換えれば、マイクロレンズの周辺部におけるレンズ曲面を、透明基板(即ちマイクロレンズアレイ板)に対してなだらかにする、或いは平行に近付けることができる。従って、マイクロレンズの周辺部に入射してくる光について、適切に集光することができる。即ち、例えば、所定屈折率の液晶層を介して対向配置された電気光学パネルの画素アレイ領域に配列された複数の画素の夫々に効率的に集光することができる。
加えて、マイクロレンズの夫々は、第1部分のみならず、複数の第2部分を更に設計パラメータとすることができるので、設計の自由度が高く、より集光性を高めるように設計することが可能である。
更に、本発明によれば、第2レンズ曲面の曲率半径が、第1レンズ曲面の曲率半径よりも小さいので、例えば、第1レンズ曲面をマイクロレンズの中央部に比較的大きく形成する場合などに、その周辺寄りに比較的小さな面積の第2レンズ曲面を容易に形成することができる。即ち、第1レンズ曲面の周辺寄りに複数の第2レンズ曲面を有するマイクロレンズを容易に製造することができる。
本発明のマイクロレンズアレイ板の一態様では、前記複数のマイクロレンズの夫々は、前記第1屈折率と異なる第2屈折率を持つと共に前記第1部分及び前記複数の第2部分を埋める若しくは覆う第2透明媒質を、更に備える。
この態様によれば、第1部分及び複数の第2部分は、第1屈折率と異なる第2屈折率を持つ第2透明媒質によって埋められ若しくは覆われているので、複数のマイクロレンズの各々のレンズとしての機能は、第1レンズ曲面及び第2レンズ曲面の凹凸状に加え、第1屈折率と第2屈折率の大小関係に依存することとなる。このため、設計の自由度が高く、第1屈折率と第2屈折率とを組み合わせることで、より集光性を高めるにように設計することができる。
例えば、第1屈折率を第2屈折率よりも大きく設計すれば、透明基板上に凸状に第1レンズ曲面及び第2レンズ曲面を形成し、これらの表面を低屈折率の第2透明媒質で覆うことにより、凸レンズ構造を得ることができる。
逆に、第1屈折率を第2屈折率よりも小さく設計すれば、透明基板上に凹状の第1レンズ曲面及び第2レンズ曲面を形成し、これらの内部を高屈折の第2透明媒質で満たすことにより、凸レンズ構造を得ることができる。
尚、第2透明媒質は、接着剤でもよいし、接着剤以外の樹脂、空気等でもよい。
本発明の電気光学装置は、上記課題を解決するために上述した本発明のマイクロレンズアレイ板を備えている。
本発明の電気光学装置によれば、本発明のマイクロレンズアレイ板と同様に画素への集光性を高めることができ、表示性能に優れた電気光学装置を提供することができる。また、本発明の電気光学装置は、上述したようにマイクロレンズアレイ板を具備してなるので、光の利用効率を高めることができ、且つ各画素に対する集光性及びコントラストを向上させることも可能である。従って、本発明の電気光学装置は、明るく且つ高コントラスト比を有する、高品質の表示を行うことも可能となる。
本発明の電子機器は、上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置を備えている。
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品位の表示が可能な、投射型表示装置、液晶テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置の他に、電子放出素子を利用した表示装置(Field Emission Display及びSurface-Conduction Electron-Emitter Display)、DLP(Digital Light Processing)等も実現することが可能である。
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
<第1実施形態>
(マイクロレンズアレイ板の構成)
先ず、本実施形態のマイクロレンズアレイ板の概要について、図1から図3を参照して説明する。図1は、マイクロレンズアレイ板の概略構成を示した斜視図である。図2は、マイクロレンズアレイ板が備えるマイクロレンズのうち隣接する4つのマイクロレンズに係る部分を拡大して示した部分拡大平面図である。図3は、図2のA−A’線断面図である。
図1において、本実施形態のマイクロレンズアレイ板20は、透明基板210と、透明基板210上にマトリクス状に平面配列された複数のマイクロレンズ500とを備えて構成される。透明基板210は、例えば石英板等であり、マトリクス状に多数の凹部が形成されている。透明基板210に掘られた凹部には例えば感光性樹脂材料からなる接着剤が充填されている。この接着剤を硬化させることによって接着層230が形成され、透明基板210を覆うように配置されたカバーガラス200と透明基板210とが相互に接着されている。カバーガラス200及び透明基板210を接着する接着剤は、例えば、透明基板210よりも高屈折率の透明な接着層である。ここで、透明基板210は、本発明に係る「第1透明媒質」の一例であり、接着層230は、本発明に係る「第2透明媒質」の一例である。
次にマイクロレンズ500の平面的な形状について説明する。図2に示すように、各マイクロレンズ500の平面的な形状は好ましくは矩形である。各マイクロレンズ500の平面的な形状は、凹部の縁部によって規定されている。そして、図2に示す一のマイクロレンズ500が形成される凹部は、他のマイクロレンズ500が形成された凹部と縁部を共有して隣接する。
