JP4626018B2

JP4626018B2 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置

Info

Publication number: JP4626018B2
Application number: JP2000200353A
Authority: JP
Inventors: 和人下田; 裕之沖田; 純一大迫
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2000-06-30
Filing date: 2000-06-30
Publication date: 2011-02-02
Anticipated expiration: 2020-06-30
Also published as: JP2002015859A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示素子や発光素子等として利用される有機エレクトロルミネッセンス素子を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ表示装置）に関する。
【０００２】
【従来の技術】
エレクトロルミネッセンス素子（以下ＥＬ素子と呼ぶ。）は、蛍光性化合物に電場を加えることで励起し、発光させる素子である。そして、ＥＬ素子は自己発光性であるため視認性が高く、また完全固体素子であるため、耐衝撃性に優れている等の特徴を有することから、発光材料として無機及び有機化合物を用いた種々のＥＬ素子が研究、開発されている。このようなＥＬ素子は、使用する蛍光性化合物により無機ＥＬ素子と、有機ＥＬ素子とに分類できる。
【０００３】
そのうち、有機ＥＬ素子は、外部から電子とホール（正孔）とを注入し、それらが有機化合物からなる発光層中で再結合し、このときの再結合エネルギーによって発光中心を励起するものである。また、有機ＥＬ素子は、直流で動作し、且つ無機ＥＬ素子に比べるとはるかに低電圧で駆動する。また、発光層及びキャリア輸送層を陰極及び陽極の両電極で挟んだサンドイッチ構造であり、電極の少なくとも一方を透明にすることよって、面状発光体を得ることができる等の特徴を有する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述したような有機ＥＬ素子の用途としては、薄膜パネル、ベルト状、円筒状等の種々の形状、例えば線、図面、画像等の表示用途があり、このような用途に使用する有機ＥＬ素子を作製するには、基板として、薄く且つ可撓性を有する基板を用いるのが好ましい。このような薄く且つ可撓性を有する基板として、例えば、特開平２−２５１４２９号公報や特開平６−１２４７８５号公報では、高分子フィルムが用いられている。しかしながら、これらの有機ＥＬ素子の場合は、基板である高分子フィルムを透過して有機ＥＬ素子内に侵入する酸素や水蒸気により有機膜が劣化してしまうため、発光特性が不十分となり、また、耐久性に不安がある。すなわち、良好な可撓性を備え、且つ発光特性及び耐久性に優れた有機ＥＬ素子及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置と呼ぶ。）は、まだ確立されていないのが現状である。
【０００５】
したがって、本発明は、上述した従来の実情に鑑みて創案されたものであり、良好な可撓性を備え、且つ発光特性及び耐久性に優れた有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置と呼ぶ。）は、略矩形状に形成された画面部と、当該画面部を駆動する回路部と、上記画面部と上記回路部とを収納可能な収納部とを備える。画面部は、略矩形状に形成された厚みが５０μｍ以上５００μｍ以下のフィルム状のステンレス基板上に、厚みが５００μｍ以下の窒化ケイ素又は窒化アルミニウムからなる絶縁層と第１電極と有機化合物からなる発光材料を有する有機エレクトロルミネッセンス層と厚みが３μｍ以上１０μｍ以下のＴｉＮからなる第２電極とをこの順で備える当該有機エレクトロルミネッセンス素子と、該有機エレクトロルミネッセンス素子と回路部とを接続する配線と、ステンレス基板の第１電極が形成されている側とは反対側の面に形成された撥水性を有する保護シートと、該画面部の巻回状態を保持する保持手段とを有し、収納部に巻回収納可能とされてなる。絶縁層と、第１電極と、有機エレクトロルミネッセンス層と、第２電極とを備える構造体がステンレス基板上に直接形成されてなる。画面部の一側端部に沿って上記回路部が設けられ、エレクトロルミネッセンス素子と回路部とが、画面部の一側端部と対向する第１の辺と略直交する第２の辺及び第３の辺と平行に直線状に配され、エレクトロルミネッセンス素子の陽極と電気的に接続された縦配線と、エレクトロルミネッセンス素子から第２の辺及び第３の辺に向かって第１の辺に平行に直線状に引き出され、第１の辺と略直交する方向に折曲げられ、第２の辺及び第３の辺に平行に直線状に配され、エレクトロルミネッセンス素子の陰極と電気的に接続された横配線とによって電気的に接続される。画面部は、保護シートを外側にして回路部が配された一側端部と直交する方向に巻回され、巻回した最外周側の端部を保持手段で保持し、巻回状態を維持して上記収納部に収納可能とされてなる。
【０００７】
有機ＥＬ素子は、基板としてフィルム状金属基板が用いられているため、酸素や水蒸気等が基板を透過して有機ＥＬ素子内に侵入・拡散することが防止される。したがって、有機ＥＬ素子の外部の酸素や水蒸気等が有機ＥＬ素子内に侵入・拡散することにより、有機ＥＬ素子内部が劣化することがない。
【０００８】
また、この有機ＥＬ素子は、基板としてフィルム状金属基板を用いているため、従来のガラス基板を用いた有機ＥＬ素子と比較して大幅に軽量化される。
【０００９】
そして、この有機ＥＬ素子は、フィルム状金属基板を用いているため、フィルム状金属基板が有する可撓性により有機ＥＬ素子自体も優れた可撓性を有するものとされる。そして、有機ＥＬ素子は、可撓性を有することにより、この有機ＥＬ素子を用いて種々の機器を構成した場合、例えばディスプレイ等を構成した場合において、丸めて収納することが可能となるなど、種々の使用形態に対応可能とされる。
【００１０】
さらに、この有機ＥＬ素子は、ガラス基板に比べて落下等の衝撃に対する耐衝撃性に優れるフィルム状金属基板を用いているため、耐衝撃性に優れたものとされる。
【００１１】
また、この有機ＥＬ素子では、当該有機ＥＬ素子を構成する構造体が基板上に直接成膜されて素子を形成している。したがって、この有機ＥＬ素子は、素子の厚みが薄いものとされる。そして、有機ＥＬ素子の厚みが薄くなることにより、有機ＥＬ素子を用いて機器を構成する際に機器の小型化が可能とされ、機器構成の自由度が大きくなる。
【００１２】
また、有機ＥＬ素子自体の厚みが薄くされることにより、有機ＥＬ素子の可撓性がさらに良好なものとされ、この有機ＥＬ素子を用いて種々の機器を構成した場合の使用形態がさらに広がる。
【００１３】
そして、この有機ＥＬ素子では、多層薄膜が基板上に直接成膜されるため、有機ＥＬ素子作製の工程が簡便なものとされ、生産効率に優れたものとされる。
【００１５】
本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、その画面部が可撓性を有するフィルム状金属基板上に形成された有機ＥＬ素子を備えて構成されている。したがって、画面部は、可撓性を有することとなり、この可撓性により画面部は巻回収納が可能とされる。