図2及び図3において、マイクロレンズ500のレンズ曲面は、相互に屈折率が異なる透明基板210と接着層230とにより概ね規定されている。マイクロレンズ500は、図3において概ね下側に凸状に突出した、集光機能を有する所謂平凸レンズとして構築されている。
(マイクロレンズの構成)
続いて、マイクロレンズアレイ板に適用されるマイクロレンズの構成について、図4から図8を参照して、詳細に説明する。図4は、マイクロレンズを上側から見た平面図である。図5は、図4のT−T’線断面に相当するマイクロレンズの断面形状を模式的に示す模式図である。図6は、比較例における図5と同趣旨の模式図である。図7は、第1変形例における図4と同趣旨の平面図である。図8は、第2変形例における図4と同趣旨の平面図である。
図4及び図5に示すように、マイクロレンズ500は、マイクロレンズアレイ板20上で平面的に見て、その中央部に第1レンズ曲面CS1を規定する第1部分510を備えており、その周辺寄りに第2レンズ曲面CS2を夫々規定する4つの第2部分520を備えている。第1部分510と4つの第2部分520とは、透明基板210から一体的に構成されており、いずれもの凹状を有している。尚、第1レンズ曲面CS1と第2レンズ曲面CS2は、滑らかに接続されているが、多少の段差や不連続があってもかまわない。
図4に示すように、第1部分510は、一つの第2部分520よりも、マイクロレンズアレイ板20上で平面的に見て、広い領域を占めるように形成されている。いわば、第1部分510が主たるレンズとして、第2部分520がその補助的な従たるレンズとして機能するように形成されている。ここで、図4中、点C1は第1部分510がレンズとして機能するレンズ中心を示しており、4つの点C2は、4つの第2部分520の夫々がレンズとして機能するレンズ中心を示している。
図6に示すように、仮にマイクロレンズ500の夫々が第1レンズ曲面CS1を規定する第1部分510しか備えていない場合、マイクロレンズ500の周辺部における第1部分510によって規定される第1曲面CS1をなす球S1に接する平面とマイクロレンズアレイ板20(即ち透明基板210の平坦面)とのなす角度Θ20は、マイクロレンズ500の中央部における第1レンズ曲面CS1をなす球S1に接する平面とマイクロレンズアレイ板20(即ち透明基板210の平坦面)とのなす角度よりも大きくなってしまう。このため、マイクロレンズアレイ板20に入射する光に対するマイクロレンズ500の集光性は、マイクロレンズ500の周辺部では、その中央部における集光性よりも低下してしまう。或いは、マイクロレンズ500の周辺部では、入射する光に対して斜めに傾斜し過ぎている表面を有するが故に、適切にレンズとして機能しないか、中央部に向けて適切に集光できない。
しかるに、図5に示すように、本実施形態のマイクロレンズアレイ板20によれば、第1レンズ曲面CS1の周辺寄りには、複数の第2曲面CS2が位置するので、マイクロレンズ500の周辺部におけるレンズ曲面、即ち第2曲面CS2をなす球S2に接する平面と透明基板210(即ちマイクロレンズアレイ板20)の表面とのなす角度Θ10を、マイクロレンズの夫々が第1部分510しか備えていない場合よりも小さくすることができる。言い換えれば、マイクロレンズ500の周辺部におけるレンズ曲面を、マイクロレンズアレイ板20に対してなだらかにする、或いは平行に近付けることができる。従って、マイクロレンズ500の周辺部に入射してくる光について、適切に集光することができる。即ち、例えば、所定屈折率の液晶層を介して対向配置された電気光学パネルの画素アレイ領域に配列された複数の画素の夫々に効率的に集光することができる。
加えて、マイクロレンズ500の夫々は、第1部分510のみならず、4つの第2部分520を更に設計パラメータとすることができるので、設計の自由度が高く、より集光性を高めるように設計することが可能である。
本実施形態では、マイクロレンズ500の第1部分510及び4つの第2部分520は、それらを一体的に構成する透明基板210の屈折率と比べて高い屈折率を有する接着層230によって埋められているので、複数のマイクロレンズ500の各々のレンズとしての機能は、第1レンズ曲面CS1及び第2レンズ曲面CS2の凹凸状に加え、接着層230の屈折率と透明基板210の屈折率の大小関係に依存することとなる。ここで、透明基板210の屈折率は、本発明に係る「第1屈折率」の一例であり、接着層230の屈折率は本発明に係る「第2屈折率」の一例である。このため、設計の自由度が高く、接着層230と透明基板210の各々の屈折率を組み合わせることで、より集光性を高めるにように設計することができる。
図5に示すように、本実施形態では、接着層230の屈折率は、透明基板210の屈折率よりも大きく設計されており、複数のマイクロレンズ500は、集光機能を有する凸レンズとして構成されている。
図4及び図5に示すように、本実施形態では特に、第1レンズ曲面CS1をなす球S1の中心は、マイクロレンズアレイ板20上で平面的に見て、複数のマイクロレンズ500の夫々の中央部に位置する(図4中、点C1参照)。このため、複数のマイクロレンズ500の夫々の中央部に入射される光は、第1レンズ曲面CS1を規定する第1部分510によって集光される。第1レンズ曲面CS1は、マイクロレンズ500の中央部において、マイクロレンズアレイ基板20の表面に対して、ゆるやかな曲率を持つので、効率的に集光することができる。