【００１６】
また、この有機ＥＬ表示装置子では、画面部を構成する有機ＥＬ素子が基板上に直接成膜されて素子を形成している。したがって、この有機ＥＬ素子は、素子の厚みが薄いものとされる。そして、有機ＥＬ素子の厚みが薄くなることにより、画面部の厚みを薄くすることができるため、種々の使用形態に対応することが可能となる。
【００１７】
そして、この有機ＥＬ表示装置では、有機ＥＬ素子を構成する際に多層薄膜が基板上に直接成膜されるため、製造工程が簡便なものとされ、生産効率に優れたものとされる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を適用した有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と呼ぶ。）について図面を参照して詳説する。
【００１９】
図１は、本発明を適用した有機ＥＬ素子の一構成例を示した要部断面図である。
【００２０】
有機ＥＬ素子１は、フィルム状金属基板２と、フィルム状金属基板２上に形成された絶縁層３と、絶縁層３上に形成された陰極である第１電極４と、第１電極４上に形成された有機ＥＬ層１０と、有機ＥＬ層１０上に形成された陽極である第２電極８と、第２電極８上に形成された保護層９とを備えて構成される。
【００２１】
フィルム状金属基板２は、有機ＥＬ素子１の支持体となるものであり、このフィルム状金属基板２上に有機ＥＬ素子１を構成する各層が形成される。この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いることを特徴とする。
【００２２】
この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、酸素や水蒸気等が基板を透過することを防止することができる。すなわち、この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、有機ＥＬ素子１の外部の酸素や水蒸気等が基板を透過して有機ＥＬ素子１内に侵入することを防止することができる。有機ＥＬ素子では、有機ＥＬ素子の外部から酸素や水蒸気等が有機ＥＬ素子内に侵入すると、これらにより有機ＥＬ素子を構成する各層、特に有機ＥＬ層が劣化してしまう。しかしながら、この有機ＥＬ素子１では基板としてフィルム状金属基板２を用いることにより基板を透過して酸素や水蒸気等が有機ＥＬ素子１内に侵入することが防止されるため、外部から基板を透過して侵入した酸素や水蒸気等により、有機ＥＬ素子１を構成する各層、特に有機ＥＬ層１０が劣化することを防止することができる。したがって、この有機ＥＬ素子１は、有機ＥＬ素子１内の劣化に起因した発光特性や耐久性の劣化が防止され、発光特性に優れ、また、耐久性に優れた有機ＥＬ素子１とされる。
【００２３】
また、この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、従来のガラス基板を用いた有機ＥＬ素子に比べて、大幅に軽量化される。これにより、当該有機ＥＬ素子１を用いて種々の機器を構成した場合、例えば大型ディスプレイ等を構成した場合においても、機器を軽量化することが可能となるため、機器設計の自由度を大きくすることが可能とされる。
【００２４】
そして、この有機ＥＬ素子１では、基板として良好な可撓性を有するフィルム状金属基板２を用いているため、有機ＥＬ素子１自体も可撓性を備えることとなる。すなわち、この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、従来のガラス板等を基板として用いた場合と異なり、フィルム状金属基板２自体の有する可撓性により有機ＥＬ素子１を良好な可撓性を有するものとすることができる。そして、この有機ＥＬ素子１は、基板としてフィルム状金属基板２を用いることにより良好な可撓性を有するものとされるため、当該有機ＥＬ素子１を用いて種々の機器を構成した場合、例えばディスプレイ等を構成した場合において、丸めて収納することが可能となるなど種々の使用形態をとることが可能となる。
【００２５】
さらに、フィルム状金属基板２は、ガラス基板のような脆性を示すことがない。したがって、このようなフィルム状金属基板２を用いた有機ＥＬ素子１は、従来のガラス基板を用いた有機ＥＬ素子と比較して、落下等、外部からの衝撃により割れ易い、すなわち、壊れ易いということがなく、外部からの衝撃に対する耐衝撃性を大幅に向上させることができる。
【００２６】
フィルム状金属基板２に用いる材料としては、例えばステンレス、Ｆｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕやこれらの合金等、常温・常圧においてフィルム状態とすることが可能な金属であれば何れの金属も用いることができる。
【００２７】
ここで、フィルム状金属基板２の厚みは、５０μｍ以上５００μｍ以下とすることが好ましい。これは、フィルム状金属基板２の厚みを５０μｍ未満とした場合には、フィルム状金属基板２自体が十分な平坦性を保持することが難しいため、有機ＥＬ素子１を構成した際に、有機ＥＬ素子１の良好な平坦性を維持することが困難になる虞があるからである。また、フィルム状金属基板２の厚みを５００μｍよりも厚くした場合には、フィルム状金属基板２自体を自由に曲げることが困難になる、すなわちフィルム状金属基板２自体の可撓性が乏しくなるため、有機ＥＬ素子１を構成した際に、有機ＥＬ素子１の可撓性が悪くなるからである。
【００２８】
絶縁層３は、フィルム状金属基板２上に直接形成されており、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４とを絶縁するものである。この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４とを絶縁しないと、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４とが短絡してしまう虞がある。また、この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４とを絶縁しないと、有機ＥＬ素子１を複数形成することにより機器を構成した場合等においてフィルム状金属基板２により陰極である第１電極４同士が短絡してしまう虞がある。したがって、これらの理由から、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４とを絶縁することが必要となる。
【００２９】
そこで、この有機ＥＬ素子１では、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４との間に絶縁層３を設けることによって、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４とが絶縁されているため、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４とが短絡すること、また、複数の有機ＥＬ素子１により機器を構成した場合等においてフィルム状金属基板２により陰極である第１電極４同士が短絡することが防止される。
【００３０】
絶縁層３に用いる材料としては、ＳｉＮやＡｌＮ等の窒化物、ＳｉＯ₂やＡｌ₂Ｏ₃等の酸化物、有機系高分子材料等を用いることができる。その中でも、特に酸素を含有しない窒化物を用いることが好ましい。酸素を含有しない窒化物を絶縁層３の材料として用いることにより、絶縁層３内の酸素が有機ＥＬ素子１内に拡散する虞が皆無とすることができ、絶縁層３内から有機ＥＬ素子１内に酸素が拡散し、有機ＥＬ素子１を構成する各層、特に有機ＥＬ層１０を劣化させることを防止することができる。
【００３１】
また、絶縁層３の厚みは、例えば５００ｎｍ程度とすることが好ましい。絶縁層３の厚みが、５００ｎｍよりも大幅に薄い場合には、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４とを確実に絶縁することができない虞があり、その場合、フィルム状金属基板２と陰極である第１電極４とが短絡してしまう虞があるからである。また、絶縁層３の厚みが、５００ｎｍよりも大幅に厚い場合には、絶縁層３の平坦性が悪くなり、絶縁層３上に形成される有機ＥＬ素子１の各層の平坦性も同様に悪くなる。その結果、有機ＥＬ素子１自体の平坦性が悪くなり、この有機ＥＬ素子１の平坦性の悪さに起因して有機ＥＬ素子１の特性が劣化する虞があるからである。
【００３２】
陰極である第１電極４に用いる陰極材料としては、効率良く電子を注入するために、電極材料の真空準位からの仕事関数が小さい金属を用いるのが好ましい。
【００３３】
具体的には、アルミニウム、インジウム、マグネシウム、銀、カルシウム、バリウムリチウム等の仕事関数が小さい金属を単体で用いても良く、またこれらの金属を他の金属との合金として安定性を高めて使用しても良い。
【００３４】
有機ＥＬ層は、電子輸送層と５、発光層６と、正孔輸送層７とを備えて構成され、これら各層がこの順で陰極である第１電極４上に形成されてなる。
【００３５】
電子輸送層５は、陰極である第１電極４から注入された電子を発光層６まで輸送する。電子輸送層５の材料として使用可能な材料としては、キノリン、ペリレン、ビススチリル、ピラジン、又はこれらの誘導体が挙げられる。
【００３６】
具体的には、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム、アントラセン、ナフタリン、フェナントレン、ピレン、クリセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
【００３７】
発光層６では、電子と正孔が結合して、その結合エネルギーが光として放射される。図１においては、発光層６が独立して設けられているが、正孔輸送層７と発光層６とを兼ねた正孔輸送性発光層や、電子輸送層５と発光層６とを兼ねた電子輸送性発光層を用いることもできる。正孔輸送性発光層を用いた場合には、陽極から正孔輸送性発光層に注入された正孔が電子輸送層によって閉じこめられるため、再結合効率が向上する。また、電子輸送性発光層を用いた場合には、陰極から電子輸送性発光層に注入された電子が電子輸送性発光層に閉じこめられるため、正孔輸送性発光層を用いた場合と同様に再結合効率が向上する。
【００３８】
発光層６の材料としては、電圧印加時に陽極側から正孔を、また、陰極側から電子を注入できること、注入された電荷、すなわち正孔及び電子を移動させ、正孔と電子が再結合する場を提供できること、発光効率が高いこと、等の条件を満たしている例えば低分子蛍光色素、蛍光性の高分子、金属錯体等の有機材料を使用することができる。
【００３９】
このような材料としては、例えばアントラセン、ナフタリン、フェナントレン、ピレン、クリセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体、ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、トリ（ジベンゾイルメチル）フェナントロリンユーロピウム錯体、ジトルイルビニルビフェニル等を挙げることができる。
【００４０】
正孔輸送層７は、陽極である第２電極８から注入された正孔を発光層まで輸送する。正孔輸送材料として使用可能な材料としては、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルメタン、ポルフィリン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキサゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、又はこれらの誘導体、並びにポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物、アニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマ、オリゴマ、ポリマ等が挙げられる。
【００４１】
具体的には、α−ナフチルフェニルジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、４，４’，４”−トリメチルトリフェニルアミン、４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル４，４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２，２’−チエニルピロール）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
陽極である第２電極８に用いる陽極材料としては、効率良くホールを注入するために電極材料の真空準位からの仕事関数が大きく、また、陽極側から有機電界発光を取り出せるように、透光性を有する材料を用いるのが好ましい。
【００４３】
具体的には、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ等が挙げられる。特に、生産性、制御性の観点からは、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を好ましく用いることができる。
【００４４】
しかしながら、陽極材料が酸素やインジウムを含んでいる場合、これらの酸素やインジウムが有機ＥＬ層１０と陽極との界面から有機ＥＬ層１０中に侵入・拡散する虞がある。そして、酸素やインジウムが有機ＥＬ層１０中に侵入・拡散した場合、この酸素やインジウムにより有機ＥＬ層１０が劣化し、これに起因して発光特性の低下や耐久性の低下が生じる虞がある。したがって、陽極を構成する陽極材料中には、極力、酸素やインジウムが含まれていないことがより好ましい。
【００４５】
このような条件を満たす陽極材料としては、窒化物を好適に用いることができる。ここで、窒化物とは、酸素やインジウムを含まない窒素化合物をいう。
【００４６】
陽極材料として窒化物を用いることにより、陽極材料中に酸素やインジウムが存在しないため、上述したように、陽極材料中の酸素やインジウムが有機ＥＬ層１０と陽極との界面から有機ＥＬ層１０中に侵入・拡散する虞がない。そして、陽極材料中の酸素やインジウムが有機ＥＬ層１０に侵入・拡散して、有機ＥＬ層１０を劣化させるという現象が生じないため、この有機ＥＬ層１０の劣化に起因して、発光特性の低下や耐久性の低下が生じることがない。すなわち、陽極材料として窒化物を用いることにより、陽極材料中の酸素やインジウムに起因して発光特性の低下や耐久性の低下が生じることが無くなるため、発光特性及び耐久性に優れた有機ＥＬ素子を実現することができる。
【００４７】
このような陽極材料として用いることができる窒化物としては、例えばＴｉＮが挙げられが、これに限定されることはなく、電極材料の真空準位からの仕事関数が大きく、透光性を有する材料であれば何れの材料も用いることが可能である。
【００４８】