更に、図4及び図5に示すように、本実施形態では特に、第2レンズ曲面CS2をなす球S2の中心は夫々、マイクロレンズアレイ板20上で平面的に見て、第1レンズ曲面CS1をなす球S1の中心から周辺寄りに外れて位置している(図4中、点C2参照)。このため、複数のマイクロレンズ500の夫々の第1レンズ曲面CS1の周辺寄りに外れた位置に入射してくる光は、第2レンズ曲面CS2を規定する第2部分520によって集光される。ここで、第2レンズ曲面CS2をなす球S2の中心は夫々、マイクロレンズアレイ板20上で平面的に見て、第1レンズ曲面CS1をなす球S1の中心から周辺寄りに外れて位置する。よって、第2曲面CS2は、マイクロレンズ500の周辺部において、マイクロレンズアレイ基板20の表面に対して、殆ど平行であるので、効率的に集光することができる。
加えて、図4及び図5に示すように、本実施形態では特に、第2レンズ曲面CS2が夫々、複数のマイクロレンズ500の夫々の隅を占めている。即ち、一つのマイクロレンズ500について、4つの第2レンズ曲面CS2が設けられ、一つのマイクロレンズ500の四隅が夫々、第2レンズ曲面CS2により占められることになる。この場合、第2レンズ曲面CS2は、マイクロレンズ500の四隅において、マイクロレンズアレイ基板20の表面に対して、殆ど平行である或いはなだらかであるので、効率的に集光することができる。即ち、マイクロレンズの四隅に入射される光についても、第2レンズ曲面CS2によって確実に集光することができる。
図7に第1変形例として示すように、第2レンズ曲面CS2は、一つのマイクロレンズの四隅のうち、対角に位置する二隅を占めるように形成されてもよい。この場合にも、第1レンズ曲面510しか備えていない場合に比べて、マイクロレンズ500の周辺部におけるレンズ曲面をマイクロレンズアレイ板20に対してなだらかにすることができ、効率よく集光することができる。
或いは、図8に第2変形例として示すように、第2レンズ曲面CS2は、一つのマイクロレンズの四辺の中央部を占めるように形成されてもよい。この場合にも、マイクロレンズ500の周辺部におけるレンズ曲面をマイクロレンズアレイ板20に対してなだらかにすることができ、第1レンズ曲面510しか備えていない場合に比べて、効率よく集光することができる。
更に加えて、図4及び図5に示すように、本実施形態では特に、第2レンズ曲面CS2の曲率半径R2が、第1レンズ曲面CS1の曲率半径R1よりも小さい。このため、第1レンズ曲面CS1をマイクロレンズ500の中央部に比較的大きく形成し、その周辺寄りに比較的小さな面積の第2レンズ曲面CS2を容易に形成することができる。即ち、第1レンズ曲面CS2の周辺寄りに複数の第2レンズ曲面CS2を有するマイクロレンズを容易に製造することができる。
(マイクロレンズアレイ板の製造方法)
次に、本実施形態に係るマイクロレンズアレイ板の製造方法について、図9から図11を参照して説明する。図9及び図10は、本実施形態のマイクロレンズアレイ板の製造プロセスにおけるマイクロアレイ板の断面構造を、順を追って概略的に示す工程図である。法の各工程を示す工程断面図である。図11は、本実施形態に係る第1マスク及び第2マスクの平面形状を示す平面図である。
先ず、図9(a)に示すように、石英基板、ガラス基板等からなる透明基板110上に、CVD(Chemical Vapor Deposition)等により、アモルファスシリコン(a−Si)、ポリシリコン(poly−Si)等からなる膜111aを形成する。
次に、図9(b)に示すように、この膜111aに対し、形成すべき複数のマイクロレンズの各々が有する第1レンズ曲面CS1に対応する第1の個所141a(図11(a)参照)及び形成すべき複数の第2レンズ曲面CS2に対応する複数の第2の個所141b(図11(a)参照)に夫々、エッチングを施すことにより、複数の第1開口部141を開口し、第1マスク111を形成する。尚、図11において、破線510eCS1eは、第1レンズ曲面CS1が形成されることになる部分の輪郭を示したものであり、破線520eCS2eは、第2レンズ曲面CS2が形成されることになる部分の輪郭を示したものである。
次に、図9(c)に示すように、第1マスク111上に、クロム(Cr)等からなる第2マスク前駆体112aをスパッタリング等により形成する。
次に、図9(d)に示すように、第2マスク前駆体112aに対し、硝酸第二セリウムアンモニウム等をエッチャントとしてエッチングを施すことにより、第1の個所141aを含む領域に第2開口部142を開口し、第2マスク112を形成する。この際、硝酸第二セリウムアンモニウム等のエッチャントに対するエッチングレートは、アモルファスシリコン(a−Si)、ポリシリコン(poly−Si)等からなる第1マスク111よりもクロム(Cr)等からなる第2マスク前駆体112aに対して高いので、第1マスク111は、殆ど或いは全くエッチングされない。
次に、図10(a)に示すように、透明基板110に対し、第1マスク111及び第2マスク112を介してエッチングを施すことにより、第1レンズ曲面CS1を規定する第1凹部を部分的に形成する(図10(a)中、符号151a)。
次に、図10(b)に示すように、第2マスク111に対し、硝酸第二セリウムアンモニウム等をエッチャントとしてエッチングを施すことにより、第2マスク111を除去する。
ここで、本実施形態では特に、第1マスク111の厚さは、第2マスク112の厚さよりも薄いので、第1マスク111に開口された第1開口部141に入り込んだ第2マスク112は、第2マスク112を除去する際に、容易に殆ど或いは好ましくは完全に除去される。このため、後述するように第1マスク111を介してエッチングする際に、第1開口部141に残存した第2マスク112の一部分によって、エッチングが十分にできなくなる或いは複数のマイクロレンズ間で均一にできなくなることを防止することができる。