ここで、上述したＴｉＮを陽極として用いる場合には、ＴｉＮの厚みは、３μｍ以上１０μｍ以下とすることが好ましい。これは、ＴｉＮの厚みが３μｍ未満の場合、厚みが薄すぎるために陽極として十分に機能しなくなるからである。また、ＴｉＮの厚みが１０μｍよりも厚い場合には、可視光の透過率が悪くなり、実用に適さなくなるからである。
【００４９】
保護層９は、有機ＥＬ素子１の駆動の信頼性を確保するため、また、有機ＥＬ素子１の劣化を防止するために、有機ＥＬ素子１を封止し、酸素や水分を遮断する作用をするものである。保護層９に用いられる材料としては、気密性を保つことが可能であり、また、発光層６で発生した発光が透過可能な金属単体、若しくはその合金等を適宜選択して用いることができる。
【００５０】
具体的には、アルミニウム、金、クロム、ニオブ、タンタル、チタン、酸化シリコン等を挙げることができる。
【００５１】
また、上述した有機ＥＬ素子１を構成する各層は、それぞれが複数層からなる積層構造とされていても良い。
【００５２】
以上のように構成された有機ＥＬ素子１は、上述したように基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、酸素や水蒸気等が基板を透過することを防止することができる。すなわち、この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、有機ＥＬ素子１の外部の酸素や水蒸気等が基板を透過して有機ＥＬ素子１内に侵入することを防止することができる。したがって、この有機ＥＬ素子１は、有機ＥＬ素子１内の劣化に起因した発光特性や耐久性の劣化が防止され、発光特性に優れ、また、耐久性に優れた有機ＥＬ素子とされる。
【００５３】
また、この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、従来のガラス基板を用いた有機ＥＬ素子に比べて、大幅に軽量化することができる。これにより、当該有機ＥＬ素子１を用いて種々の機器を構成した場合、例えば大型ディスプレイ等を構成した場合においても、機器を軽量化することが可能となるため、機器設計の自由度を大きくすることが可能となる。
【００５４】
また、この有機ＥＬ素子１は、基板として良好な可撓性を有するフィルム状金属基板２を用いているため、有機ＥＬ素子１自体も良好な可撓性を有するものとされる。したがって、この有機ＥＬ素子１は、当該有機ＥＬ素子１を用いて種々の機器を構成した場合、例えばディスプレイ等を構成した場合において、種々の使用形態に対応可能とされる。
【００５５】
そして、この有機ＥＬ素子１は、基板として落下等の衝撃に対する耐衝撃性に優れるフィルム状金属基板２を用いているため、耐衝撃性を大幅に向上させることができる。
【００５６】
さらに、この有機ＥＬ素子１は、フィルム状金属基板２上に上述した各層が直接成膜されることにより形成されているため、生産性に優れたものとされる。すなわち、この有機ＥＬ素子１では、有機ＥＬ素子１を構成する各層は、フィルム状金属基板２以外の他の基板やシート等の上に形成された後、フィルム状金属基板２上に配されるのではなく、フィルム状金属基板２上に直接上述した各層を成膜して形成されるため、生産工程が簡便であり、生産効率の良いものとされている。また、この有機ＥＬ素子１は、フィルム状金属基板２上に上述した各層が直接成膜されるため、フィルム状金属基板２以外に他の支持体等を使用することがなく、コスト的にも優れたものとされる。
【００５７】
以上のように構成された有機ＥＬ素子１は、陰極である第１電極４と陽極である第２電極８との間に直流電圧を選択的に印可することにより、陽極である第２電極８から注入された正孔が正孔輸送層７を経て、また陰極である第１電極４から注入された電子が電子輸送層５を経て移動し、それぞれ発光層６に到達する。その結果、発光層においては、電子と正孔との再結合が生じ、ここから所定の波長で発光が生じる。また、発光層６の材料を選択することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの三色を発光するフルカラー用、マルチカラー用の有機ＥＬ素子とすることができる。この有機ＥＬ素子１は、例えばディスプレイ用として用いることができるが、その他にも光源等としても使用可能であり、種々の光学的用途等に用いることが可能である。
【００５８】
以上のように構成された有機ＥＬ素子１は、例えば次にようにして作製することができる。
【００５９】
まず、基板として例えば厚み５０μｍのステンレスからなるフィルム状金属基板２を準備し、このフィルム状金属基板２の主面上に絶縁層３として例えばＳｉＯ₂膜を真空蒸着法により成膜する。
【００６０】
次に、上記のように形成された絶縁層３上に、陰極である第１電極４として例えばＡｌＴｉ膜を１００ｎｍの厚みにスパッタリングにより成膜する。
【００６１】
次に、上述した陰極である第１電極上４に、有機ＥＬ層１０を形成する。有機ＥＬ層１０は、電子輸送層５、発光層６、及び正孔輸送層７をこの順に真空蒸着法により成膜することで形成する。ここで、電子輸送層５は、例えばＡｌｑ₃を成膜することにより形成する。また、発光層６は、例えばα−ＮＰＤを成膜することにより形成する。そして、正孔輸送層７は、例えばｍ−ＭＴＤＡＴＡを成膜することにより形成する。そして、有機ＥＬ層１０の厚みは、例えば１５０ｎｍとする。
【００６２】
さらに、上記のように形成された有機ＥＬ層１０上に、陽極である第２電極８として例えばＴｉＮ膜を１０ｎｍの厚みに反応性ＤＣスパッタリングにより成膜する。
【００６３】
最後に、上記において形成した各層を覆うように例えばＳｉＮからなる厚み１０００ｎｍの保護層９をスパッタリングにより形成することにより有機ＥＬ素子１を作製することができる。
【００６４】
次に、本発明を適用した有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置と呼ぶ。）について説明する。
【００６５】
図２及び図３は、本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の構成を示した概略斜視図である。図２は、この有機ＥＬ表示装置１１を使用する状態、すなわち画面に表示を行う状態を示している。そして、図３は、この有機ＥＬ表示装置１１を収納した状態を示している。この有機ＥＬ表示装置１１は、画面部１２と、画面部１２の一側端部に配され、画面部１２の駆動制御を行う駆動回路、有機ＥＬ表示装置１１全体に電源を供給する電源回路、表示信号を受信する信号処理回路等が収納された回路収納部１３と、回路収納部１３を略中心としてそのまわりに配され、画面部１２を収納する円筒状の画面収納部１４とを備えて構成されている。
【００６６】
画面部１２は、可撓性を有する基板上に有機ＥＬ素子が多数形成されて構成された画素部２１と、各有機ＥＬ素子を駆動するために各有機ＥＬ素子と各駆動回路とを接続し、縦配線２２と横配線２３とからなる配線２７が配された配線部２８とを備えている。図４に、この有機ＥＬ表示装置１１を使用する状態、すなわち、画面部１２が収納部より引き出された状態の平面図を示す。回路収納部１３は、図４においては図示されていないが、画面収納部１４の中心部に画面収納部１４の長手方向と平行に収納されている。また、ここでは、説明の便宜上、画面部１２における回路収納部１３と対向した辺を第１の辺２４、回路収納部１３及び第１の辺２４と直交する２つの辺をそれぞれ第２の辺２５、及び第３の辺２６と呼ぶこととする。
【００６７】