次に、図10(c)に示すように、透明基板110に対し、第1マスク111を介してエッチングを施し、第1凹部151及び、複数の第2レンズ曲面CS2を夫々規定する複数の第2凹部152を形成する。
次に、図10(d)に示すように、例えば有機アルカリ系剥離液等を用いて、第1マスク111を除去する。
その後、第1凹部151及び第2凹部152内に透明媒質を充填して、或いは、凹部を型に用いて、マイクロレンズアレイ板を製造できる。更に、このようなマイクロレンズが形成された基板を2枚用意して、相互に貼り合わせることにより、両凸レンズのマイクロレンズアレイ板を製造することもできる。
以上の結果、上述した本実施形態のマクロレンズアレイ板20を製造することができる。特に、第1マスク111及び第2マスク112の2種類のマスクを用いるので、比較的容易に製造することができる。このようにして製造されるマイクロレンズアレイ板20は、例えばアレイ状或いはマトリクス状に画素が配列された電気光学装置に好適に用いることができ、画素毎の表示輝度を均一に高めることができる。
(電気光学装置)
次に、本発明に係るマイクロレンズアレイ板が適用された電気光学装置について、図12及び図13を参照して説明する。図12は、TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板として用いられるマイクロレンズアレイ板側から見た平面図であり、図13は、図12のH−H’断面図である。ここでは、電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
図12及び図13において、液晶装置80では、TFTアレイ基板10と対向基板として用いられるマイクロレンズアレイ板20とが対向配置されている。TFTアレイ基板10とマイクロレンズアレイ板20との間に液晶層50が封入されており、TFTアレイ基板10とマイクロレンズアレイ板20とは、画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。
シール材52は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてTFTアレイ基板10上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、シール材52中には、TFTアレイ基板10とマイクロレンズアレイ板20との間隔(基板間ギャップ)を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。即ち、本実施形態の電気光学装置は、プロジェクタのライトバルブ用として小型で拡大表示を行うのに適している。
シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、マイクロレンズアレイ板20側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜53の一部又は全部は、TFTアレイ基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
画像表示領域10aの周辺に位置する周辺領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられている。また、走査線駆動回路104は、この一辺に隣接する2辺に沿い、且つ、前記額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域10aの両側に設けられた二つの走査線駆動回路104間をつなぐため、TFTアレイ基板10の残る一辺に沿い、且つ、前記額縁遮光膜53に覆われるようにして複数の配線105が設けられている。
また、マイクロレンズアレイ板20の4つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材106が配置されている。他方、TFTアレイ基板10にはこれらのコーナー部に対向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、TFTアレイ基板10とマイクロレンズアレイ板20との間で電気的な導通をとることができる。
図13において、TFTアレイ基板10上には、画素スイッチング用のTFTや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極9a上に、配向膜が形成されている。他方、詳細な構成については後述するが、マイクロレンズアレイ板20上には、対向電極21の他、格子状又はストライプ状の遮光膜23、更には最上層部分に配向膜が形成されている。また、液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
尚、図12及び図13に示したTFTアレイ基板10上には、これらのデータ線駆動回路101、走査線駆動回路104等に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
次に、以上の如く構成された電気光学装置における回路構成及び動作について、図14を参照して説明する。図14は、電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路を示す回路図である。