画素部２１は、有機ＥＬ素子をマトリックス状に多数配列することにより形成されている。ここで、この有機ＥＬ表示装置１１では、有機ＥＬ表示として、上述した有機ＥＬ素子１を用いている。図５に有機ＥＬ素子の構成を示す要部斜視図を示す。すなわち、この画素部２１は、図５に示すようにフィルム状金属基板２上に絶縁層３が設けられ、その上にストライプ状（帯状）に陰極である第１電極４が複数設けられ、その上に電子輸送層５と発光層６と正孔輸送層７とが積層されてなるシート状の有機ＥＬ層１０が設けられている。そして、さらに陰極である第１電極４と直交するようにしてストライプ状（帯状）の陽極である第２電極８が複数設けられ、その上に保護層９が設けられて構成されたもので、陰極である第１電極４と陽極である第２電極８とが交差する位置に有機ＥＬ素子１が形成されている。
【００６８】
画素部２１は、上述したような有機ＥＬ素子１により構成されており、有機ＥＬ素子１の基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、酸素や水蒸気等が基板を透過することを防止することができる。すなわち、この有機ＥＬ素子１では、基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、有機ＥＬ素子１の外部の酸素や水蒸気等が基板を透過して有機ＥＬ素子１内に侵入することを防止することができる。有機ＥＬ素子では、有機ＥＬ素子の外部から酸素や水蒸気等が有機ＥＬ素子内に侵入すると、これらにより有機ＥＬ素子を構成する各層、特に有機ＥＬ層が劣化してしまう。しかしながら、この有機ＥＬ素子１では基板としてフィルム状金属基板２を用いることにより基板を透過して酸素や水蒸気等が有機ＥＬ素子１内に侵入することが防止されるため、外部から基板を透過して侵入した酸素や水蒸気等により、有機ＥＬ素子１を構成する各層、特に有機ＥＬ層１０が劣化することを防止することができる。したがって、画素部２１は、画素部２１を構成する有機ＥＬ素子１内の劣化に起因した発光特性や耐久性の劣化が防止され、発光特性に優れ、また、耐久性に優れた画素部とされる。
【００６９】
また、この画素部２１は、画素部２１を構成する有機ＥＬ素子１の基板としてフィルム状金属基板２を用いているため、従来のガラス基板を用いた有機ＥＬ素子を用いた場合と比較して大幅に軽量化される。
【００７０】
そして、この画素部２１は、画素部２１を構成する有機ＥＬ素子１の基板として良好な可撓性を有するフィルム状金属基板２を用いているため、有機ＥＬ素子１自体も良好な可撓性を有するものとされる。そして、この有機ＥＬ素子１の可撓性により画素部２１に可撓性を付加することが可能となり、本発明に係る有機ＥＬ表示装置１１の特徴である画面部１２の巻回収納が可能される。
【００７１】
さらに、この画素部２１は、画素部２１を構成する有機ＥＬ素子１の基板として落下等の衝撃に対する耐衝撃性に優れるフィルム状金属基板２を用いているため、耐衝撃性を大幅に向上させることができる。そのため、有機ＥＬ表示装置１１の耐衝撃性を大幅に向上させることが可能とされる。
【００７２】
また、画素部２１では、フィルム状金属基板２上に有機ＥＬ素子１を構成する各層が直接成膜されることにより形成されているため、生産性に優れたものとされる。すなわち、この画素部２１では、有機ＥＬ素子１を構成する各層が、フィルム状金属基板２以外の他の基板やシート等の上に形成された後、フィルム状金属基板２上に配されるのではなく、フィルム状金属基板２上に直接上述した各層を成膜して形成されるため、生産工程が簡便であり、生産効率の良いものとされている。また、この画素部２１では、有機ＥＬ素子１がフィルム状金属基板２上に有機ＥＬ素子１を構成する各層が直接成膜されるため、フィルム状金属基板２以外に他の支持体等を使用することがなく、コスト的にも優れたものとされる。
【００７３】
以上のように構成された画素部２１は、有機ＥＬ素子１の陰極である第１電極４と陽極である第２電極８との間に直流電圧を選択的に印可することにより、陰極である第１電極４から注入された電子が電子輸送層５を経て、また陽極である第２電極８から注入された正孔が正孔輸送層７を経て移動し、それぞれ発光層６に到達する。その結果、発光層６においては、電子と正孔との再結合が生じ、ここから所定の波長で発光が生じる。また、発光層６の材料を選択することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの三色を発光するフルカラー用、マルチカラー用の画素部とすることができる。
【００７４】
配線部２８は、有機ＥＬ素子１の陽極である第２電極８とから引き出された縦配線２２と、陰極である第１電極４から引き出された横配線２３との２種類の配線により構成された配線２７が配されている。
【００７５】
縦配線２２は、陽極である第２電極８より引き出され、画素部２１上において回路収納部１３と直交する方向、すなわち、回路収納部１３と第１の辺２４とに略垂直な方向に配されている。そして、縦配線２２は、図４に示すように、画素部２１からそのまま直線状に回路収納部１３まで配され、各有機ＥＬ素子１と輝度信号回路（図示せず）とを接続している。
【００７６】
また、横配線２３は、陰極である第１電極４より引き出され、画素部２１上において回路収納部１３と平行な方向、すなわち、第２の辺２５と第３の辺２６とに略垂直な方向に引き出され、回路収納部１３まで配される。すなわち、横配線２３は、まず、画面部１２上において第２の辺２５又は第３の辺２６側の画素部２１から外れた位置に陰極である第１電極４より引き出され、さらに縦配線２２と平行な方向に屈曲させられることにより、直線状に回路収納部１３まで配され、各有機ＥＬ素子１と走査回路（図示せず）とを接続している。
【００７７】
図４では、横配線２３は、第２の辺２５側と第３の辺２６側との両方向に引き出されている。このように画素部２１を画素部を画面部の第１の辺２４と平行な方向において、略中心部に配置し、横配線２３を第２の辺２５側と第３の辺２６側との両方向に引き出すことにより、画素部２１を画面部１２の第１の辺２４と平行な方向において、略中心部に配置することができる。また、画素部２１の位置を画面部１２の第１の辺２４と平行な方向において調整したい場合は、画素部２１を所望の位置に配置し、第２の辺２５側と第３の辺２６側とで画素部２１からの横配線２３の引き出し長さを調整すれば良い。そして、横配線２３は、必ずしも第２の辺２５側と第３の辺２６側との両方向に引き出す必要はなく、画素部２１を画面部１２の第１の辺２４と平行な方向において第２の辺２５側又は第３の辺２６側の一方に偏った配置とする場合には、画素部２１を所望の位置に配置し、横配線２３を第２の辺２５側又は第３の辺２６側のどちらか一方のみに引き出せば良い。
【００７８】
また、縦配線２２及び横配線２３の材料としては、例えばＡｕ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｃｕ等の比抵抗率が低く、安定性に優れた材料が挙げられる。
【００７９】
以上のように構成された画面部１２は、画面部１２の基板と、画素部２１の基板、すなわち画素部２１を構成する有機ＥＬ素子１の基板とは兼用されており、可撓性を有する基板が用いられている。画面部１２の基板として、可撓性を有する基板を用いることにより、画面部１２に可撓性を付与することが可能となる。そして、画面部１２に可撓性が付与されることにより、画面部１２を折曲して巻回することが可能とされ、その結果、画面部１２を巻回収納することが可能とされる。
【００８０】