図14において、液晶装置80の画像表示領域10aを構成するマトリクス状に形成された複数の画素には、それぞれ、画素電極9aと当該画素電極9aをスイッチング制御するためのTFT30とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線6aが当該TFT30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
また、TFT30のゲートにゲート電極3aが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線11a及びゲート電極3aにパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極9aは、TFT30のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT30を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。
画素電極9aを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、マイクロレンズアレイ板20に形成された対向電極21との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射する。
ここで保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極9aと対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70を付加する。この蓄積容量70は、走査線11aに並んで設けられ、固定電位側容量電極を含むとともに定電位に固定された容量電極300を含んでいる。
次に、上述した液晶装置80に設けられたマイクロレンズアレイ板20の詳細な構成と、その機能について図15及び図16を参照して説明する。図15は、マイクロレンズアレイ板20における、遮光膜23及びマイクロレンズ500の配置関係を模式的に示す平面図であって、図16は、複数の画素について、図13に示す断面の構成をより詳細に示す図であって、各マイクロレンズ500の機能について説明するための断面図である。
図16において、マイクロレンズアレイ板20において、透明基板210上に、例えば図15に示すように格子状の平面パターンを有する遮光膜23が形成される。マイクロレンズアレイ板20において、遮光膜23によって非開口領域が規定され、遮光膜23によって区切られた領域が開口領域700となる。尚、遮光膜23をストライプ状に形成し、該遮光膜23と、TFTアレイ基板10側に設けられる容量電極300やデータ線6a等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
各マイクロレンズ500は各画素に対応するように配置される。より具体的には、図15に示すように、マイクロレンズアレイ板20において、各画素毎に開口領域700及び該開口領域700の周辺に位置する非開口領域を少なくとも部分的に含む領域に矩形状の平面形状を有するマイクロレンズ500が形成されている。
また、図16において、透明基板210上には遮光膜23を覆うように、透明導電膜からなる対向電極21が形成されている。更に、図16には図示しない配向膜が対向電極21上に形成されている。加えて、透明基板210上の各開口領域700にカラーフィルタが形成されてもよい。
他方、図16において、TFTアレイ基板10上の各開口領域700に対応する領域には画素電極9aが形成されている。また、画素スイッチング用のTFT30や、画素電極9aを駆動するための走査線11aやデータ線6a等の各種配線並びに蓄積容量70等の電子素子が、非開口領域に形成されている。このように構成すれば、液晶装置80における画素開口率を比較的大きく維持することが可能となる。更に、図16には図示しないが画素電極9a上には配向膜が設けられている。
図16において、マイクロレンズアレイ板20に入射される投射光等の光は、各マイクロレンズ500によって集光される。尚、図16中、一点鎖線によってマイクロレンズ500によって集光された光の様子を概略的に示してある。そして、各マイクロレンズ500によって集光された光は、液晶層50を透過して画素電極9aに照射され、該画素電極9aを通過して表示光としてTFTアレイ基板10より出射される。ここで、本実施形態では特に、マイクロレンズ500のレンズ曲面は、上述したように第1レンズ曲面CS1とその周辺寄りの4つの第2レンズ曲面CS2を備えているので、マイクロレンズ500の周辺部におけるレンズ曲面は、マイクロレンズアレイ板210に対してなだらかになっている。よって、マイクロレンズアレイ板20に入射された光のうち非開口領域に向かう光も、マイクロレンズ500の集光作用により開口領域700に効率よく入射させ、光の利用効率を高めることができ、且つ各画素に対する集光性及びコントラストを向上させることも可能である。従って、本実施形態に係る一例である液晶装置80は、明るく且つ高コントラスト比を有する、高品質の表示を行うことができる。
以上説明した本実施形態に係る電気光学装置の一例である液晶装置80において、データ線駆動回路101や走査線駆動回路104をTFTアレイ基板10の上に設ける代わりに、例えばTAB(Tape Automated bonding)基板上に実装された駆動用LSIを、外部回路接続端子102に異方性導電フィルムを介して電気的及び機械的に接続するようにしてもよい。また、マイクロレンズアレイ板20の投射光が入射する側及びTFTアレイ基板10の出射光が出射する側には各々、例えば、TN(Twisted Nematic)モード、VA(Vertically Aligned)モード、PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)モード等の動作モードや、ノーマリーホワイトモード/ノーマリーブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板などが所定の方向で配置されてもよい。