このような可撓性を有し、且つ、画面部１２の基板として十分な機械的強度及び巻回するための十分な曲げ強度を有するものとして、有機ＥＬ表示装置１１ではフィルム状金属基板を用いている。フィルム状金属基板は、良好な可撓性を有し、且つ画面部１２の基板としても十分な機械的強度及び巻回するための十分な曲げ強度を有するため、この主面上に有機ＥＬ素子や配線等を配することにより、画面部１２に可撓性を付与することができ、画面部１２を折曲して巻回することを可能とするため、画面部１２を巻回収納可能とすることができる。
【００８１】
したがって、可撓性を有する基板を用いることにより、従来のガラス基板を用いた場合には、不可能であった画面部１２の巻回収納が可能とされる。そして、従来のガラス基板を用いた場合には、有機ＥＬ表示装置１１の平面上の大きさ、すなわち、画面部１２と平行な面においての大きさは、ほぼ画面部１２の大きさにより決まってしまっていた。これは、画面部１２の基板として、ガラス基板を用いているため、ガラス基板の特性上、画面部１２に可撓性を付与することができなかった。すなわち、画面部１２が可撓性を有していないため、画面部１２を折り畳んだり、巻回したりして画面部１２の面積を縮小することができなかった。
【００８２】
しかしながら、この有機ＥＬ表示装置１１では、画面部１２の基板として可撓性を有する基板を用いているため、画面部１２を巻回し、画面部１２の面積を縮小することが可能とされる。その結果、画面部１２全体を収納することが可能となる。
【００８３】
回路収納部１３は、画面部１２の一側端部に配され、有機ＥＬ素子の輝度の制御を行う輝度信号回路や有機ＥＬ素子の走査駆動を制御する走査回路等の画面部１２の駆動制御を行う駆動回路、有機ＥＬ表示装置１１全体に電源を供給する電源回路、表示信号を受信する信号処理回路等が収納されている。また、回路収納部１３は、回路類を回路収納ケースで覆うことにより構成されている。回路収納ケースは、回路類を保護し、また、画面部１２を巻回収納する際の軸となるものである。回路収納ケースの形状は、円筒形とされることが好ましい。これは、画面部１２を巻回収納する際に、画面部１２表面に傷を付けたり、不均一な応力がかからないようにするためである。また、画面部１２を巻回収納する際の軸としての機能を考慮した場合、回路収納ケース３１の直径又は太さは、画面部１２の基板の材質、機械的強度等を考慮して所定の寸法とすることが好ましい。
【００８４】
画面収納部１４は、画面部１２を巻回収納する部分であり、図３に示すように回路収納ケースを略中心として回路収納ケースを覆うように円筒状の画面収納ケース３１を配することにより構成されている。ここで、画面収納ケースには、図６に示すように、その長手方向に沿って画面部１２の厚みよりもやや大とされた幅を有する開口部３２が設けられている。当該開口部３２を設けることにより、画面部１２を収納又は引き出す場合には、この開口部３２より画面部１２が出入可能とされる。
【００８５】
そして、画面部１２の回路収納部１３が設けられた辺と対向する一辺、すなわち第１の辺２４の端部には、図７に示すように画面収納ケース３２に設けられた開口部３１の幅よりもやや大とされた幅を有するストッパー３３を設けておく。画面部１２の回路収納部１３が設けられた辺と対向する一辺、すなわち第１の辺２４の端部にストッパー３３を設けることにより、画面部１２が全て画面収納ケース３１に入り込んでしまい。画面部１２が引き出せなくなる不具合を防止することができる。図８にストッパー３３を備えた有機ＥＬ表示装置１１を巻回収納した状態の斜視図を示す。ストッパー３３は、画面部１２の回路収納部１３が設けられた辺と対向する一辺、すなわち第１の辺２４の端部全域に設ける必要はなく、画面部１２を巻回収納した際に、画面部１２全体が画面収納ケース３１に入り込むことを防止することができる大きさで設けられれば良い。
【００８６】
また、本発明においては、画面収納ケース３１の形状は円筒状に限定されることはない。有機ＥＬ表示装置を巻回収納した際に、机上等に載置したときの安定性を考慮した場合には、外周部に少なくとも平坦な一主面を有する形状とされれば良く、例えば立方体とされても良い。
【００８７】
ここで、画面部１２を巻回収納する方法としては、例えば回路収納ケースの長手方向の両端を画面収納ケース３１の長手方向の両端から突出するように構成し、この突出した回路収納ケースの両端を回転させることにより画面部１２を画面収納ケース３１内に巻回収納するようにすれば良い。そして、画面部１２を画面収納ケース３１から引き出すときは、画面部１２の回路収納部１３が設けられた辺と対向する一辺、すなわち第１の辺２４の端部に設けられたストッパー３３又は画面収納ケース３１から突出している画面部１２の一側端部を持ち、引っ張れば良い。
【００８８】
また、上記においては、手動で画面部１２を巻回収納する場合について説明したが、画面収納ケース３１内に、画面部１２巻き取り機構を備えて、自動で画面部１２を巻回収納するようにしても良い。
【００８９】
また、上記においては、有機ＥＬ表示装置１１が画面収納ケース３１を備えて、画面部１２が画面収納ケース３１内に収納される場合について説明したが、本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、必ずしも画面収納ケースを備えてる必要はない。
【００９０】
すなわち、例えば、画面収納ケースを設けずに、回路収納ケースを軸として画面部１２を巻回収納しても良い。この場合は、画面部１２の一主面、すなわち、画面部において画像等が表示される主面とは反対側の主面に、保護シートを配しておくことが好ましい。保護シートを配することにより、巻回収納した際に画面部１２に傷等が付くことを防止することができる。また、撥水性を有する保護シートを用いることにより、巻回収納した際に有機ＥＬ表示装置を外部の水分から保護することができる。
【００９１】
また、画面収納ケースを設けない場合には、画面部１２を巻回収納した状態に保持する手段を設けることが好ましい。例えば、単にバンド等により巻回収納した画面部１２が広がらないようにしても良い。また、巻回収納した際に、最外周に位置する画面部１２の所定の位置とそれに対応する位置とを、図９に示すようにマジックテープ３４により係止するようにしても良いし、図１０に示すようにホック３５により掛止するようにしても良い。また、有機ＥＬ表示装置を巻回収納した状態で、図１１に示すように、その長手方向の両端面を覆うようにキャップ３６をはめることにより画面部１２を巻回収納した状態に保持しても良い。このようにキャップ３６をはめることにより、画面部１２を巻回収納した状態に保持するとともに、巻回収納された有機ＥＬ表示装置１１の長手方向の両端面を保護することができる。
【００９２】
以上のように構成された有機ＥＬ表示装置１１は、走査回路及び輝度信号回路によって陰極である第１電極４と陽極である第２電極８との交差位置における有機ＥＬ層１０に時系列に信号電圧を印加することにより有機ＥＬ層１０が発光することにより所定の画像を表示する。
【００９３】
以上のように構成された有機ＥＬ表示装置１１は、画面部１２が可撓性を有することにより巻回収納可能とされる。すなわち、有機ＥＬ表示装置１１は、画面部１２が巻回収納可能とされるため、有機ＥＬ表示装置自体の大きさを回路収納部１３と略同等の大きさとすることが可能となり、有機ＥＬ表示装置の収納性・携帯性に優れた有機ＥＬ表示装置とされる。そして、この有機ＥＬ表示装置１１においては、画面を大型化した場合においても、回路収納部１３と略同等の大きさに巻回収納することが可能とされるため、画面の大型化が可能であり、且つ収納性・携帯性に優れた有機ＥＬ表示装置とされる。
【００９４】
また、上述した有機ＥＬ表示装置１１において、画素部２１は図１２に示すように構成されても良い。図１２は、有機ＥＬ表示装置１１に形成する有機ＥＬ素子１の他の例である。図１２に示す画素部２１は、フィルム状金属基板２上に絶縁層３が設けられ、その上にストライプ状（帯状）の陰極である第１電極４が設けられ、その上に電子輸送層５と発光層６と正孔輸送層７とからなるストライプ状の有機ＥＬ層１０ａ、１０ｂ、１０ｃ陰極である第１電極４と直交した状態に設けられ、さらにこれらのストライプ状（帯状）の有機ＥＬ層１０ａ、１０ｂ、１０ｃ上に、それぞれと略同寸法を有するストライプ状（帯状）の陽極である第２電極８が設けられた構成となっている。ここで、有機ＥＬ層１０ａ、１０ｂ、１０ｃは、それぞれ、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に対応する発光特性を有しており、これにより画素部２１は、フルカラー又はマルチカラーの表示が可能とされる。
【００９５】
以上のように構成された有機ＥＬ表示装置１１は、例えば以下のようにして作製することができる。
【００９６】
まず、フィルム状金属基板４１上に、絶縁材料を塗布して絶縁層４２を形成する。
【００９７】
次に、絶縁層４２上に陰極である第１電極４３膜を成膜し、これをパターニングすることにより図１３に示すようなストライプ状の陰極、すなわち第１電極４３を形成する。
【００９８】
次に、上記において形成したストライプ状の第１電極４３を覆った状態に第１電極４３上に絶縁材料を塗布して絶縁膜を成膜し、さらにこれをパターニングすることにより図１４に示すように、陰極である第１電極４３上に開口部４４を有する絶縁層４５を形成する。
【００９９】
次に、真空蒸着法により陰極である第１電極４３上の全面に有機ＥＬ層用の有機材料を成膜し、これにより図１５に示すように絶縁層４５上を覆うとともに、上述した開口部４４内においては、陰極である第１電極４３上面に当接する有機ＥＬ層４６を形成する。ここで、有機ＥＬ層４６は、例えば電子輸送層、発光層、及び正孔輸送層をこの順に真空蒸着により成膜することにより形成する。
【０１００】
その後、有機ＥＬ層４６をマスクを用いてパターニングし、図１６に示すように陽極に直交するストライプ状の陽極である第２電極４７、及び有機ＥＬ層４６を積層した状態で並列して形成する。そして、陽極である第２電極４７を覆って絶縁層等を形成することにより有機ＥＬ素子を用いた画面部を得ることができる。
【０１０１】
次いで、上記において作製した画面部の所定の一側端部、具体的には、陰極である第１電極４３が形作るストライプと平行な一辺の側端部に例えば輝度信号回路、走査回路、電源回路等の回路を上述した一辺に沿って配置する。
【０１０２】
次いで、各有機ＥＬ素子と各回路との接続に関して説明する。ここで、図４における配線部２８には、図１７に示すようにマスクによるパターニングにより予め配線２７、すなわち縦配線２２及び横配線２３が形成されており、上記において陰極である第１電極４３を形成することにより、陰極である第１電極４３と縦配線２２とはつながった状態とされている。
【０１０３】
また、上記において絶縁層４５、有機ＥＬ層４６を形成した後に、陽極である第２電極４７を形成するが、陽極である第２電極４７は図１８に示すように横配線２３と重なる部分ができるように画素部２１よりやや広い領域においてマスクによりパターニングし形成する。このことにより、予め形成された横配線２３と陽極である第２電極４７が接合される。このようにして、陰極である第１電極４３から縦配線２２を、陽極である第２電極４７から横配線２３を引き出す。
【０１０４】
次いで、上記において形成した縦配線２２を例えば輝度信号回路に、また、横配線２３を例えば走査回路に接続することにより、各有機ＥＬと回路とを接続することができる。
【０１０５】
次いで、輝度信号回路や走査回路等の回路類を回路収納ケースで覆う。
【０１０６】
最後に、回路収納ケースを略中心として回路収納ケースを覆うように円筒状の画面収納ケースを取り付けることにより、図２に示すような有機ＥＬ表示装置１１を得ることができる。
【０１０７】
【発明の効果】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子（以下有機ＥＬ素子と呼ぶ。）装置は、略矩形状に形成された厚みが５０μｍ以上５００μｍ以下のフィルム状のステンレス基板上に、厚みが５００μｍ以下の窒化ケイ素又は窒化アルミニウムからなる絶縁層と、第１電極と、有機化合物からなる発光材料を有する有機エレクトロルミネッセンス層と、厚みが３μｍ以上１０μｍ以下のＴｉＮからなる第２電極とをこの順で備え、第２電極が、透光性を有する電極であり、絶縁層と、第１電極と、有機エレクトロルミネッセンス層と、第２電極とを備える構造体がステンレス基板上に直接形成されてなる。本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、この有機ＥＬ素子は、画面部と、画面部を駆動する回路部と、画面部及び回路部を収納する収納部とを備え、画面部は上記有機ＥＬ素子と、有機ＥＬ素子と回路部とを接続する配線と、ステンレス基板の第１電極が形成されている側とは反対側の面に形成された撥水性を有する保護シートと、該画面部の巻回状態を保持する保持手段とを有する。これにより、画面部を巻回した際に、保護シートにより画面部に傷が付くのを防止でき、水分からも保護され、保持手段により巻回状態が保持される。
また、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、画面部の一側端部に沿って回路部が設けられ、画面部と回路部とを電気的に接続する配線が特定の方向に配されていることによって、画面部を回路部が配された一側端部と直交する方向に巻回して収納することができる。
【０１０８】
有機ＥＬ素子は、基板として金属フィルムが用いられているため、酸素や水蒸気等が基板を透過して有機ＥＬ素子内に侵入・拡散することにより有機ＥＬ素子内部が劣化することを防止することができる。これにより、この有機ＥＬ素子では、基板を透過した酸素や水蒸気等による有機ＥＬ素子内の劣化に起因した発光特性や耐久性の劣化が防止され、発光特性及び耐久性を向上させることが可能である。
【０１０９】
また、有機ＥＬ素子は、基板としてフィルム状金属基板を用いているため、従来のガラス基板を用いた有機ＥＬ素子と比較して大幅に軽量化することが可能であり、当該有機ＥＬ素子を用いて種々の機器を構成した場合において、機器を軽量化することが可能となるため、機器設計の自由度を大きくすることができる。
【０１１０】
また、有機ＥＬ素子は、可撓性を有する基板であるフィルム状金属基板を用いているため、良好な可撓性を有するものとされ、当該有機ＥＬ素子を用いて種々の機器を構成した場合において、丸めて収納することが可能となるなど種々の使用形態をとることが可能となる。
【０１１１】
また、有機ＥＬ素子は、落下等の衝撃に対する耐衝撃性に優れるフィルム状金属基板を用いているため、耐衝撃性を大幅に向上させることができる。
【０１１２】
そして、有機ＥＬ素子では、当該有機ＥＬ素子を構成する構造体が基板上に直接成膜されて素子を形成しているため、素子の厚みが薄いものとされ、当該有機ＥＬ素子を用いて機器を構成する際に機器の小型化が可能となるため機器構成の自由度を大きくすることができる。
【０１１３】
さらに、有機ＥＬ素子では、多層薄膜が基板上に直接成膜されて素子が形成されているため、有機ＥＬ素子作製の工程が簡便なものとされ、生産効率に優れたものとされる。