尚、上述した電気光学装置では、対向基板として図1から図5に示した如きマイクロレンズアレイ板20を用いているが、このようなマイクロレンズアレイ板20を、TFTアレイ基板10として利用することも可能である。或いは対向基板として(マイクロレンズアレイ板20ではなく)単純にガラス基板等に対向電極や配向膜が形成されたものを使用して、TFTアレイ基板10側にマイクロレンズアレイ基板20を取り付けることも可能である。即ち、本発明のマイクロレンズは、TFTアレイ基板10側に作り込むこと或いは取り付けることが可能である。
また、図16には、電気光学装置において、各マイクロレンズ500を凸状に突出した曲面を同図中下側に向けて配置する構成を示してあるが、図17に示すように、各マイクロレンズ500を凸状に突出した曲面を同図中上側に向けて配置するようにしてもよい。図17は、この場合のマイクロレンズ500の構成を示す、図16と同様の断面図である。図17において、カバーガラス200上に遮光膜23等が、例えば図16と同様に形成される。
(電子機器)
上述した電気光学装置をライトバルブとして用いた電子機器の一例たる投射型カラー表示装置の実施形態について、その全体構成、特に光学的な構成について説明する。ここに、図18は、投射型カラー表示装置の図式的断面図である。
図18において、投射型カラー表示装置の一例たる液晶プロジェクタ1100は、駆動回路がTFTアレイ基板上に搭載された液晶装置を含む液晶モジュールを3個用意し、それぞれRGB用のライトバルブ100R、100G及び100Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ1100では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット1102から投射光が発せられると、3枚のミラー1106及び2枚のダイクロックミラー1108によって、RGBの三原色に対応する光成分R、G及びBに分けられ、各色に対応するライトバルブ100R、100G及び100Bにそれぞれ導かれる。この際特に、B光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123及び出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。そして、ライトバルブ100R、100G及び100Bによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分は、ダイクロックプリズム1112により再度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリーンにカラー画像として投射される。
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴うマイクロレンズアレイ板、該マイクロアレイ板の製造方法、該マイクロアレイ板を備えた電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、該電気光学装置を具備してなる電子機器、及び基板のエッチング方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
第1実施形態に係るマイクロレンズアレイ板の概略構成を示した斜視図である。 第1実施形態に係るマイクロレンズアレイ板が一部分を拡大した示す部分拡大平面図である。 図2のA−A’線断面図である。 第1実施形態に係るマイクロレンズを上側から見た平面図である。 第1実施形態に係るマイクロレンズの断面形状を模式的に示す模式図である。 比較例における図5と同趣旨の模式図である。 第1変形例における図4と同趣旨の平面図である。 第2変形例における図4と同趣旨の平面図である。 第1実施形態に係るマイクロレンズアレイ板の製造方法を、順を追って示す製造工程断面図(その1)である。 第1実施形態に係るマイクロレンズアレイ板の製造方法を、順を追って示す製造工程断面図(その2)である。 第1実施形態に係る第1マスク及び第2マスクの平面形状を示す平面図である。 TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板として用いられるマイクロレンズアレイ板側から見た平面図である。 図12のH−H’断面図である。 電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路を示す回路図である。 第1実施形態に係るマイクロレンズアレイ板における、遮光膜及びマイクロレンズの配置関係を模式的に示す平面図である。 図13に示す断面の構成をより詳細に示した断面図である。 各マイクロレンズの配置について説明するための断面図である。 本発明に係る電子機器の一例を示す断面図である。
符号の説明
20…マイクロレンズアレイ板、110、210…透明基板、111…第1マスク、112…第2マスク、230…接着層、500…マイクロレンズ、510…第1部分、520…第2部分、CS1…第1レンズ曲面、CS2…第2レンズ曲面