【０１１４】
また、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置と呼ぶ。）は、画面部と当該画面部を駆動する回路部とを備え、画面部は、フィルム状金属基板上に形成された有機エレクトロルミネッセンス素子と当該有機エレクトロルミネッセンス素子と上記回路部とを接続する配線とを有し、巻回収納可能とされてなるものである。
【０１１５】
本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、その画面部が、上述した本発明に係る有機ＥＬ素子であり、可撓性を有するフィルム状金属基板上に形成された有機ＥＬ素子を備えて構成されている。これにより、画面部は、可撓性を有することとなり、この可撓性により画面部は巻回収納することが可能となる。
【０１１６】
また、本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、上述した本発明に係る有機ＥＬ素子を備えていることより、軽量、且つ、発光特性及び耐久性に優れたものとされる。
【０１１７】
そして、この有機ＥＬ表示装置では、画面部を構成する有機ＥＬ素子が基板上に直接成膜されて素子を形成している。したがって、この有機ＥＬ素子は、素子の厚みが薄いものとされる。そして、有機ＥＬ素子の厚みが薄くなることにより、画面部の厚みを薄くすることができるため、この有機ＥＬ表示装置は種々の使用形態に対応することが可能となる。
【０１１８】
さらに、この有機ＥＬ表示装置では、有機ＥＬ素子を構成する際に多層薄膜が基板上に直接成膜されるため、製造工程が簡便なものとされ、生産効率に優れたものとされる。
【０１１９】
したがって、本発明によれば、良好な可撓性を備え、且つ発光特性及び耐久性に優れた有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ表示装置を提供するすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した有機ＥＬ素子の一構成例を示す縦断面図である。
【図２】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を使用する状態を示した概略斜視図である。
【図３】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収納した状態を示す概略斜視図である。
【図４】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の画面部が収納部より引き出された状態を示す平面図である。
【図５】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置に備えられた有機ＥＬ素子の構成を示す要部斜視である。
【図６】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置に備えられた画面収納ケースの斜視図である。
【図７】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の画面部の一側端部にストッパーが配された状態を示す斜視図である。
【図８】画面部の一側端部にストッパーが配された本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収納した状態を示す斜視図である。
【図９】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収納した状態に保持する手段としてマジックテープを配した状態を示す斜視図である。
【図１０】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収納した状態に保持する手段としてホックを配した状態を示す斜視図である。
【図１１】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置を巻回収納した状態に保持する手段としてキャップを配した状態を示す斜視図である。
【図１２】有機ＥＬ素子の一構成例を示す要部斜視図である。
【図１３】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す縦断面図である。
【図１４】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す縦断面図である。
【図１５】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す縦断面図である。
【図１６】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す縦断面図である。
【図１７】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す平面図である。
【図１８】本発明を適用した有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す平面図である。
【符号の説明】
１有機ＥＬ素子、２フィルム状金属基板、３絶縁層、４第１電極、５電子輸送層、６発光層、７正孔輸送層、８第２電極、９保護層、１０有機ＥＬ層、１１有機ＥＬ表示装置、１２画面部、１３回路収納部、１４画面収納部、２１画素部、２２縦配線、２３横配線、３１画面収納ケース、３２開口部、３３ストッパー、３４マジックテープ、３５ホック、３６キャップ

Claims

略矩形状に形成された画面部と、当該画面部を駆動する回路部と、上記画面部と上記回路部とを収納可能な収納部とを備え、
上記画面部は、略矩形状に形成された厚みが５０μｍ以上５００μｍ以下のフィルム状のステンレス基板上に、厚みが５００μｍ以下の窒化ケイ素又は窒化アルミニウムからなる絶縁層と第１電極と有機化合物からなる発光材料を有する有機エレクトロルミネッセンス層と厚みが３μｍ以上１０μｍ以下のＴｉＮからなる第２電極とをこの順で備える当該有機エレクトロルミネッセンス素子と、該有機エレクトロルミネッセンス素子と上記回路部とを接続する配線と、上記ステンレス基板の第１電極が形成されている側とは反対側の面に形成された撥水性を有する保護シートと、該画面部の巻回状態を保持する保持手段とを有し、上記収納部に巻回収納可能とされてなり、
上記絶縁層と、上記第１電極と、上記有機エレクトロルミネッセンス層と、上記第２電極とを備える構造体が上記ステンレス基板上に直接形成されてなり、
上記画面部の一側端部に沿って上記回路部が設けられ、
上記エレクトロルミネッセンス素子と上記回路部とが、上記画面部の一側端部と対向する第１の辺と略直交する第２の辺及び第３の辺と平行に直線状に配され、上記エレクトロルミネッセンス素子の陽極と電気的に接続された縦配線と、上記エレクトロルミネッセンス素子から上記第２の辺及び第３の辺に向かって上記第１の辺に平行に直線状に引き出され、上記第１の辺と略直交する方向に折曲げられ、上記第２の辺及び第３の辺に平行に直線状に配され、上記エレクトロルミネッセンス素子の陰極と電気的に接続された横配線とによって電気的に接続され、
上記画面部は、上記保護シートを外側にして上記回路部が配された一側端部と直交する方向に巻回され、巻回した最外周側の端部を上記保持手段で保持し、巻回状態を維持して上記収納部に収納可能とされてなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置。