Claims (4)

  1. 複数のマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイ板であって、
    前記複数のマイクロレンズの夫々は、
    第1屈折率を持つ第1透明媒質から構成されており、第1レンズ曲面を規定すると共に凹及び凸のいずれか一方の形状を有する第1部分と、
    前記第1透明媒質から前記第1部分と一体的に形成されており、前記マイクロレンズアレイ板上で平面的に見て前記第1レンズ曲面の周辺寄りに位置する第2レンズ曲面を夫々規定すると共に前記一方の形状と同種である凹及び凸のいずれか一方の形状を夫々有する複数の第2部分と
    を備え
    記第1レンズ曲面をなす球の中心が、前記マイクロレンズアレイ板上で平面的に見て、前記複数のマイクロレンズの夫々の中央部に位置し、
    前記第2レンズ曲面をなす球の中心が夫々、前記マイクロレンズアレイ板上で平面的に見て、前記第1レンズ曲面をなす球の中心から前記周辺寄りに外れて位置し、
    前記複数のマイクロレンズの夫々の四隅が夫々、前記第2レンズ曲面により占められており、
    前記第2レンズ曲面の曲率半径が、前記第1レンズ曲面の曲率半径よりも小さい
    ことを特徴とするマイクロレンズアレイ板。
  2. 前記複数のマイクロレンズの夫々は、前記第1屈折率と異なる第2屈折率を持つと共に前記第1部分及び前記複数の第2部分を埋める若しくは覆う第2透明媒質を、更に備えたことを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイ板。
  3. 請求項1又は2に記載のマイクロレンズアレイ板を備えたことを特徴とする電気光学装置。
  4. 請求項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
JP2005141514A 2005-05-13 2005-05-13 マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、基板のエッチング方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器 Expired - Fee Related JP4670468B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005141514A JP4670468B2 (ja) 2005-05-13 2005-05-13 マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、基板のエッチング方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005141514A JP4670468B2 (ja) 2005-05-13 2005-05-13 マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、基板のエッチング方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006317788A JP2006317788A (ja) 2006-11-24
JP4670468B2 true JP4670468B2 (ja) 2011-04-13

Family

ID=37538510

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005141514A Expired - Fee Related JP4670468B2 (ja) 2005-05-13 2005-05-13 マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、基板のエッチング方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4670468B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5797014B2 (ja) * 2011-05-26 2015-10-21 株式会社沖データ レンズユニット、ledヘッド、画像形成装置および読取装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05283663A (ja) * 1992-04-01 1993-10-29 Sony Corp 固体撮像装置
JPH0763904A (ja) * 1993-08-25 1995-03-10 Asahi Glass Co Ltd 複合球面マイクロレンズアレイ及びその製造方法
JPH1048403A (ja) * 1996-07-30 1998-02-20 Nec Corp モノリシックレンズの製造方法
JPH11245266A (ja) * 1997-12-26 1999-09-14 Micro Opt:Kk 樹脂正立等倍レンズアレイおよびその製造方法
JP2003185804A (ja) * 2001-12-20 2003-07-03 Seiko Epson Corp マイクロレンズ及びその製造方法並びに電気光学装置
JP2003279949A (ja) * 2002-03-20 2003-10-02 Seiko Epson Corp マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置
JP2004145252A (ja) * 2002-08-30 2004-05-20 Seiko Epson Corp 透過型スクリーン及びリア型プロジェクタ
JP2004251992A (ja) * 2003-02-18 2004-09-09 Hoya Corp マイクロレンズ付基板の製造方法、液晶表示パネルの対向基板の製造方法及び液晶パネルの製造方法
JP2004347693A (ja) * 2003-05-20 2004-12-09 Seiko Epson Corp マイクロレンズアレイ、空間光変調装置、プロジェクタ及びマイクロレンズアレイの製造方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05283663A (ja) * 1992-04-01 1993-10-29 Sony Corp 固体撮像装置
JPH0763904A (ja) * 1993-08-25 1995-03-10 Asahi Glass Co Ltd 複合球面マイクロレンズアレイ及びその製造方法
JPH1048403A (ja) * 1996-07-30 1998-02-20 Nec Corp モノリシックレンズの製造方法
JPH11245266A (ja) * 1997-12-26 1999-09-14 Micro Opt:Kk 樹脂正立等倍レンズアレイおよびその製造方法
JP2003185804A (ja) * 2001-12-20 2003-07-03 Seiko Epson Corp マイクロレンズ及びその製造方法並びに電気光学装置
JP2003279949A (ja) * 2002-03-20 2003-10-02 Seiko Epson Corp マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置
JP2004145252A (ja) * 2002-08-30 2004-05-20 Seiko Epson Corp 透過型スクリーン及びリア型プロジェクタ
JP2004251992A (ja) * 2003-02-18 2004-09-09 Hoya Corp マイクロレンズ付基板の製造方法、液晶表示パネルの対向基板の製造方法及び液晶パネルの製造方法
JP2004347693A (ja) * 2003-05-20 2004-12-09 Seiko Epson Corp マイクロレンズアレイ、空間光変調装置、プロジェクタ及びマイクロレンズアレイの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006317788A (ja) 2006-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100726753B1 (ko) 마이크로렌즈의 제조 방법, 마이크로렌즈, 마이크로렌즈어레이, 전기 광학 장치 및 전자 기기
JP3938099B2 (ja) マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ、マイクロレンズアレイ板、電気光学装置及び電子機器
US7088415B2 (en) Electro-optic panel and manufacturing method thereof
JP2007248494A (ja) マイクロレンズ基板及びその製造方法、電気光学装置並びに電子機器
JP2007171858A (ja) マイクロレンズの製造方法及びマイクロレンズ基板、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置、並びに電子機器
US7505190B2 (en) Electro-optical device substrate, electro-optical device, and electronic apparatus
JP4956903B2 (ja) マイクロレンズ基板及びその製造方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器
JP2007333771A (ja) 電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器
JP4161582B2 (ja) マイクロレンズアレイ板、電気光学装置、及び電子機器
JP4670468B2 (ja) マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、基板のエッチング方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器
JP2007248493A (ja) 電気光学装置、及びこれを備えた電子機器
JP4315084B2 (ja) マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、並びにこれを備えた電気光学装置及び電子機器
JP4333373B2 (ja) マイクロレンズの製造方法及びマイクロレンズ、並びにこれを備えた電気光学装置及び電子機器
JP4196609B2 (ja) 電気光学装置及び電子機器
JP4333529B2 (ja) マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、並びに電気光学装置及び電子機器
JP3937773B2 (ja) 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器
JP2005215624A (ja) マイクロレンズの製造方法及びマイクロレンズ、並びにこれを備えた電気光学装置及び電子機器
JP2006039263A (ja) マイクロレンズアレイ板、並びに電気光学装置及び電子機器
JP2004070283A (ja) マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ、マイクロレンズアレイ板、電気光学装置及び電子機器
JP5011894B2 (ja) プリズム、電気光学装置、及びプロジェクタ
JP2013242360A (ja) マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、及び電子機器
JP2006330142A (ja) マイクロレンズ基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、及びマイクロレンズ基板、並びに電気光学装置及び電子機器
JP4710935B2 (ja) 電気光学装置及び電子機器
JP2005221548A (ja) マイクロレンズの製造方法及びマイクロレンズ、並びにこれを備えた電気光学装置及び電子機器
JP2007171856A (ja) マイクロレンズの製造方法及びマイクロレンズ基板、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置、並びに電子機器

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080424

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100810

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100817

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100830

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101109

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101203

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101221

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110103

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140128

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees